專利名稱：氣浮磁控精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種精密運(yùn)動(dòng)控制裝置，尤其涉及一種可精確控制平面運(yùn)動(dòng)的 氣浮磁控精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)。
背景技術(shù)：
隨著科學(xué)技術(shù)和工業(yè)技術(shù)的不斷發(fā)展，人類的創(chuàng)造力也不斷在向微觀世界 發(fā)展。隨著現(xiàn)今微加工工藝發(fā)展，使得我們周邊越來越多笨重的機(jī)器被小巧而 方便的裝置所代替。然而在微加工工藝中隨著制作器件的尺寸越來越小，精密定位操作系統(tǒng)顯得越來越重要。例如在IC芯片光刻、微型機(jī)械制造、精密測(cè)量等方面，精密運(yùn)動(dòng)控制裝置的地位顯得尤為突出。因此，對(duì)它的研究越來越受 到國內(nèi)外研究者的青睞。傳統(tǒng)的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)采用層疊式導(dǎo)軌結(jié)構(gòu)，定子與動(dòng)子之間通過機(jī)械軸承連接， 因此動(dòng)子運(yùn)動(dòng)過程中存在機(jī)械摩擦。機(jī)械摩擦不僅增加動(dòng)子的摩擦阻力，使運(yùn) 動(dòng)部件產(chǎn)生磨損，產(chǎn)生機(jī)械振動(dòng)和噪聲，限制了平臺(tái)運(yùn)動(dòng)精度。另外，運(yùn)動(dòng)精 度受支撐面的影響，對(duì)支撐面的精度要求很高，這樣也無形增加了平臺(tái)制作成 本。同時(shí)，導(dǎo)軌驅(qū)動(dòng)的剛度、穩(wěn)定性、動(dòng)力學(xué)特性都影像著平臺(tái)的工作特性。 因此，傳統(tǒng)的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)越來越不滿足納米級(jí)別的超精密定位和加工的要求。對(duì)于超精密定位平臺(tái)技術(shù)，國內(nèi)外相關(guān)的研究機(jī)構(gòu)和商業(yè)公司都展開了廣 泛的探索和研究，并開發(fā)出了一些具有前沿性的技術(shù)產(chǎn)品和商業(yè)產(chǎn)品。在國內(nèi)的研究中，實(shí)用新型專利CN01202334.5公開了用于平面被精密定位 的微細(xì)操作平臺(tái)。該操作平臺(tái)由運(yùn)動(dòng)平臺(tái)、墊塊、下平臺(tái)、壓電陶資致動(dòng)器等 組成。由于采用了壓電陶瓷微驅(qū)動(dòng)器，保證了該平臺(tái)具有較高的運(yùn)動(dòng)精度，同 時(shí)由于各轉(zhuǎn)動(dòng)副均采用了柔性鉸鏈，保證了運(yùn)動(dòng)傳遞的連續(xù)性、無滯后、無摩 擦、免潤(rùn)滑、沒有機(jī)械損耗和機(jī)構(gòu)緊湊的特點(diǎn)。但是上述平臺(tái)無法實(shí)現(xiàn)在大行 程和高速度應(yīng)用場(chǎng)合下大道微米/納米定位精度。
發(fā)明專利CN200410026370.9^^開了一種》茲懸浮》茲驅(qū)動(dòng)的運(yùn)動(dòng)定位裝置，由 于采用永磁體和多層通電直流線圈之間排斥原理將動(dòng)子平臺(tái)懸浮起來，運(yùn)動(dòng)方 向沒有機(jī)械障礙，沒有摩擦。但是其磁浮產(chǎn)生的磁滯效應(yīng)會(huì)進(jìn)一步影響平臺(tái)的 運(yùn)動(dòng)精度，較難蠻子超密定位和運(yùn)動(dòng)要求，磁懸浮線圏產(chǎn)生的熱也會(huì)進(jìn)一步影 響平臺(tái)的動(dòng)力學(xué)性質(zhì)和定位精度。國外的相關(guān)專利有荷蘭ASML申請(qǐng)的美國專利us6054784;美國麻省理工學(xué) 院申請(qǐng)的美國專利us6003200; Nikon申請(qǐng)的美國專利us6750625。美國專利us6054784以微動(dòng)平臺(tái)的幾何中心為中心，在圓周方向呈120度等 間隔分布的三組直線電機(jī)，三組直線電機(jī)的永磁體定子作為一體安裝在孩i:動(dòng)動(dòng) 子平臺(tái)底部，三組直線電機(jī)的動(dòng)子線圏分別固定連接在微動(dòng)臺(tái)的定子底座上。 微動(dòng)平臺(tái)與其底座間靠電磁力作用，無直接的機(jī)械接觸。通過相互間的電磁力 作用，實(shí)現(xiàn)微動(dòng)平臺(tái)在x-y平面上對(duì)三個(gè)自由度(x, y和Rj的微調(diào)節(jié)。這種 平臺(tái)主要用于微定位，運(yùn)動(dòng)行程小。美國專利us6003200提出了另 一種磁浮磁驅(qū)動(dòng)的高精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)。它是將線 圈固定在定子平臺(tái)上，定子磁極安裝在動(dòng)子平臺(tái)上。該平臺(tái)可以實(shí)現(xiàn)6個(gè)方向 的微調(diào)，具有精度高，響應(yīng)速度快，并具有一定的運(yùn)動(dòng)行程。但這種平臺(tái)功效 比較低，發(fā)熱量大，長(zhǎng)時(shí)間工作會(huì)影響平臺(tái)的工作性能。美國專利us6750625專利，其結(jié)構(gòu)是將曝光臺(tái)固定在帶氣浮導(dǎo)4^的框架上， 并在氣浮導(dǎo)軌的框架上安裝上線圈，通過與臺(tái)下面的磁鐵發(fā)生作用，從而達(dá)到 驅(qū)動(dòng)框架，帶動(dòng)曝光臺(tái)運(yùn)動(dòng)的功能。其缺點(diǎn)是驅(qū)動(dòng)的質(zhì)量過大。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于提供一種氣浮磁控精度運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，可有效解決傳統(tǒng)運(yùn)動(dòng) 平臺(tái)機(jī)械摩擦引起的問題，以及其他平臺(tái)發(fā)熱量大問題，實(shí)現(xiàn)x， y, Rz,三個(gè)自 由度的平面精密運(yùn)動(dòng)和定位和多工位的大行程精密運(yùn)動(dòng)。為了達(dá)到上述的目的，本發(fā)明的氣浮磁控精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，它包括動(dòng)子平臺(tái)， 定子平臺(tái)，動(dòng)子推力線圈和定子永磁鐵陣列，x-y向反射鏡，x-y向反射鏡位于 動(dòng)子平臺(tái)頂部的兩側(cè),動(dòng)子平臺(tái)底部邊緣分布有氣浮孔，動(dòng)子平臺(tái)底部中心分布 有真空腔，動(dòng)子推力線圈位于動(dòng)子平臺(tái)底部?jī)?nèi)側(cè)，定子永磁鐵陣列固定于定子平臺(tái)，整個(gè)動(dòng)子平臺(tái)懸浮于定子平臺(tái)上，動(dòng)子推力線圈排列方式與定子永磁體 陣列相匹配。氣浮磁控精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的動(dòng)子平臺(tái)為一個(gè)，定子平臺(tái)也為一個(gè)，并與動(dòng)子 平臺(tái)相匹配。動(dòng)子平臺(tái)底部邊緣為圓形，底部?jī)?nèi)側(cè)分布有三組等圓周分布的動(dòng)子推力線圈。與動(dòng)子平臺(tái)相對(duì)應(yīng)的定子平臺(tái)的永^茲4^陣列也呈等圓周分布。.氣浮磁控精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的動(dòng)子平臺(tái)為多個(gè)，定子平臺(tái)為相同結(jié)構(gòu)定子單元 重復(fù)排列組成。動(dòng)子平臺(tái)的結(jié)構(gòu)均相同，每個(gè)動(dòng)子平臺(tái)的底部邊緣呈方形，底 部?jī)?nèi)側(cè)分布有控制x方向運(yùn)動(dòng)兩推力線圈和控制y方向運(yùn)動(dòng)的兩"t侏力線圈?？?制x方向運(yùn)動(dòng)兩推力線圈和控制y方向運(yùn)動(dòng)的兩推力線圈相對(duì)底部中心交叉排 列，呈"田，，字。定子平臺(tái)的每個(gè)定子單元的永磁鐵陣列的排布也呈"田，，字。 本發(fā)明利用氣浮支座產(chǎn)生氣浮力使動(dòng)子平臺(tái)懸浮在定子平臺(tái)上，避免了直 接的機(jī)械接觸，消除了相對(duì)運(yùn)動(dòng)引起的摩擦與磨損，克服了油脂、粉塵污染等 缺陷。真空支座預(yù)載及氣浮阻尼使氣浮升力和真空吸力相互平衡實(shí)現(xiàn)動(dòng)子平臺(tái) 穩(wěn)定的懸浮、快速響應(yīng)和高的控制精度。同時(shí)真空支座產(chǎn)生真空時(shí)，會(huì)有氣流 通過動(dòng)子平臺(tái)底部推力線圈，可對(duì)通過通電線圈實(shí)施有效的冷卻，避免線圈熱 對(duì)系統(tǒng)動(dòng)力學(xué)造成影響。本發(fā)明單動(dòng)子型平臺(tái)可實(shí)現(xiàn)平面內(nèi)微米/納米運(yùn)動(dòng)定位 精度。本發(fā)明多動(dòng)子型平臺(tái)可實(shí)現(xiàn)多工位的大行程的精密平面運(yùn)動(dòng)。


通過以下實(shí)施例并結(jié)合其附圖的描述，可以進(jìn)一步理解其發(fā)明的具體結(jié)構(gòu) 特征和優(yōu)點(diǎn)。其中，附圖為圖l是精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)示意圖。圖2是本發(fā)明的動(dòng)子平臺(tái)示意圖。圖3是本發(fā)明的定子平臺(tái)示意圖。圖4是大行程單定子多動(dòng)子精密定位的平臺(tái)示意圖。圖5是大行程運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的動(dòng)子平臺(tái)示意圖。圖6是大行程運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的定子平臺(tái)示意圖。
具體實(shí)施方式
圖1、 2、 3是本發(fā)明單動(dòng)子單定子型的氣浮磁控精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)。它主要運(yùn) 用于短行程運(yùn)動(dòng)，可以作超精密平面定位的微動(dòng)臺(tái)。圖4、 5、 6是本發(fā)明多動(dòng) 子單定子型的氣浮磁控精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)。它可作為并行多工位大行程精密運(yùn)動(dòng)平如圖1所示，本發(fā)明的單動(dòng)子單定子型精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)包括可懸浮的動(dòng)子平 臺(tái)1和定子平臺(tái)6。如圖2所示，單動(dòng)子平臺(tái)底部有三組等圓周均布的推力線 圈3,每組推力線圏3的排布方向均指向動(dòng)子平臺(tái)底部中心位置。動(dòng)子平臺(tái)1的 氣浮支座2是外環(huán)形結(jié)構(gòu)，外環(huán)形邊緣均勻分布著氣孔。真空支座4是圓形腔 結(jié)構(gòu)，分布在動(dòng)子平臺(tái)底部中心。
定子平臺(tái)6包括三組與動(dòng)子線圈3排列方式對(duì)應(yīng)的等圓周分布永礙鐵定子 陣列5。
氣浮支座2通過連接外部壓力泵使空氣通過氣浮孔產(chǎn)生浮力。真空支座4 所連接的外部真空泵抽取真空支座4中空氣，使其產(chǎn)生真空吸力。通過調(diào)整氣 浮支座2的氣浮力和真空支座4的真空吸引力使兩者處于動(dòng)態(tài)平衡，從而使動(dòng) 子平臺(tái)1懸浮于定子平臺(tái)6上。控制這兩個(gè)力的大小可實(shí)現(xiàn)與定子平臺(tái)6之間 5-10um的穩(wěn)定氣膜間隙和良好的氣浮剛度。這樣動(dòng)子平臺(tái)運(yùn)動(dòng)1的摩擦阻力可 以忽略，因此該動(dòng)子平臺(tái)具有反映速度快，可控精度高的特點(diǎn)。
動(dòng)子平臺(tái)1每一組的推力線圈3都嵌入對(duì)應(yīng)的定子平臺(tái)6的永磁鐵定子陣 列5的凹槽中。動(dòng)子平臺(tái)推力線圈3和永磁體定子陣列5間產(chǎn)生的電磁作用力，使單動(dòng)子平臺(tái)1產(chǎn)生平面運(yùn)動(dòng)。三組線圈與7J^茲體陣列之間電^茲作用力的合力決定著動(dòng)子平臺(tái)l的運(yùn)動(dòng)方向。通過控制這三組線圈各組線圈電流大小可實(shí)現(xiàn)x， y， Rz三方向的運(yùn)動(dòng)，同時(shí)通過調(diào)整線圈3電流的控制精度和永磁鐵陣列5的排 布密度實(shí)現(xiàn)電磁驅(qū)動(dòng)力更精密的微調(diào)，達(dá)到上述三個(gè)方向微米/納米級(jí)的精確運(yùn) 動(dòng)與定4立。
動(dòng)子平臺(tái)l運(yùn)動(dòng)的距離和定位主要通過x， y向反射鏡7實(shí)現(xiàn)。x, y向反射 鏡7通過反射外部激光干涉儀的測(cè)量光速，輔助激光干涉儀測(cè)量動(dòng)子平臺(tái)的運(yùn) 動(dòng)距離。當(dāng)動(dòng)子平臺(tái)未到達(dá)指定位置時(shí)，激光干涉儀就會(huì)向控制模塊進(jìn)一步發(fā) 出運(yùn)動(dòng)控制信號(hào)，直至運(yùn)動(dòng)平臺(tái)到達(dá)指定位置或運(yùn)動(dòng)了預(yù)設(shè)的距離，控制模塊
將不會(huì)使動(dòng)子平臺(tái)再次運(yùn)動(dòng)。進(jìn)一步地，真空支座4與氣浮支座2產(chǎn)生的氣浮升力與真空吸力的平衡會(huì) 讓氣流通過動(dòng)子平臺(tái)底部的推力線圈，可以對(duì)通電的線圈實(shí)施有效的冷卻，避 免線圈過熱影響運(yùn)動(dòng)平臺(tái)穩(wěn)定性。圖4、 5、 6是多動(dòng)子單定子氣浮磁控運(yùn)動(dòng)平臺(tái)示意圖，該平臺(tái)系統(tǒng)'可實(shí)現(xiàn) 大行程多動(dòng)子平臺(tái)的同時(shí)運(yùn)動(dòng)，并能夠?qū)崿F(xiàn)需要的運(yùn)動(dòng)速遞和要求的定位精度。 以下對(duì)這種類型的氣浮磁控運(yùn)動(dòng)平臺(tái)作進(jìn)一步的描述。圖4所示氣浮石茲控精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)動(dòng)子平臺(tái)8有多個(gè)，定子平臺(tái)IO為相同結(jié) 構(gòu)定子單元9重復(fù)排列組成。動(dòng)子平臺(tái)8的結(jié)構(gòu)均相同，它釆用圖5所示動(dòng)子 平臺(tái)模塊13結(jié)構(gòu)。多動(dòng)子平臺(tái)模塊13通過氣浮15懸浮在大行程定子模塊10 上。如圖5所示的動(dòng)子平臺(tái)13的結(jié)構(gòu)類似圖2的動(dòng)子平臺(tái)結(jié)構(gòu)，也是包括x, y 向反射鏡ll、動(dòng)子平臺(tái)模塊底部真空支座14、動(dòng)子模塊底部氣浮支撐的氣浮孔 15。它區(qū)別單動(dòng)子平臺(tái)的特征是其底部推力線圏不是等圓周分布三組線'圈，而 是由四組呈方形布置得線圏組成動(dòng)子平臺(tái)底面內(nèi)側(cè)布置有呈"田"字形分布 的四組方形線圈16和17，線圈16為控制x方向兩相線圈，線圈17為控制y方 向兩相線圈。這四組線圈交叉排列分布在動(dòng)子平臺(tái)方形底面內(nèi)側(cè)。與多動(dòng)子平臺(tái)匹配的定子平臺(tái)10如圖6所示。定子平臺(tái)是由結(jié)構(gòu)相同的定 子單元9重復(fù)排列形成，每個(gè)定子單元9的永^磁體陣列的排列方式與線圈16和 17相匹配，也呈"田，，字形分布。多動(dòng)子平臺(tái)的每個(gè)動(dòng)子平臺(tái)13的運(yùn)動(dòng)都是相互獨(dú)立的。動(dòng)子平臺(tái)13上x， y向反射鏡11作用于單動(dòng)子平臺(tái)1的反射鏡的功能一樣。氣浮的實(shí)現(xiàn)方法和單 動(dòng)子平臺(tái)氣浮實(shí)現(xiàn)方法一樣通過底部中心真空支座14和氣浮支座15實(shí)現(xiàn)真 空吸力和氣浮升力的平衡。通過控制線圈16兩相線圈中每個(gè)線圈電流的大小和 線圈17兩相線圏中每個(gè)線圈電流的大小實(shí)現(xiàn)線圈16和17與定子單元9永》茲體 陣列之間的電磁力合作用的大小與方向的控制。與單動(dòng)子平臺(tái)一樣，通過調(diào)整 動(dòng)子平臺(tái)中線圈16和17電流控制精度和定子平臺(tái)單元9的永》茲鐵陣列分布密 度可實(shí)現(xiàn)控制精度的進(jìn)一步提高。最終實(shí)現(xiàn)多動(dòng)子平臺(tái)x， y， Rz三方向的精密 運(yùn)動(dòng)與定位。
多動(dòng)子單定子氣浮磁控運(yùn)動(dòng)平臺(tái)要求定子平臺(tái)io具有較高的平面平整度和 表面精度要求，以實(shí)現(xiàn)動(dòng)子平臺(tái)模塊13與大行程定子平臺(tái)10間氣浮間隙的穩(wěn) 定進(jìn)一步地，氣浮原理同樣使得底部會(huì)有氣流通過動(dòng)子線圈，有冷卻通電動(dòng) 子線圈16和17的效果。單動(dòng)子單定子氣浮磁控運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，具有比較簡(jiǎn)單的動(dòng)子結(jié)構(gòu)1與定子結(jié)構(gòu)6， 控制簡(jiǎn)單(三組線圈)容易實(shí)現(xiàn)短行程的精密運(yùn)動(dòng)與定位。多動(dòng)子單定,子氣浮 》茲控運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的動(dòng)子結(jié)構(gòu)13相對(duì)單動(dòng)子1的結(jié)構(gòu)要復(fù)雜一些，控制也會(huì)稍顯復(fù) 雜一些(四組線圏)，但是對(duì)應(yīng)于動(dòng)子線圈的永磁體陣列的排列方式容易形成大行程定子平臺(tái)，適合動(dòng)子平臺(tái)進(jìn)行精密大行程的運(yùn)動(dòng)與定位。由于多動(dòng)子平臺(tái) 的每個(gè)動(dòng)子平臺(tái)的運(yùn)動(dòng)是相互獨(dú)立的，既可實(shí)現(xiàn)并行的多工位的運(yùn)動(dòng)，也可實(shí)現(xiàn)按一定時(shí)序要求進(jìn)行的多動(dòng)子平臺(tái)精密運(yùn)動(dòng)與定位。
權(quán)利要求
1、一種氣浮磁控精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，-包括動(dòng)子平臺(tái)，定子平臺(tái)，動(dòng)子推力線圈，定子永磁鐵陣列，和位于動(dòng)子平臺(tái)頂部的兩側(cè)x-y向反射鏡，其特征在于所述動(dòng)子平臺(tái)底部邊緣分布有氣浮孔，動(dòng)子平臺(tái)底部中心分布有真空腔，動(dòng)子推力線圈位于動(dòng)子平臺(tái)底部?jī)?nèi)側(cè)，定子永磁鐵陣列固定于定子平臺(tái)，整個(gè)動(dòng)子平臺(tái)懸浮于定子平臺(tái)上，動(dòng)子推力線圈排列方式與定子永磁體陣列相匹配。
2、 如權(quán)利要求1所述的氣浮磁控精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，其特征在于所述的動(dòng)子 平臺(tái)(1)為一個(gè)，所述的定子平臺(tái)(6)也為一個(gè)，并與動(dòng)子平臺(tái)(l)相匹配。
3、 如權(quán)利要求2所述的氣浮磁控精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，其特征在于動(dòng)子平臺(tái)(1 ) 底部邊緣為圓形，底部?jī)?nèi)側(cè)分布有三組等圓周分布的動(dòng)子推力線圈(3)。
4、 如權(quán)利要求3所述的氣浮磁控精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，其特征在于與動(dòng)子平臺(tái) (1)相對(duì)應(yīng)的定子平臺(tái)(6)的定子永磁鐵陣列(5)也呈等圓周分布。
5、 如權(quán)利要求1所述的氣浮磁控精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，其特征在于所述的動(dòng)子 平臺(tái)(8)為多個(gè)，所述的定子平臺(tái)(10)為相同結(jié)構(gòu)定子單元(9)重復(fù)排列 組成。
6、如權(quán)利要求5所述的氣浮磁控精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，其特征在于所述動(dòng)子平 臺(tái)的結(jié)構(gòu)均相同，每個(gè)動(dòng)子平臺(tái)(13)的底部邊緣呈方形，底部?jī)?nèi)側(cè)分布有控 制x方向運(yùn)動(dòng)兩推力線圏(16)和控制y方向運(yùn)動(dòng)的兩推力線圈(17)。.
7、 如權(quán)利要求6所述的氣浮磁控精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，其特征在于所述控制x 方向運(yùn)動(dòng)兩推力線圈(16)和控制y方向運(yùn)動(dòng)的兩推力線圏(17)相對(duì)底部中 心交叉排列，呈"田，，字。
8、 如權(quán)利要求7所述的氣浮磁控精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，其特征在于定子平臺(tái) (10)的每個(gè)定子單元(9)的永磁鐵陣列的排布也呈"田，，字。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種氣浮磁控精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，包括動(dòng)子平臺(tái)，定子平臺(tái)，動(dòng)子推力線圈和定子永磁鐵陣列，x-y向反射鏡，x-y向反射鏡位于動(dòng)子平臺(tái)頂部的兩側(cè)，動(dòng)子平臺(tái)底部邊緣分布有氣浮孔，動(dòng)子平臺(tái)中心分布有真空腔，動(dòng)子推力線圈位于動(dòng)子平臺(tái)底部?jī)?nèi)側(cè)，定子永磁鐵陣列固定于定子平臺(tái)，整個(gè)動(dòng)子平臺(tái)懸浮于定子平臺(tái)上，動(dòng)子推力線圈排列方式與定子永磁鐵陣列相匹配。采用本發(fā)明氣浮磁控精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，單動(dòng)子氣浮磁控精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)可實(shí)現(xiàn)微米/納米級(jí)的微動(dòng)精度和定位精度；多動(dòng)子氣浮磁控精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)可實(shí)現(xiàn)多工位大行程精密運(yùn)動(dòng)。動(dòng)子平臺(tái)懸浮于定子平臺(tái)上，避免平臺(tái)之間機(jī)械摩擦以及摩擦帶來的平臺(tái)運(yùn)動(dòng)精度問題，同時(shí)可冷卻動(dòng)子線圈。
文檔編號(hào)G03F7/20GK101158815SQ20071004549
公開日2008年4月9日 申請(qǐng)日期2007年8月31日 優(yōu)先權(quán)日2007年8月31日
發(fā)明者育 劉, 王天明, 袁志揚(yáng) 申請(qǐng)人:上海微電子裝備有限公司