專利名稱：基板處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種基板處理裝置，其向LCD、 PDP用玻璃基板以及半導(dǎo)體 基板等基板供給處理液來實施各種處理。
背景技術(shù)：
以往已公布了如下的基板處理裝置，即，邊輸送基板邊對基板通過向其 表面供給各種處理液來實施給定的處理，例如，在專利文獻l (JP特開2004 一273984號公報)中邊輸送藥液處理過的基板，邊通過液刀(slitnozzle:狹 縫噴嘴)以及噴淋噴嘴(shower nozzle)依次向基板供給清洗液來實施清洗 處理。
該裝置以如下方式構(gòu)成，即，對輸送過來的基板，首先通過液刀從輸送 方向上游側(cè)向下游側(cè)沿斜方向噴出帶狀的清洗液，由此使藥液反應(yīng)從基板的 前端側(cè)開始按順序沿基板的寬度方向迅速并均勻地進行而結(jié)束，其后，利用 從噴淋噴嘴噴出的清洗液，對基板實施最后清洗處理。
本發(fā)明要解決的問題
從經(jīng)驗中可以知道，從液刀噴出清洗液時，到清洗液的流量穩(wěn)定到一定 程度為止，會多少產(chǎn)生一些液體滴流現(xiàn)象。在這種情況下，可能會存在如下 問題，即，若順著刀表面流下的清洗液殘留在液刀下面等處，則它們會落到 輸送中的基板上，從而導(dǎo)致基板的質(zhì)量下降。即，由于清洗液從液刀滴落下 來，所以部分藥液會在早期在比本來的噴射(供應(yīng))位置靠上游側(cè)的位置上 被置換，其結(jié)果，會破壞在基板面內(nèi)的藥液反應(yīng)時間的均一性。另外，若長 時間持續(xù)噴出清洗液，則清洗液的霧會附著在液刀上，進而該霧會形成為液 滴從液刀滴落到基板上。這種情況也跟上述情況一樣成為基板質(zhì)量下降的原 因。因此，希望找出一種防范于未然的方法。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述的問題而做出的，其目的在于提供一種基板處理裝置，通過防止不必要的處理液從液刀等的噴嘴部件滴落到基板上，從而為提 高基板的質(zhì)量做出貢獻。
(1) 為了解決上述的問題，本發(fā)明提供一種基板處理裝置，其具有噴 嘴部件，該噴嘴部件向輸送中的基板的上表面，從輸送方向的上游側(cè)朝向下 游側(cè)而沿傾斜方向噴出處理液，其特征在于，具有氣體噴射裝置，其向上 述噴嘴部件噴射氣體；控制裝置，其控制上述氣體噴射裝置在上述噴嘴部件 的下方不存在基板時噴射上述氣體。
根據(jù)(1)，通過氣體噴射裝置對噴嘴部件噴射氣體來除去因液體滴流 而引起的處理液的液滴等附著在噴嘴部件的表面上的處理液。為此，能夠防 止附著在噴嘴部件上的處理液滴落到基板上。此外，因為被控制成在噴嘴部 件的下方不存在基板時進行噴射，所以從噴嘴部件被除去掉的處理液不會飛 散到基板上。
(2) 作為具體的構(gòu)成，上述控制裝置例如以如下方式控制上述氣體噴 射裝置，即，使該氣體噴射裝置，在從上述噴嘴部件開始噴出處理液起到滿 足使該處理液的噴出量穩(wěn)定的給定的穩(wěn)定化條件為止的期間，噴射上述氣 體。
根據(jù)(2)，能夠有效地防止因處理液的噴出開始之后不久的液體滴流
而引起的來自噴嘴部件的處理液的滴落。
(3) 另外，上述控制裝置以如下方式控制上述氣體噴射裝置，S卩，使
該氣體噴射裝置，只在被處理基板即將到達(dá)上述噴嘴部件下方的給定時間內(nèi) 噴射上述氣體。
根據(jù)(3)，能夠在即將進行基板處理之前除去附著在噴嘴部件上的霧 狀的處理液等。
(4) 此外，在上述的構(gòu)成中，優(yōu)選上述氣體噴射裝置從上述輸送路徑 的上游側(cè)向下游側(cè)對上述噴嘴部件噴射上述氣體。
根據(jù)(4)，因為能夠?qū)⒏街趪娮觳考系奶幚硪捍迪蛳掠蝹?cè)，從而 能夠有效地防止被除去掉的處理液飛散到處理前的基板上。
(5) 此時在上述噴嘴部件的上述輸送方向上游側(cè)設(shè)置有防止倒流裝置， 該防止倒流裝置通過向基板的上表面噴射氣體，防止基板上的處理液向上游 側(cè)流動，并且，該防止倒流裝置，通過以能夠?qū)逡约吧鲜鰢娮觳考p方噴射上述氣體的方式構(gòu)成，從而能夠兼作上述氣體噴射裝置來使用。
根據(jù)(5)，利用將該防止倒流裝置作為上述氣體噴射裝置兼用的合理
的結(jié)構(gòu)，能夠除去附著在噴嘴表面上的處理液。 發(fā)明的效果
根據(jù)上述(1) (5)所述的基板處理裝置，能夠有效地防止不必要的 處理液從噴嘴部件滴落到基板上，從而能夠為提高基板質(zhì)量做出貢獻。特別 是根據(jù)上述(2)的結(jié)構(gòu)，能夠有效地防止因開始噴出處理液之后的液體滴
流而引起的處理液的滴落，另外，根據(jù)上述(3)的結(jié)構(gòu)，能夠有效地防止
因附著在噴嘴部件上的霧狀的處理液而引起的處理液的滴落。此外，根據(jù)上
述(4)的結(jié)構(gòu)，'能夠防止從噴嘴部件除去的處理液飛散在處理前的基板上， 還有，根據(jù)上述(5)的結(jié)構(gòu)，得到上述的效果的同時，能夠?qū)崿F(xiàn)將防止倒 流裝置作為氣體噴射裝置兼用的合理的結(jié)構(gòu)。


圖1是表示本發(fā)明的基板處理裝置的第一實施方式的剖視圖。 圖2是基板處理裝置的重要部分的放大剖視圖。
圖3是表示液刀和從該液刀供給到基板上的沖洗液的供給位置之間的關(guān) 系的圖。
圖4是表示控制器控制開關(guān)閥的時序圖。
圖5是表示本發(fā)明的基板處理裝置的第二實施方式的剖視圖。
圖6是基板處理裝置的重要部分的放大剖視圖。
具體實施例方式
使用附圖對本發(fā)明的優(yōu)選實施方式進行說明。
圖1是用剖視圖概略表示本發(fā)明的第一實施方式的基板處理裝置1。顯 示在該圖中的基板處理裝置1，邊將基板S以水平姿勢向圖中的箭頭方向輸 送，邊對前面工序中實施過藥液處理(例如光致抗蝕液的剝離處理)的該基 板S實施清洗處理。
如該圖所示基板處理裝置1具有近似密閉的處理室10。在該處理室10 中以給定間隔配備有多個輸送輥14?；錝以水平姿勢沿著由這些輸送棍14構(gòu)成的輸送路徑被輸送。此外，圖中的附圖標(biāo)記12a示出在處理室10的 側(cè)壁上形成的基板S的搬入口，另外，附圖標(biāo)記12b示出其搬出口。
在上述處理室10的內(nèi)部配備有對基板S供給沖洗液(在本例中為純凈 水，相當(dāng)于本發(fā)明的處理液)的兩種液體噴嘴。具體講，在緊鄰搬入口 12a 的地方配備有液刀16 (相當(dāng)于本發(fā)明的噴嘴部件)，而在該液刀16的下游 側(cè)(在該圖中為右側(cè))配備有噴淋噴嘴18a、 18b。
上述液刀16經(jīng)由圖外的安裝臂被固定在處理室10的壁面等上。該液刀 16在基板S的輸送路徑的寬度方向(與基板S的輸送方向垂直的方向；在該 圖中為與紙面垂直的方向)上是細(xì)長的，并且由具有沿其長度方向連續(xù)延伸 的細(xì)長的噴出口的所謂的狹縫噴嘴構(gòu)成，如圖所示，以將該噴出口斜著向下 的狀態(tài)配置在輸送輥14的上部。由此，按如下方式構(gòu)成，S卩，從液刀16對 基板S,從其輸送方向上游側(cè)向下游側(cè)斜向下呈帶狀(層狀)地噴出沖洗液。
另一方面，上述噴淋噴嘴18a、 18b隔著輸送輥14配置在上下兩側(cè)，例 如，從呈矩陣狀配置的噴嘴口各自呈液滴狀地排出沖洗液，并將其噴射到基 板S上。
此外，如該圖所示，沖洗液被儲存在配置于處理室10的下方的儲料容 器20中，并在泵22的動作下通過導(dǎo)出管24從儲料容器20被導(dǎo)出，并通過 從該導(dǎo)出管24分支出的供給管26 28分別供給到液刀16以及各噴淋噴嘴 18a、 18b。在各供給管26 28上分別安裝有開關(guān)閥V1 V3，通過操作這些 開關(guān)閥V1 V3，控制液刀16等供給或者停止供給沖洗液、以及控制沖洗液 的供給量。
另外，在上述處理室10中，在其內(nèi)的底部設(shè)置有漏斗狀的回收盤(省 略圖示)，已使用過的沖洗液通過該回收盤被收集，并通過回收管30返回 到上述儲料容器20中。g卩，在該基板處理裝置l中，以使沖洗液在儲料容 器20和液刀16等之間循環(huán)的同時反復(fù)使用的方式構(gòu)成沖洗液的給排系統(tǒng)。 此外，該給排系統(tǒng)以如下方式構(gòu)成，目卩，該給排系統(tǒng)具有從回收管30的中 途部分分支出的圖外的廢液管和圖外的新液供給管，己劣化了的沖洗液能夠 通過上述廢液管被廢棄，而新的沖洗液能夠通過上述新液供給管被供給到儲 料容器20。
在上述處理室10內(nèi)還設(shè)置有用于向液刀16噴射氣體(在本例中為空氣)的空氣噴嘴32。該空氣噴嘴32，是沿上述液刀16延伸的細(xì)長的構(gòu)件，并由 在其長度方向排列了多個圓形噴出口的濺水噴嘴(spraynozzle)構(gòu)成，或具 有在長度方向連續(xù)(或則間斷)延伸的細(xì)長的噴出口的狹縫噴嘴構(gòu)成，并配 置在搬入口 12a近旁的一對輸送輥14之間的部分。由此，如圖2所示，該 空氣噴嘴32能夠在液刀16的下方不存在基板S時，斜向上地從輸送路徑的 下方朝向液刀16的前端部分噴射空氣，更具體地講，能夠斜向上地從基板S 的輸送方向的上游側(cè)朝向下游側(cè)噴射空氣。此外，在本實施例中，該空氣噴 嘴32等相當(dāng)于本發(fā)明的氣體噴5射裝置。
上述空氣噴嘴32，如圖1所示，經(jīng)由空氣供給管36而與在圖外的空氣 供給源連接。而且，通過操作設(shè)置在上述空氣供給管36上的開關(guān)闊V4，控 制空氣噴嘴32噴射空氣或者停止噴射空氣。
此外，在該基板處理裝置1中，設(shè)置了將CPU等作為構(gòu)成要素的控制 器40 (相當(dāng)于本發(fā)明的控制裝置)，以從總體上控制輸送輥14的驅(qū)動和上 述開關(guān)閥V1 V4的切換操作。特別是，在該裝置1中，如圖1所示，在處 理室10外的上述搬入口 12a的稍微上游側(cè)和處理室10內(nèi)的上述搬出口 12b 近旁分別配置有檢測基板S的傳感器(稱為第一傳感器42、第二傳感器44)， 控制器40基于這些傳感器42、 44對基板S的檢測結(jié)果來控制開關(guān)閥Vl V4。
接著，說明該控制器40對開關(guān)閥V1 V4的控制，即，說明通過液刀 16供給沖洗液的控制和通過空氣噴嘴32噴射空氣的控制，以及對他們進行 控制的作用。
圖4是表示上述控制器40控制開關(guān)閥V1 V4的一例的時序圖。如該 圖所示，控制器40,直至通過第一傳感器42檢測出基板S為止，對各開關(guān) 閥V1 V4進行關(guān)閉控制，以使從液刀16等中噴出沖洗液的動作停止以及 使從空氣噴嘴32噴射空氣的動作停止。
然后，基板S被輸送，其前端被第一傳感器42檢測出時(在tl時間點)， 控制器40將開關(guān)閥V1 V3從關(guān)閉狀態(tài)切換到開放狀態(tài)，由此開始從液刀 16以及噴淋噴嘴18a、 18b噴出沖洗液。另外，與此同時將開關(guān)閥V4只開 放一定時間，從而從空氣噴嘴32噴射空氣(tl t2時間點)。由此，通過液 刀16開始噴出沖洗液之后，只在一定時間內(nèi)對空氣噴嘴32的前端部分噴射空氣。
若如上所述噴射空氣，噴射剛開始后，從噴射口順著液刀16流下來的 沖洗液(液體的滴流)，或附著在液刀16上的霧狀的沖洗液被空氣壓力除
去，由此，例如如圖3中所示，防止沖洗液以液滴狀留在液刀16的前端下 部等(用附圖標(biāo)記D來表示)。
此外，空氣的噴射時間(tl t2時間)被設(shè)定為通過第一傳感器42來檢 測出基板S的前端之后，該基板S的前端到達(dá)液刀16和搬入口 12a之間的 特定的地點為止的時間。即，通過將空氣的噴射期間設(shè)定為液刀16的下方 不存在基板S的期間，從而避免從空氣噴嘴32噴射出的空氣被基板S遮斷， 或避免因來自空氣噴嘴32的空氣使從液刀16被除去的沖洗液飛散到基板S 上的問題。此外，該空氣噴射時間被設(shè)定為與從開關(guān)閥VI切換到開放狀態(tài) 開始到液刀16噴出沖洗液的噴出量穩(wěn)定為止的時間相比充分長的時間。
而且，停止從空氣噴嘴32的空氣噴射之后，通過向液刀16的下方輸送 基板S，從液刀16噴出的沖洗液隨著基板S的輸送從其前端側(cè)開始依次以遍 布寬度方向的方式被供給，其結(jié)果，藥液反應(yīng)迅速地在基板S的寬度方向上 均一地結(jié)束。此時，如上所述，通過預(yù)先向液刀16噴射空氣來除去附著在 該液刀16上的沖洗液，能夠有效地防止積在液刀16的前端下部等的沖洗液 的液滴等(附圖標(biāo)記D)滴到比沖洗液本來的供給位置P1 (參照圖3)靠上 游側(cè)的位置P2。
基板S通過液刀16的位置后，緊接著從噴淋噴嘴18a、 18b噴出的大量 的沖洗液被供給到基板S的上表面以及下表面上，由此對基板S進行最后的 清洗處理。
然后，基板S進一步被輸送，當(dāng)通過第二傳感器44檢測出基板S的前 端時(t3時間點)，控制器40將開關(guān)閥V1從開放狀態(tài)切換到關(guān)閉狀態(tài)，由 此停止來自液刀16的沖洗液的噴出，然后，通過第二傳感器44檢測出基板 S的后端時(t4時間點)，將開關(guān)閥V2、 V3分別從開放狀態(tài)切換到關(guān)閉狀 態(tài)，由此停止來自噴淋噴嘴18a、 18b的沖洗液的噴出。通過以上動作，基 板S的一系列的清洗處理結(jié)束。
如上所述，在該基板處理裝置1中，通過向空氣噴嘴32的前端部分噴 射空氣來除去從噴出口順著液刀16流下來的沖洗液(液體的滴流)或附著在液刀16上的霧狀的沖洗液，由此，防止不必要的沖洗液從液刀16滴落到
基板S上。因此，能夠有效地防止，因沖洗液從液刀16滴落到比本來的供 給裝置P1靠上游側(cè)的位置P2而導(dǎo)致藥液反應(yīng)在局部早期結(jié)束，從而破壞藥 液處理的均一性的問題。因此，能夠避免這種問題，從而能夠?qū)錝實施 更加均一的藥液處理，其結(jié)果，能夠進一步提高基板的質(zhì)量。 接著，對本發(fā)明的第二實施方式進行說明。
圖5是用剖視圖概略表示本發(fā)明的第二實施方式的基板處理裝置。如該 圖所示，該第二實施方式的基板處理裝置2與第一實施方式的基板處理裝置 l結(jié)構(gòu)的不同點在于，空氣噴嘴32被設(shè)置在輸送路徑的上方，并且該空氣噴 嘴32還兼做沖洗液的防止倒流裝置等方面。
具體地講，液刀16的后端下側(cè)(在圖5中的左端下方)的部分配設(shè)有 空氣噴嘴32，并且以從上游側(cè)向下游側(cè)斜著向下地朝向液刀16的前端下部 噴射空氣方式配設(shè)空氣噴嘴32。
該空氣噴嘴32，如圖6所示，向液刀16的前端下部噴射空氣的同時， 在液刀16等下方存在基板S時，以能夠?qū)ζ渖厦鎻纳嫌蝹?cè)向下游側(cè)噴射空 氣的方式設(shè)置其噴射角度。即，通過上述控制器40控制開關(guān)閥V4，在進行 基板S的處理時，與第一實施方式相同，向空氣噴嘴32的前端部分噴射空 氣，由此除去從噴出口順著液刀16流下來的沖洗液(液體的滴流)，或附 著在液刀16上的霧狀的沖洗液。另一方面，在例如因基板S輸送事故等導(dǎo) 致基板S在橫跨處理室10和其上游側(cè)的處理室的狀態(tài)下停止輸送的情況下 (在圖6中的雙點劃線所示的狀態(tài))，通過從空氣噴嘴32向基板S的上表 面噴射空氣，防止基本S上的沖洗液倒流，g卩，防止被供給到基板S上的沖 洗液順著該基板S流入上游側(cè)的處理室。
根據(jù)這種第二實施方式的基板處理裝置2，與第一實施方式相同，能夠 有效地防止不必要的沖洗液從液刀16滴落到基板S上，另一方面，能夠達(dá) 到如下的合理的構(gòu)成，即，上述空氣噴嘴32等兼?zhèn)渥鳛閷σ旱?6噴射空氣 的裝置的功能和防止沖洗液倒流的裝置的功能。
此外，如上所述的基板處理裝置1、 2是本發(fā)明的基板處理裝置優(yōu)選實 施方式的例子，其具體構(gòu)成，例如空氣噴嘴32的形狀、配置、空氣的噴射 方向(角度)、噴射的時間等，不需要一定局限于本實施方式的例子，在不脫離本發(fā)明的要點的范圍內(nèi)能夠適當(dāng)進行改變。
例如，在上述實施方式中，雖然空氣噴嘴32被設(shè)定為固定的，但也可
以通過增加搖動機構(gòu)使空氣噴嘴32能夠繞與輸送輥14平行的軸搖動，從而 能夠在朝向液刀16噴射空氣的同時使其噴射方向發(fā)生變化。特別是，在第 二實施方式的情況下，可能存在除去液刀16的液滴等最佳的空氣噴射角度 和防止沖洗液倒流最佳的空氣噴射角度不相同的情況，而在將空氣噴嘴32 設(shè)置為固定時，難以使空氣噴射角度成為對上述兩種用途都合適的角度。在 這種情況下，如果是如上所述將空氣噴嘴32設(shè)置為能夠搖動的，通過控制 器40根據(jù)用途來控制空氣噴嘴32的角度(空氣的噴射角度)的結(jié)構(gòu)，就能 夠?qū)σ旱?6以及基板S雙方都以最佳的角度噴射空氣。
另外，關(guān)于空氣噴嘴32的空氣噴射時期關(guān)于空氣噴嘴32的空氣噴射時 期，因為需要避免從空氣噴嘴32噴射出的空氣被基板S遮斷(第一實施方 式的情況)的不良、或者因來自空氣噴嘴32的空氣而從液刀16上被除去的 沖洗液飛散到基板S上的不良，所以起碼需要避開液刀16下方存在基板S 的期間，但只要是除此以外的期間任何期間都可以噴射空氣。但是，從液刀 16噴出沖洗液開始到該沖洗液的噴出量穩(wěn)定為止的期間，因液體的滴流而容 易在液刀16上殘留液滴狀的沖洗液，因此，如上述實施方式所述，在此期 間對液刀16噴射空氣的做法對于防止沖洗液的滴落是有效的。
此時，除了預(yù)先測量從沖洗液的噴射開始到供給管26內(nèi)的沖洗液的流 量達(dá)到給定值(穩(wěn)定地噴射沖洗液的流量)為止的時間(穩(wěn)定化條件)，并 基于該時間控制空氣的噴射時間之外，例如，也可以實時地檢測供給管26 內(nèi)的沖洗液的流量，檢測出從沖洗液的噴出開始到該流量達(dá)到上述的給定值 (穩(wěn)定化條件)的時間點，并基于該檢測停止空氣的噴射。重要的是，預(yù)先 給定從液刀16噴出的沖洗液的噴出狀態(tài)穩(wěn)定所需的穩(wěn)定化條件，只要在從 沖洗液的噴射開始到滿足該穩(wěn)定化條件為止的期間內(nèi)，就可以從空氣噴嘴32 對液刀16噴射空氣。
另外，在處理多個基板S期間內(nèi)，在從液刀16或噴淋噴嘴18a、 18b連 續(xù)噴出沖洗液時，處理室10內(nèi)會產(chǎn)生大量的霧，從而容易在液刀16上產(chǎn)生 液滴。因此，在這種情況下，通過只在基板S到達(dá)液刀16下方之前的一定 時間內(nèi)從空氣噴嘴32噴射空氣，因此在即將處理基板S之前從液刀16除去上述霧是有效的。
此外，在上述的實施方式中，對將本發(fā)明應(yīng)用于對基板s實施清洗處理
的基板處理裝置1、 2的例子進行了說明，但是本發(fā)明不局限于進行清洗處 理的裝置，也可使用于進行藥液處理等的基板處理裝置。
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置，其具有噴嘴部件，該噴嘴部件向輸送中的基板的上表面，從輸送方向的上游側(cè)朝向下游側(cè)而沿傾斜方向噴出處理液，其特征在于，具有氣體噴射裝置，其向上述噴嘴部件噴射氣體；控制裝置，其控制上述氣體噴射裝置在上述噴嘴部件的下方不存在基板時噴射上述氣體。
2. 如權(quán)利要求l所述的基板處理裝置，其特征在于， 上述控制裝置控制上述氣體噴射裝置，在從上述噴嘴部件開始噴出處理液起到滿足使該處理液的噴出狀態(tài)穩(wěn)定的給定的穩(wěn)定化條件為止的期間，噴 射上述氣體。
3. 如權(quán)利要求1或2所述的基板處理裝置，其特征在于， 上述控制裝置控制上述氣體噴射裝置只在被處理基板即將到達(dá)上述噴嘴部件下方的給定時間內(nèi)噴射上述氣體。
4. 如權(quán)利要求1或2所述的基板處理裝置，其特征在于，上述氣體噴射裝置從上述輸送路徑的上游側(cè)向下游側(cè)對上述噴嘴部件 噴射上述氣體。
5. 如權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于， 在上述噴嘴部件的上述輸送方向上游側(cè)設(shè)置有防止倒流裝置，該防止倒流裝置通過向基板的上表面噴射氣體，防止基板上的處理液向上游側(cè)流動， 并且，該防止倒流裝置，通過以能夠?qū)逡约吧鲜鰢娮觳考p方噴射上述 氣體的方式構(gòu)成，從而能夠兼作上述氣體噴射裝置來使用
全文摘要
一種基板處理裝置，其防止附著在噴嘴部件上的處理液滴落到基板上?；逄幚硌b置(1)具有向輸送中基板(S)的上表面從輸送方向的上游側(cè)向下游側(cè)沿傾斜方向噴出沖洗液的液刀(16)和具備向該液刀(16)噴射空氣的空氣噴嘴(32)的氣體噴射裝置。而且，該基板處理裝置(1)以如下方式構(gòu)成，即，基于控制器(40)的控制，在液刀(16)的下方不存在基板(S)時，從上述空氣噴嘴(32)向液刀(16)噴射空氣。
文檔編號G03F7/26GK101303968SQ200810091639
公開日2008年11月12日 申請日期2008年4月11日 優(yōu)先權(quán)日2007年5月7日
發(fā)明者中田宏幸, 富藤幸雄, 松下佳彥 申請人:大日本網(wǎng)目版制造株式會社