專利名稱：：光偏振制品和染料分散體以及它們的制備方法
技術領域：
：本發(fā)明涉及光偏振制品及其制造方法，以及用于制造該制品的偏振染料分散體。具體地，本發(fā)明涉及具有包含許多對齊的偏振染料分子的光偏振層的光偏振制品和偏振染料水分散體，以及它們的制造方法。本發(fā)明能用于制造例如偏振眼科產品，光學元件和顯示產品。
背景技術：
：線性光偏振濾光器能夠使具有特定平面中的電場的光以高于具有正交電場的光的速率透射。偏振濾光器廣泛用于例如眼科產品、顯示器件、成像器件和光通訊器件。偏振眼科透鏡是最令人感興趣的，因為偏振眼科透鏡具有能夠優(yōu)先消除從水和冰之類的平滑表面反射的眩光的獨特能力。二向色材料已經用于制造光偏振制品。當二向色材料適當取向時，二向色材料可以優(yōu)先透射在特定方向偏振的光。這種二向色材料可以在相對較寬的光譜范圍例如可見光譜范圍偏振，或者具有在窄波長范圍的偏振性能。一組二向色材料被稱作多向色性染料。多向色性染料分子依據入射光的電場取向具有不同的吸收。一些多向色性染料當放置在合適的基片上時可自取向，其他的多向色性染料必須與其他材料組合，來產生偏振效應。如美國專利第2,400，877號所述，定向的二向色染料層可以通過將該染料沉積在已經按一個方向輕刷或輕擦的表面上而形成。該專利文獻還揭示通過拉伸聚合物膜如纖維素及其衍生物，可使其上沉積的二向色染料獲得適當的取向力。已通過使用各種技術和材料制造光偏振制品如偏振眼科透鏡。大多數的這些產品除了包括非偏振基片外還包括光偏振層。光偏振層大多數由上述二向色6材料形成。至今制造的光偏振產品及其制造方法存在以下一些缺陷。一些現有技術產品的一個問題是由最終產品的光偏振層造成的光學表面的變形?，F有技術的一些光偏振制品可以通過將預成形的偏振層層疊在基片上形成。在眼科產品的情況中，要使預成形的偏振層彎曲良好貼合基片的起伏表面即使是可能的，但也是很困難的。光偏振層和基片之間不夠良好的貼合可能導致眼科透鏡中不希望的柱鏡度數(cylindricalpower)?，F有技術方法和產品的第二個問題是在制造過程或產品壽命期間光偏振層與基片發(fā)生分層。這是通過例如以下原因引起的(i)基片和光偏振層之間粘合性不足；禾卩/或(ii)具有不同性質特別是不同熱膨脹系數的層之間的應力?，F有技術的一些偏振產品和制造方法的另一個問題涉及基片組分滲入光偏振層中。滲入或遷移可能引起光偏振層的機械質量和/或光學質量隨時間變差?，F有技術的一些制品和方法的第四個問題是制品的霧化(hazing)。各種因素導致這種問題。人們相信初始微尺度的光學和機械缺陷的擴展和擴大是主要的原因?，F有技術的一些制品和方法的第五個問題是偏振染料層與在其上施加的任何附加涂層(如抗劃涂層、硬質涂層、斥水性涂層等)之間的分層。歐洲專利申請公開第1674898號揭示一種制造偏振制品的方法。通過在透鏡基片和光偏振染料層之間沉積無機增粘層，本
發(fā)明內容解決了基片和光偏振染料層之間粘合性差的問題。此外，要求偏振制品具有高的偏振效率。例如，對偏振眼科透鏡，要求盡可能地降低因反射造成的路面眩光。對高端光偏振透鏡，要求偏振效率大于99%。因此，仍需要能克服現有技術制品的一個或多個缺陷的偏振制品及其制造方法。
發(fā)明內容根據本發(fā)明第一方面，提供偏振染料水分散體，該分散體包含多個偏振染料分子和包含許多由以下通式(I)表示的表面活性劑分子的非離子型表面活性劑材料<formula>formulaseeoriginaldocumentpage8</formula>(1)，其中所有表面活性劑分子的n的平均數值為9-200，在一些實施方式中為9-150，在一些實施方式中為9-100，在一些實施方式中為9-80，在其他一些實施方式中為9-50，在其他一些實施方式中為10-50;m為1或2;R在各種情況下對各種表面活性劑分子是相同或不同的，獨立地是垸基；各表面活性劑分子上的至少一個R是C6-C12直鏈或支鏈垸基，在一些實施方式中是C8-C10直鏈或支鏈烷基，在其他一些實施方式中是C9-CIO直鏈或支鏈烷基，在其他一些實施方式中是C9直鏈或支鏈垸基；和X對各種表面活性劑分子是相同或不同的，獨立地是氫或C1-C4垸基。在本發(fā)明分散體的一些實施方式中，以分散體的總重量為基準，非離子型表面活性劑的濃度為0.1-10重量％，在一些實施方式中為0.2-5重量％，在其他一些實施方式中為0.4-1重量％。在本發(fā)明分散體的一些實施方式中，表面活性劑分子可以分成以下兩組(A)和(B):(A)，具有總分子數MA，其中，分子的數字n的平均值為5-20;和(B)，具有總分子數MB，其中，所有分子的數字n的平均值為30-200。在本發(fā)明分散體的一些實施方式中，MA/MB的比值在1/10至10/1范圍。在本發(fā)明分散體的一些實施方式中，MA/MB的比值在1/10至1/5范圍。在本發(fā)明分散體的一些實施方式中，在(A)組中，表面活性劑分子的多分散性指數為1-2;在(B)組中，表面活性劑分子的多分散性指數為1-2。在本發(fā)明分散體的一些實施方式中，所有非離子型表面活性劑分子的平均分子量為620-10，000克，摩爾—'，在一些實施方式中，為700-2000克'摩爾—、在其他一些實施方式中，為750-2000克'摩爾—'；在其他一些實施方式中，為800-1800克.摩爾—'。在本發(fā)明分散體的一些實施方式中，偏振染料分子選自以下C.I.直接藍867，C.I.直接藍90;C.L直接綠59;C.I.直接紫48;C.I,直接紅39;C.I.直接紅79;C.I.直接紅81;C.I.直接紅83;C.I.直接紅89;C.I.直接橙39;C.I.直接橙72;C.1.酸性紅37;C.I.直接黃34;C.1.直接綠26;C.L直接綠51;以及它們的混合物和組合。在本發(fā)明分散體的一些實施方式中，偏振染料分子在其分子結構中包含陰離子基團。本發(fā)明的第二方面涉及制造光偏振制品的方法，該方法包括以下步驟(A)提供具有至少一個表面的光透射基片；(B)在基片表面上形成多個細微溝槽；(c)用偏振染料分散體涂覆具有細微溝槽的表面，所述分散體在前面概要描述并在下面詳細描述；和(D)在該表面上形成偏振染料層。在本發(fā)明方法的一些實施方式中，步驟(A)包括以下子步驟(A2):(A2)在基片表面上沉積無機中間增粘層；和步驟(B)包括在無機中間增粘層的表面上形成多個細微溝槽。在本發(fā)明方法的一些實施方式中，在步驟(A2)中，增粘層基本由選自以下的無機材料組成Si、Al、Zr、Ti、Ge、Sn、In、Zn、Sb、Ta、Nb、V、Y的氧化物以及它們的混合物和組合。本發(fā)明方法的一些實施方式還包括以下步驟(F):(F)在偏振染料層上形成第二功能層。本發(fā)明方法的一些實施方式還包括在步驟(D)和(F)之間的以下步驟(E):(E)直接在偏振染料層上和相鄰處形成第一連接層。在本發(fā)明方法的一些實施方式中，步驟(E)包括形成第一連接層，該層包含一定的分子結構，該分子結構帶有的離子基團的電荷與偏振染料分子的電荷相反，或者該分子結構帶有的基團能夠形成其電荷與第一功能層的偏振染料分子的電荷相反的離子。在本發(fā)明方法的一些實施方式中，在步驟(E)中，光偏振染料分子在其分子結構中包含陰離子基團。本發(fā)明第三方面涉及光偏振制品，該制品包括具有一個表面的基片，在該基片表面的至少一部分上的包含多個對齊的偏振染料分子的第一功能層，其特征在于，第一功能層還包含非離子型表面活性劑材料，該材料包含多個由通式(I)表示的表面活性劑分子，前面已經結合本發(fā)明的偏振燃料分散體概要描述了表面活性劑分子。在本發(fā)明的光偏振制品的一些實施方式中，表面活性劑分子可以分成以下兩組(A)和(B):(A)，具有總分子數MA，其中，分子的數字n的平均值為9-20;和(B)，具有總分子數MB，其中，所有分子的數字n的平均值為40-100。在本發(fā)明的光偏振制品的一些實施方式中，MA/MB的比值在1/10至10/1范圍。在本發(fā)明的光偏振制品的一些實施方式中，MA/MB的比值在1/10至1/5范圍。在本發(fā)明的光偏振制品的一些實施方式中，在(A)組中，表面活性劑分子的多分散性指數為1.0-2.0;在(B)組中，表面活性劑分子的多分散性指數為1.0-2.0。在本發(fā)明的光偏振制品的一些實施方式中，所有非離子型表面活性劑的平均分子量為620-10，000克>摩爾—'，在一些實施方式中，為700-2000克*摩爾_1;在其他一些實施方式中，為750-2000克'摩爾—'；在其他一些實施方式中，為800-1800克.摩爾'。在本發(fā)明的光偏振制品的一些實施方式中，偏振染料分子選自以下C.I.直接藍67,C.L直接藍90;C.1.直接綠59;C.I.直接紫48;C.I.直接紅39;C.1.直接紅79;C.I.直接S3d81;C.L直接紅83;C.1.直接紅89;C.I.直接橙39;C.I.直接橙72;C.I.酸性紅37;C.I.直接黃34;C.I.直接綠26;C.I.直接綠51;以及它們的混合物和組合。在本發(fā)明的光偏振制品的一些實施方式中，偏振染料分子在其分子結構中包含陰離子基團。本發(fā)明的光偏振制品的一些實施方式還包括在第一功能層上的第二功能層。本發(fā)明的光偏振制品的一些實施方式還包括在第一功能層和第二功能層之間的第一連接層。在本發(fā)明的光偏振制品的一些實施方式中，第一功能層中的偏振染料分子具有陰離子基團，第一連接層中的分子結構帶有其電荷與偏振染料分子的電荷相反的離子基團，或者第一連接層中的分子結構帶有能形成其電荷與第一功能10層的偏振染料分子的電荷相反的離子的基團。在本發(fā)明的光偏振制品的一些實施方式中，第一功能層在基片表面的至少一部分上的許多細微溝槽上形成。在本發(fā)明的光偏振制品的一些實施方式中，細微溝槽在無機材料上形成。在本發(fā)明的光偏振制品的一些實施方式中，細微溝槽在無機中間增粘層的表面上形成。在本發(fā)明的光偏振制品的一些實施方式中，第一功能層還包含固定光偏振染料的聚合物。本發(fā)明的光偏振制品的一些實施方式具有以下一個或多個優(yōu)點(i)因為改進了非離子型表面活性劑材料的性能，因此有高偏振效率和低霧度；(ii)因為存在第一連接層，因此在偏振染料層與任何附加功能層如保護層之間達到強粘合性。因此，可以制造具有高偏振效率、低霧度和高耐水性、耐汗性、耐高濕度以及耐受其他有害應用條件的光偏振制品。此外，在光偏振制品是偏振透鏡時，可以在小規(guī)模的實驗室中制造透鏡，例如典型的眼科實驗室，得到所需結果。在以下的詳細描述中提出了本發(fā)明的附加特征和優(yōu)點，其中的部分特征和優(yōu)點對本領域的技術人員而言由所述內容而容易理解，并通過示出的描述和其權利要求書以及附圖中所述實施本發(fā)明而被認可。應理解前面的一般性描述和以下的詳細描述都只是對本發(fā)明的示例，用來提供理解本發(fā)明的性質和特性的總體評述或結構。包括的附圖提供了對本發(fā)明的進一步的理解，附圖被結合在本說明書中并構成說明書的一部分。附圖簡述附圖中圖1是本發(fā)明的光偏振制品的實施方式的結構和制造方法的示意圖。圖2是本發(fā)明的光偏振制品的另一個實施方式的結構和制造方法的示意圖。具體實施例方式除非另有說明，否則，本說明書和權利要求書所用的所有數值，例如成分的重量百分數、尺寸和某些物理特性的值，應理解為在所有情況下均被術語"約"修飾。也應理解，本發(fā)明說明書和權利要求書所用的精確數值構成本發(fā)明的其它實施方式。努力保證實施例所揭示數值的準確度。然而，任何測定的數值必然含有由各種測定技術中發(fā)現的標準差造成的某些誤差。如本文所用，"眼科產品"或"眼科制品"表示任何半成品和成品的、動力和非動力的、帶色彩和無色彩的、光致變色和非光致變色的、無機玻璃基和聚合物基的眼部佩戴產品，包括太陽眼鏡產品和處方的眼部佩戴產品，及其坯件(blank);護目鏡；面罩等。除非另外指出，否則，在本申請中所用術語"氧化物"包括化學計量氧化物，缺氧氧化物和超氧氧化物。例如，在本申請中，術語"硅氧化物"或"氧化硅"表示具有式SiO,的材料，其中，x可大于2(氧過量)或小于2(缺氧)。但是，Si02表示化學計量的氧化物，其中Si和氧原子的摩爾比值為1:2。為本申請的目的，式SiO表示缺氧的氧化硅SiOy，其中，0.5^y^1.8，在一些實施方式中.5^yS1.5。對另一個例子，在本申請中，"鋁氧化物"或"氧化鋁"表示具有化學式A1A的材料，其中，z可大于3(氧過量)或小于3(缺氧)。因此，氧化物中的硅或金屬可以是不同價數，并不正好是常規(guī)的價數。可以采用化學氣相沉積產生硅和/或金屬的缺氧或超氧的氧化物。在本申請中使用的"聚硅氧垸"是具有包含-O-Si-O-Si-連接的主鏈結構和有機側基的聚合物材料，包括線型和交聯(lián)的硅氧烷聚合物。美國專利第4，981，530號描述了可用于本發(fā)明的各種類型的交聯(lián)聚硅氧烷。聚硅氧垸及其制備在以下如"硅酮(Silicones)"。第15巻，第204-308頁，聚合物科學和工禾呈百禾斗全書(Encyclopediaofpolymerscienceandengineering),通用電氣公司(GeneralElectricCompany)，BruceHardman禾口ArnoldTorkelson中進一步描述。本領域的技術人員應理解，聚硅氧垸可以采用各種方法由例如各種硅氧垸和/或硅烷制備，所述方法包括但不限于水解和在水性介質中縮聚，使用或不使用堿性或酸性催化劑。本領域的技術人員還應理解，聚硅氧烷層可以通過以下方式形成，用聚硅氧烷在液體介質(尤其是水性介質)中的分散體涂覆基片，對涂覆的材料進行附加的熱處理或不進行熱處理?？梢酝ㄟ^浸涂、注入、旋涂等實施涂覆。"Cx-Cy烷基"表示具有x-y個碳原子的直鏈或支鏈的飽和烴鏈。例如，"C1-C4烷基"表示具有x-y個碳原子的直鏈或支鏈的飽和烴鏈。CI-C4烷基的例12子包括甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、仲丁基和叔丁基。本申請中的相關基團被取代時，它們可以適當被例如但不限于以下的基團取代烷基、鹵素、環(huán)氧基團、(甲基)丙烯酰氧基、垸氧基、羥基等。術語"(甲基)丙烯酸酯"意在包括丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯以及它們的組合或混合物。"分散體"表示分散有相關材料的材料體系。因此，分散體可以是溶液、乳液或懸浮液。"含水"表示材料體系包含水，具有其他溶劑或沒有其他溶劑。因此"水分散體"是包含水的溶液、乳液或懸浮液，具有附加的溶劑例如乙醇，或沒有附加溶劑。在歐洲專利申請公開第1674898號中揭示的制造光偏振制品的方法包括在其上形成有細微溝槽的基片表面施用包含光偏振染料分子的偏振染料分散體的步驟。已經發(fā)現，光偏振染料分子本身可以在開槽的表面上對齊，形成向光偏振制品提供光偏振特性的光偏振層。本發(fā)明人經過對偏振染料分散體進行研究后得出本發(fā)明，本發(fā)明涉及對能夠在最終光偏振制品產生高偏振效率和低霧度的偏振染料分散體的改進。因此，根據本發(fā)明第一方面，提供偏振染料水分散體，該分散體包含多個偏振染料分子；和包含許多前面描述的通式(I)表示的表面活性劑分子的非離子型表面活性劑材料。苯基在苯環(huán)的任何可以利用的位置上被單一烷基或兩個垸基取代。在一些實施方式中，在苯環(huán)上只有一個R取代基，該R基團是直鏈垸基。在其他一些實施方式中，苯環(huán)上存在兩個R取代基，這兩個R基團都可以是如上面所述的直鏈或支鏈垸基。至少一個R是C6-C12直鏈垸基或支鏈烷基。因此，在表面活性劑分子只包含一個R的情況中，R是C6-C12烷基。在表面活性劑分子包含兩個R的情況中，其中一個R基團是C6-C12垸基。另一個R基團可以是C1-C20垸基，在本發(fā)明的一些實施方式中例如是C6-C12垸基。假設本發(fā)明的偏振染料分散體中，表面活性劑材料中具有通式(I)的表面活性劑分子的總數為k。所有k分子的數字n以降序列出，以形成排列n(l)，n(2)，n(3),...，n(k-2),n(k-l),n(k)。所有表面活性劑分子的數字n的平均值(n(av))如下計算i>('.)因此，本發(fā)明一些實施方式的偏振染料分散體中，具有通式(I)的實際表面活性劑分子中，n可以為O,1，2，3，4，5，...，10，…，20，...30，...40，…50，...100，...200等，只要所有表面活性劑分子的數字n的平均值在上面列出的范圍之內即可。己經發(fā)現，在偏振層上形成作為第二功能層的保護層后，所有分子的數字n的平均值一般大于8時有益于獲得大于99%的偏振效率。式(I)中的聚乙烯氧基鏈為表面活性劑分子提供親水性，具有垸基的苯基為該表面活性劑分子提供疏水性。本發(fā)明人相信較長的聚乙烯氧基鏈可以使表面活性劑分子為高親水性。分子的數字n的平均值可以由例如質譜和其他方式來確定。在本發(fā)明的一些實施方式的偏振染料分散體中，某些表面活性劑分子中的X基團是氫。在其他實施方式中，某些表面活性劑分子中的X基團是C1-C4垸基。在一些實施方式中，表面活性劑材料基本由X基團是氫的表面活性劑分子組成。表面活性劑材料可以包括其中X是氫的表面活性劑分子和其中X是任何垸基的表面活性劑分子的混合物。在本發(fā)明的偏振染料分散體的一些實施方式中，表面活性劑分子可以分成以下(A)和(B)兩組:(A)，具有總分子數MA，其中，所有表面活性劑分子的數字n的平均值為5-20;和(B)，具有總分子數MB，其中，所有分子的數字n的平均值為30-200。根據本發(fā)明偏振染料分散體的一些實施方式，MA/MB的比值在1/10至10/1范圍。根據本發(fā)明偏振染料分散體的其他一些實施方式，MA/MB的比值在1/10至1/5范圍。本發(fā)明人驚奇地發(fā)現，這種具有長聚乙烯氧基鏈的表面活性劑分子和具有相對較短聚乙烯氧基鏈的表面活性劑分子的組合，且具有比例較高的具有相對較長聚乙烯氧基鏈的表面活性劑分子時，按照本發(fā)明形成的偏振制品具有極高偏振效率和極低霧度。根據本發(fā)明偏振染料分散體的一些實施方式，(A)組中的表面活性劑分子的多分散性指數為1-2，(B)組中的表面活性劑分子的多分散性指數為1-2。表面活性劑分子的多分散性指數(PI)定義為該表面活性劑材料的重均分子量)與數均分子量(冗)的比值尸/L14根據本發(fā)明偏振染料分散體的一些實施方式，所有非離子型表面活性劑分子的數均分子量為620-10，000克'摩爾—'，在一些實施方式中，為700-2000克-摩爾-'；在其他一些實施方式中，為750-2000克'摩爾—、在其他一些實施方式中，為800-1800克.摩爾—'。偏振染料分散體中表面活性劑材料的含量以該分散體總重量為基準，為0.1-10重量％，在一些實施方式中為0.2-5重量％，在其他一些實施方式中為0.4-1重量％。能用于本發(fā)明的偏振染料分散體的式(I)的非離子型表面活性劑材料可以購得。例如，可以使用以下表面活性劑及其組合作為本發(fā)明的偏振染料分散體中的表面活性劑材料TergitolNP40,TergitolNP10(可從聯(lián)合碳化物化學&塑料技術公司(UnionCarbideChemicals&PlasticsTechnologyCorp.)獲得)，Ig印al⑧CO720,Ig印al⑧CO890，IgepalCA720,Ig印al⑧DM970(從GAF公司獲得)，LutensolNPIOO，LutensolNP10(從BASF獲得)。發(fā)現其中的TergitolNP40對本發(fā)明的一些實施方式特別有益；TergitolNP40和Ig印al⑧C0720的組合特別有益于其他實施方式。本發(fā)明的偏振染料分散體中的偏振染料分子可以是二向色染料。描述這類二向色染料的文獻包括例如，美國專利第2,400,877號和WO00/22463。在偏振染料分散體中可以使用單一的二向色染料為最終光偏振產品提供偏振效應以及所需的顏色或色調如灰色。但是，并不排除在光偏振層中使用各種二向色染料的組合。確實，本領域技術人員已知具有紅色、黃色至藍色的色彩的各種二向色染料可以單獨使用或者以不同比例組合使用，為成品提供所需的偏振效應和顏色。許多偏振染料分子是有機化合物。在本發(fā)明偏振染料分散體的一些實施方式中，至少一部分的偏振染料分子在其分子結構上具有離子基團。離子基團可以具有負電荷或正電荷。在一些優(yōu)選實施方式中，偏振染料分子具有陰離子基團。具有陰離子的偏振染料分子在與特定陽離子成對形成水溶性鹽時可以是水溶性的，并且在沉積于表面時通過離子交換為另一種離子的水不溶性鹽致使為水不溶性的。例如，一些偏振染料分子在與NH入Na+或K+離子成對時是水溶性的，但是一旦與含A產、Ca2lP/或Mg^的水溶液交換，這些分子以水不溶性鹽的形式沉淀。本發(fā)明的光偏振制品的一些實施方式中，光偏振染料層可以按這種方式形成。可用于本發(fā)明的偏振染料分散體的各種實施方式的商業(yè)可得的偏振染料的非限制性例子列于下面表I。本領域的技術人員按照本發(fā)明的揭示內容，依據使用的具體染料、在最終光偏振產品中產生所需偏振效果所需要的染料量、偏振染料在選擇的溶劑中的溶解度、制造光偏振產品過程中應用偏振染料分散體的方法等，可以選擇本發(fā)明偏振染料分散體中偏振染料分子的用量。例如，在包含其結構上具有離子基團的二向色染料的本發(fā)明偏振染料分散體的一些實施方式中，偏振染料分散體中偏振染料的總量以該分散體的總重量為基準可以在O.1-8重量％范圍，在一些實施方式中為0.5-8重量％，在其他一些實施方式中為1-6重量％，在其他一些實施方式中為3-5重量％。IC.I.直接藍67Na03SOCH，《^~N=N~^~N=N~fT^T^^1/^\《y。HH3CNa03SWHNaO，SC.I.直接橙72SO,,0CH:!^\z/—、hIJ^^I^^pN二N~、》-NCOh3cS03NaC.T.直接紅83jOHOHOHHCl^Na03SNa03S^^^『C01^^^No3Na，s，C.I.直接綠59NHOH}~^~^/~^N~/H,C—OS03Na《^>~N~<^,NCOONa^~^~~N二N~<^~^~OH16c.I.直接紫48"Cui-Cu-OH3CHN02SNaC^S^^^^^^^^SC^NaSONaC.I.酸性紅37H2NCH3—CO_NH~<^~~N二N~~S03NaC.I.直接黃343、0OMe1HHT_^N、zN\S03Naf丫丫丫，"3他S03NaS03NaC.I.直接綠26COONaN=NHNNaO,S"^義H3C^齢/MN=<w^OMeNa03SC.I.直接綠51Na03S0"、八"^~~^《~N、~^,~(^^)S03Na^~~^Na。3SNa03S除了水、偏振染料分子和非離子型表面活性劑分子外，本發(fā)明的偏振染料17分散體可以包含(i)需要的其他溶劑如醇；(ii)其他表面活性劑，如陰離子型表面活性劑，陽離子型表面活性劑，兩性表面活性劑，或者它們的混合物和組合；(iii)增粘劑；(iv)增塑劑；(V)向最終產品提供所需顏色或色調的非偏振染料等，只要這些其他組分具有以下作用即可(A)對光偏振層與制品結構中的其他層的粘合性不產生顯著的負面影響，禾n(B)對將在最終光偏振產品中形成的光偏振染料層中的偏振染料的偏振效應不產生顯著的負面影響。本發(fā)明的偏振染料分散體可以以各種方式制備。一種方法涉及將偏振染料分子、表面活性劑材料和其他組分溶解于溶劑中，形成單一分散體。如果由此制備的分散體可以在短時間內使用，該方法是優(yōu)選的。根據一些實施方式，分散體的特定組分例如偏振染料分散在水之類的溶劑中，形成第一分散體，同時其他組分例如表面活性劑材料分散在相同或不同的溶劑中形成第二分散體，并在使用之前將第一和第二分散體混合在一起。如果包含所有必要組分的偏振染料分散體的穩(wěn)定性不足以長時期儲存和貨運，而第一和第二分散體在混合之前是穩(wěn)定的，則這種兩步方法是特別有益的。本發(fā)明人發(fā)現，在本發(fā)明的各實施方式中，具有前面所述特性的通式(I)的聚乙二醇(PEG)基非離子型表面活性劑對包括由本發(fā)明的偏振染料分散體形成的偏振染料層的偏振制品達到高偏振效率和低霧度特別有益，其原因可能是這種表面活性劑促進偏振染料分子在染料分散體中或者染料分散體沉積在表面并形成偏振染料層之后的自對齊的能力較高。本發(fā)明第二方面涉及光偏振制品，該制品包括第一功能層，該功能層包含多個對齊的偏振染料分子，其特征在于，第一功能層還包含非離子型表面活性劑材料，該材料包含多個具有通式(I)的表面活性劑分子，前面已經結合本發(fā)明的偏振染料分散體描述了表面活性劑分子。通常，為獲得眼科用途以及許多其他用途的光偏振制品，需要在光偏振層上具有第二功能層，為最終制品提供所需的物理性質和化學性質。這種所需的物理性質和化學性質包括抗劃性、斥水性和/或斥污性、防霧性、抗反射性、特定色彩或光的濾除性。如果第二層直接在光偏振層上面并與其鄰接，則在制品的整個使用周期內要求在第二功能層和光偏振層之間具有高粘合性。但是，本發(fā)明人已經發(fā)現，在一些實施方式中，偏振染料層和傳統(tǒng)的抗劃涂布材料的粘合性沒有達到要求的可靠性。發(fā)現延長與光、高溫、高濕度、水、鹽水、汗水以及它們的組合的接觸時間可能降低光偏振層與第二功能層之間的妙A^口口°本發(fā)明人不希望或不必受具體理論的束縛，相信這是因為偏振染料分子的結構的離子特性和典型第二功能層或中間層的非離子特性所致。偏振染料分子的分子結構上存在的離子如果沒有成對形成固定的抗衡離子，則在潮濕條件下偏振產品的使用壽命期限可能吸引濕氣和水，造成偏振染料層和第二功能層之間的界面的腐蝕。因此，為解決偏振染料層和第二功能層之間粘合的耐久性不足的問題，在本發(fā)明的一些實施方式中，在偏振染料層和第二功能層之間引入一定的材料層是有益的，該材料層具有的固定離子電荷與光偏振層中偏振染料分子的電荷相反，或者該材料層能夠形成其電荷與光偏振層中偏振染料分子的電荷相反的固定離子。固定的抗衡離子至少部分地與偏振染料分子固有的離子成對。因此，可以減少、抑制或消除水穿透到偏振染料層和第二功能層之間的界面中，因此改進了粘合的耐久性。因此，在本發(fā)明的一些實施方式中，本發(fā)明的光偏振制品包括第一功能層(i)(即，光偏振層)，其包含多個其上具有離子的光偏振分子，以及在光偏振層上的第二功能層(ii)，其中，在第一功能層(i)和第二功能層(ii)之間以及與第一功能層(i)鄰接處，存在第一連接層(iii)，該層包含一定的分子結構，該分子結構帶有的離子基團的電荷與第一功能層的偏振染料分子的電荷相反，或者該分子結構帶有的基團能夠形成其電荷與第一功能層的偏振染料分子的電荷相反的離子。本發(fā)明的制品可以包括光透射基片，在該基片上形成各功能層和連接層?；砻嫔暇哂腥芜x的無機粘合層以改進第一功能層與基片的粘合性。在形成上述各層之前，光透射基片可以是各種形狀?；哂兄辽僖粋€可以是平坦的或是起伏的表面?；梢允瞧教蛊?、具有不同厚度的圓柱體坯件，或者對眼科產品，坯件具有至少一個起伏表面，例如凹面、或凸面、或者凹面和凸面。第一功能層、第一連接層和第二功能層在表面的至少一部分上形成。并不排除基片具有一個以上的表面，可能存在的各層在一個以上的表面上形成。例如，基片可以具有基本上相互平行的兩個表面，或者基本上彼此相對的兩個表面，在這兩個表面上都沉積了無機粘合層和偏振染料層。選擇在兩個表面上形成的兩個偏振層的偏振方向，使它們相互平行或者垂直，或者形成一定的角，這取決于本發(fā)明光偏振制品的用途。具體地，對眼科鏡坯，要求在下游不再進一步19加工的一側上形成光偏振層。對處方鏡坯，該側通常是凹側。對制成的產品例如庫存的眼科透鏡和平面太陽鏡，可以在任一側上形成光偏振層，因為之后一般不需要對透鏡表面進一步研磨。光透射基片可具有例如無機玻璃或有機聚合物構成的主體。作為這類無機玻璃的例子，有典型的堿土金屬鋁硅酸鹽玻璃、硼鋁硅酸鹽(Pyrex⑧)玻璃、摻雜和未摻雜的熔凝硅石玻璃、透明玻璃-陶瓷材料和晶體材料，如CaF2、MgF2等。具體地，對眼科產品，特別有益的無機玻璃材料是在例如美國專利第4,839,314號、第4404290號和第4,540,672號中所述的那些。特別優(yōu)選在例如美國專利第4，742，028號和第6，121，176號中揭示的高折射率無機玻璃材料。許多聚合物材料已經用作光學制品包括眼科產品的基片材料。這類聚合物可以是聚酰胺、聚酯、聚酰亞胺、聚砜、聚碳酸酯、聚氨酯、聚氨酯-脲、聚烯烴、苯酚樹脂、環(huán)氧樹脂等。作為適合用于光透射基片的有機聚合物的非限制性例子，有多元醇(烯丙基碳酸酯)單體的均聚物和共聚物，如PPG光學產品(PPGOpticalProducts)以商標CR-39⑧銷售的二甘醇二(烯丙基碳酸酯)，單官能或多官能(甲基)丙烯酸酯的均聚物和共聚物、乙酸纖維素、三乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、乙酸-丙酸纖維素、聚乙烯(乙酸酯)、聚(乙烯醇)、聚(氯乙烯)、聚氨酯、聚氨酯-脲如分別由PPG光學產品和IntercastEuropeSpa銷售的TRIVEX或NXT、聚(硫尿烷)、聚酰胺、聚碳酸酯如源自雙酚-A以及以商標LEXAN⑧銷售的碳酰氯(phosgene)的那些、聚酯如聚(對苯二甲酸乙二酯)、聚苯乙烯、苯乙烯和甲基丙烯酸甲酯或丙烯腈的共聚物、環(huán)狀聚烯烴共聚物(COC)、無定形聚烯烴如ZEOP公司的Zeonex等。光透射基片主體可以是光致變色或非-光致變色的。光致變色的無機玻璃材料及其制備方法的非限制性例子在例如美國專利第5,426,077號和第5,023,209號中揭示。光致變色的聚合物材料及其制備方法的非限制性例子在例如美國專利第6,248,285號和第6,329,482中揭示。光透射基片的主體可以是有色的或者是無色的。本領域廣泛描述了有色的無機玻璃材料及其制造方法。有色的聚合物材料可以通過在聚合之前在單體中加入例如各種有機染料，或者用有機染料浸漬聚合物基質制備。光透射基片除了包括主體外，還包括多層各種類型的表面涂層。例如，基片可以具有抗反射涂層、通常用于眼科產品的硬質涂層、光致變色涂層、著色涂層、UV濾光涂層、紅外光吸收涂層等。本領域的技術人員了解這些涂層，尤其是眼科產品相關的涂層。按照本發(fā)明的第一功能層可以形成在這些表面涂層上，或者形成在不同于形成涂層的表面或與該表面相反的表面上。光偏振層(如第一功能層)通常形成在光透射基片的至少一個表面的至少一部分上。光偏振層至少部分地為本發(fā)明偏振制品提供光偏振性質。光偏振層可以包含至少一種光偏振染料(例如前面所述的二向色染料)作為活性組分。染料分子的取向能使它們?yōu)楸景l(fā)明制品提供所需的偏振效應。但是，除了染料外，光偏振層還包含其他組分，例如，增粘劑、增塑劑、非偏振染料和表面活性劑，為最終產品提供所需的顏色或色調等，只要這些其它組分具有以下性能即可(i)對光偏振層與制品結構中的其他層的粘合性沒有顯著的負面影響，和(H)對該層中二向色染料的偏振效應沒有顯著的負面影響。前面結合本發(fā)明的偏振染料分散體描述了可用于本發(fā)明光偏振產品的各實施方式的光偏振染料。在一些實施方式中，偏振染料是具有供色基團的有機化合物。如果通過各種方式，例如機械、電或者磁的方式，使這種分子的鏈在特定方向對齊，則分子的矩陣能夠優(yōu)先使具有指定方向電場的光通過，因此具有偏振效應。在本發(fā)明光偏振制品的一些實施方式中，如前面結合本發(fā)明的偏振染料分散體所述，在第一功能層中的至少一部分的偏振染料分子在分子結構上具有離子基團。在本發(fā)明的光偏振制品的一些實施方式中，第一功能層優(yōu)選包含至少能部分固定光偏振染料分子的穩(wěn)定組分。穩(wěn)定組分可以向制品提供顏色或偏振性質，或者不提供。例如，使用具有陰離子的偏振染料分子時，光偏振層中包含聚硅氧垸。適當固化的聚硅氧烷例如聚氨基硅氧烷和/或聚環(huán)氧基硅氧烷，具有長聚合物鏈和/或交聯(lián)的網狀結構，能部分地固定偏振染料分子。本發(fā)明人發(fā)現，一些具有陰離子的偏振染料為AI3+，Mg2lBC+的鹽形式時，在低溫(例如約0'C)條件下在水中的溶解度很低。但是，在較高溫度如約IO(TC，或者甚至在熱陽光下，如果這種偏振染料沒有通過聚合物鏈或分子固定，則與濕度和/或液體水(如汗水)長時間接觸可能使偏振染料分子的顯著部分移動，引起偏振效率下降，產生霧度，或者甚至分層。在第一功能層中存在附加聚硅氧烷聚合物時，偏振染料分子的運動可以顯著減少，因此明顯提高了偏振染料層的耐熱水性和耐汗水性。在一些實施方式中要求第一功能層基本上是單一層，即使第一功能層包含21穩(wěn)定劑如聚硅氧垸也是如此。"基本上是單一層"表示當以亞微米級尺度觀察時，光偏振染料分子基本上均勻分布在整個層中。為達到高偏振效率，例如高于95%的偏振效率，在一些實施方式中大于98%，要求光偏振染料分子在同一方向基本上對齊。在本發(fā)明的光偏振制品的一些實施方式中，要求第一功能層在基片上原位形成，該基片可以包括下面詳細描述的無機粘合表面層或者不包括該層。在一些實施方式中，要求基片表面例如無機粘合層的表面在外側(遠離基片側)包含許多細微溝槽，將第一功能層沉積在細微溝槽之中和之上。在一些實施方式中，要求細微溝槽相互基本平行。在一些實施方式中，要求細微溝槽為亞微米尺寸。即，要求溝槽的寬度和深度小于1微米。按照美國專利第2,400，877號中所述，溝槽用來提供偏振染料分子在光偏振層中的取向。光偏振層優(yōu)選包含至少一種在存在細微溝槽時自身能取向的二向色染料，以提供光偏振效應。這類偏振染料在細微溝槽中的結構在FR0312686和歐洲專利申請公開第1674898號中揭示，對本發(fā)明特別有利。該結構簡單，易于制造，并能在整個表面提供一致的偏振效應，而不會歪曲最終制品的光控制能力。在這種結構中，要求偏振染料分子在制品的壽命期間在正常使用條件下能穩(wěn)定限制在其局部位置中。與偏振膜和晶片相比，偏振染料分子因加熱和其他條件失去其取向的可能性很小。也就是說，與現有技術使用偏振膜和/或晶片的偏振制品相比，可以使本發(fā)明光偏振制品的一些實施方式具有更高熱穩(wěn)定性。本發(fā)明的一些實施方式的光偏振制品還包括第二功能層。第二功能層可以是例如硬質涂層(或抗劃層)、耐水層(抗霧化層)、抗反射層、UV吸收層、IR吸收層、光致變色涂層等，以及它們的組合。第二功能層可基于各種材料，例如有機聚合物(如，聚(甲基)丙烯酸酯、聚酰胺、聚酰亞胺、聚酯、聚砜、聚氨酯、聚氨酯-脲等)、聚硅氧烷(如，聚環(huán)氧基硅氧烷、聚乙氧基硅垸、聚甲氧基硅垸等)，無機材料(例如，用于為制品提供抗反射性質的多層各種金屬的氧化物)。第二功能層可以進一步著色。第二功能層在如結構和/或組成方面不同于第一功能層。如上所示，在本發(fā)明偏振制品沒有第一連接層(iii)時，具有離子基團的第一功能層和第二功能層之間的粘合性會不足，即使在第一功能層中包含了穩(wěn)定劑來固定偏振染料分子也是如此。本發(fā)明人已經發(fā)現，在經歷高溫和高濕度時，或者在模擬或真實的使用條件下接觸人工汗水或真實汗水時，在第一功能層和第二功能層之間沒有連接層的偏振制品、尤其在第二功能層是基于有機聚合物材料例如聚(甲基)丙烯酸酯和/或聚硅氧垸時，第一功能層和第二功能層之間的結合強度下降。本發(fā)明人驚奇地發(fā)現，在第一功能層包含具有離子基團的偏振染料分子的實施方式中，通過在本發(fā)明第一功能層和第二功能層的表面之間包括第一連接層，第一和第二功能層之間的粘合性及其耐久性顯著提高，且不會犧牲制品的其他所需性質，如偏振效率和第二功能層的所需功能。在一些實施方式中，光偏振制品的第一連接層(iii)優(yōu)選具有以下結構，該結構帶有的離子基團的電荷與第一功能層的偏振染料分子的電荷相反，或者該結構帶有的基團在使用條件下能形成其電荷與第一功能層的偏振染料分子的電荷相反的離子。不希望受到特定理論的束縛，本發(fā)明人相信，第一連接層結構上具有的抗衡離子可以與第一功能層的偏振染料分子具有的離子成對，形成強離子鍵，進一步固定偏振染料分子并提高第一功能層和第一連接層(iii)之間的結合性。要求第一連接層具有物理性質類似于第二功能層的特定結構單元，使得在第一連接層(iii)和第二功能層(ii)之間具有高結合強度。在一些實施方式中，要求(a)第一連接層具有一定的結構，該結構帶有的基團能與第二功能層(ii)的材料反應，以形成強烈耐久的化學鍵；或(b)第一連接層具有一定的結構，該結構帶有的基團能與第二功能層(ii)的材料形成氫鍵，使在第一連接層(iii)和第二功能層之間具有強烈耐久的粘合性。因此，例如在本發(fā)明的光偏振制品的第一功能層(i)的偏振染料分子具有陰離子如-S(V、-COO—等時，要求第一連接層(iii)包含的結構具有陽離子基團或者在使用條件下能形成陽離子基團的基團，反之亦然。在一些實施方式中，要求第一連接層(iii)是聚硅氧烷層。當要求第一連接層(iii)具有陽離子基團時，該層可包含以下互連結構單元或其質子化衍生物r，Ir,r2I2oIr4I&4/N\I/N、I4I4r<、r—si-o—r<r廠Si-o—r「Si_r513I'3iJ3!50001(a)，1(b),1(c)，23<formula>formulaseeoriginaldocumentpage24</formula>R,在各情況下可以相同或不同，獨立地選自氫、取代和未取代的C1-C6垸基、取代和未取代的C3-C7環(huán)烷基、取代和未取代的苯基，R平8R，~N一R5ZN、，和7'9R廣R9—R10，其中，R7、Rs和R,。在各情況下可以相同或不同，獨立地選自取代和未取代的C1-C6烷基、取代和未取代的C3-C7環(huán)烷基、以及取代和未取代的苯基，和R9在各情況下可以相同或不同，選自取代和未取代的Cl-C6亞垸基、取代和未取代的亞苯基、以及取代和未取代的氧化烯基，R2在各種情況是相同或不同的，可獨立地選自氫、取代和未取代的C1-C6烷基、取代和未取代的C3-C7環(huán)烷基、以及取代和未取代的苯基，R3在各種情況下可以相同或者不同，獨立地選自取代和未取代的Cl-C6亞院基，Ri和Rs在各種情況下可以相同或不同，它們獨立地選自取代和未取代的C1-C6垸基、取代和未取代的C1-C7環(huán)烷基、以及取代和未取代的苯基，和R6在各種情況下可以相同或不同，獨立地選自取代和未取代的CI-C6垸基、取代和未取代的Cl-C7環(huán)烷基、以及取代和未取代的苯基。上述結構單元可在不同位置以不同方式如重復或順序(作為重復單元)，或作為端部單元，或作為網狀結構中間的孤立結構存在于直鏈或交聯(lián)的總體結構中。上述結構中的胺基團可以是陽離子基團(為季胺基團的情況)，或者在使用條件下為部分質子化(即，在形成光偏振制品中的偏振層時)。不希望受到任何特定理論的束縛，本發(fā)明人相信在使用條件下聚硅氧垸結構中存在的OH基團可以與伯胺基團、仲胺基團和叔胺基團反應，形成相應的質子化的胺基團。在一些實施方式中，第一連接層(iii)包含以下聚合物y-氨基丙基三甲氧基硅垸、廠氨基丙基三乙氧基硅垸、N-^-(氨基乙基)-y-氨基丙基三甲氧基硅垸、N-^-(氨基乙基)-y-氨基丙基三乙氧基硅垸，以及它們的混合物和組合。24在本發(fā)明光偏振制品的一些實施方式中，可能存在的第一連接層的厚度優(yōu)選小于1微米，在一些實施方式中為5-500納米，在其他一些實施方式中為5-200納米，在其他一些實施方式中為5-100納米，在其他一些實施方式中為5-50納米。為了在本發(fā)明的光偏振制品的第一連接層(iii)和第二功能層之間達到最佳粘合性，在一些實施方式中要求在第一連接層和第二功能層之間存在第二連接層。這種第二連接層可以包含例如聚環(huán)氧基硅氧烷、聚(甲基)丙烯酰氧基硅氧烷等。在本發(fā)明的光偏振制品中，要求在光透射基片上存在至少一個無機粘合層，第一功能層(光偏振層)位于該粘合層上，如上所述。如歐洲專利申請公開第1674898號中所述，在本發(fā)明的光偏振制品的一些實施方式中，雖然光偏振染料的特性是有機物，但是它們與形成基片表面部分的無機粘合層結合，如在下面以及歐洲專利申請公開第1674898號中詳細描述的，會比聚合物中間層強度更高，如FR0312686中揭示的。此外，無機粘合層借助于任選無機子層會與大多數基片材料具有高結合強度，所述基片材料包括無機玻璃基片和有機聚合物基片(可進--步包括在其上形成無機粘合層和任選子層的表面層，如下面詳細描述的)。要求無機粘合層是硅氧化物、金屬氧化物或者它們相容的混合物和/或組合。優(yōu)選無機粘合層由選自以下的材料形成SiO，Si02,A1203，Zr02，Ti02，Ge02，以及它們的混合物和組合。在一些實施方式中，無機粘合層由Si02形成。本發(fā)明人已經發(fā)現，無機粘合層，尤其是由Si02形成的粘合層，在具有附加表面涂層或沒有附加表面涂層的條件下，可與無機玻璃材料和有機聚合物材料構成的基片形成強鍵。一般而言，無機粘合層在使用偏振制品的波長范圍應具有所需的光透射性質。還假設可以使用多層不同組成的無機材料作為無機粘合層。優(yōu)選使用多層結構來降低在無機粘合層和基片之間的界面上的反射?？赡艽嬖诘臒o機粘合層的厚度為微米級尺度。中間層的厚度應能足以形成細微溝槽但不會露出基片表面。在本發(fā)明光偏振制品的一些實施方式中，無機粘合層的厚度小于10微米，在一些實施方式中小于5微米，在其他一些實施方式中小于l微米。一般而言，對等離子體沉積，涂層越薄，則沉積所需的時間越少。對特定基片，為了在無機粘合層和基片材料之間達到高粘合性，要求在無機粘合層和基片之間形成薄的無機子層。子層的組成不同于無機粘合層的組成。子層通常由硅、元素金屬、金屬氧化物或硅氧化物形成。作為元素金屬的非限制性例子，有鉻、鉬、鎳、鈦、鐵以及它們的相容組合和/或混合物。作為金屬氧化物的非限制性例子，有八1203、Zr02、Ti02、Ge02以及它們的混合物或組合。氧化硅可以是SiO和/或Si02。在一些實施方式中，所需的子層材料是鉻金屬和SiO，尤其對Si02中間層而言。子層一般比無機粘合層薄得多，通常在納米級尺度。當由元素金屬如鉻形成子層時，為了保證足夠的透射，要求子層的厚度很小。通常，子層的厚度小于300納米，在一些實施方式中小于100納米，在其他一些實施方式中小于20納米。無機子層可以是原子或分子的單層。無機粘合層和子層的組合的非限制性例子有(i)SiO子層和Si02中間層；(ii)鉻金屬子層和Si02中間層。發(fā)明人相信，SiO子層和Si02中間層的組合對由CR39(二烯丙基碳酸二甘醇酯的熱固性合成樹脂)構成的基片特別有效。用于該聚合物的單體具有以下結構oII,CH2CH20—C—0—CH2CH=CH2O、、CH，CH，0—C—O—CH7CH=CH722II22o根據本發(fā)明的一些實施方式可以制造各種偏振制品用于從uv至可見光至紅外光的寬波長光譜范圍。在一些實施方式中，尤其對眼科應用，本發(fā)明的光偏振制品能用于可見光波長范圍。本發(fā)明的光偏振制品可以應用于許多器件。所述應用的非限制性例子包括眼科產品；顯示器產品，特定的液晶顯示器包括LCD監(jiān)視器和LCD投影儀；用于媒介物(vehicle)的偏振窗，包括地基、空氣基的和水基媒介物；面掩模(facemask);護罩；建筑物玻璃等。一般而言，本發(fā)明制造光偏振制品的方法包括以下步驟(A)提供具有至少一個表面的光透射基片；(B)在基片表面上形成多個細微溝槽；(C)用上面所述的偏振染料分散體涂覆具有細微溝槽的表面；和(D)在該表面上形成偏振染料層。本發(fā)明的一些實施方式中，所述方法還包括以下步驟(F):(F)在光偏振層上形成第二功能層。在本發(fā)明方法的一些實施方式中，所述方法還包括在步驟(D)和(F)之間的以下步驟(E):(E)在光偏振層上形成第一連接層。在本發(fā)明方法的一些實施方式中，尤其是那些涉及使用包含在分子結構中具有離子基團的偏振染料的偏振染料分散體的方法中，所述第一連接層包含一定的分子結構，該分子結構帶有的離子基團的電荷與光偏振層中的偏振染料分子的電荷相反，或者該分子結構帶有的基團能形成其電荷與光偏振層中的偏振染料分子的電荷相反的離子。如歐洲專利申請公開第1674898號所述，為了在光透射基片和光偏振層之間達到高粘合性，要求步驟(A)包括如下子步驟(A2):(A2)在基片表面上沉積無機中間增粘層；和步驟(B)包括在無機中間增粘層的表面上形成多個細微溝槽。如上討論的，對特定基片材料，要求在無機粘合層和基片之間增加無機子層，以促進無機粘合層和基片之間的粘合。因此，本發(fā)明制造這些制品的方法的這些實施方式還包括在步驟(A2)之前的附加步驟(A1):(Al)在基片和無機粘合層之間形成至少一個不同于無機粘合層的無機增粘子層；其中，在步驟(A2)中，無機粘合層直接形成在于步驟(A1)中形成的無機子層之上和鄰接處。在步驟(A)中，基片可具有以上對于本發(fā)明的光偏振制品討論的結構和組成。一般而言，這種基片在步驟(A1)和/或可能存在的步驟(A2)以及步驟(B)之前可以進行表面拋光、清潔和干燥?？梢圆捎酶鞣N表面清潔技術。有時為了活化表面從而在表面和待沉積各層之間達到更好粘合，需要采用等離子體清潔。此外，作為步驟(A)的一部分，在基片主體施加或者預先施加表面涂層。這種表面涂層可以包括例如，抗反射涂層、硬質涂層等。但是，因為可以選擇適合于各種類型基片材料的無機增粘層和無機子層，因此這些涂層沉積并不是必需的。確實常優(yōu)選不形成這些基底涂層以盡可能減少生產工藝的步驟。S卩，在基片主體施加這些附加表面涂層對特定基片材料是需要的，尤其是由有機聚合物材料構成的基片材料。在總體非限制性方式中，表面涂層可特別地基于硅烷，如烷氧基硅烷和/或氯硅烷或者與以下類型的反應性基團的組合物乙烯基、環(huán)氧基、異氰酸酯、羥基、胺、硫醇、羧酸和/或酐。這些組合物可包含單一類型的反應性基團(如，異氰酸酯)或者至少兩種上述類型的反應性基團，它們相互是非反應性的(如，異氰酸酯和乙烯基)。這種表面涂層的具體例子包括基于產氮基丙基三甲氧基硅烷、f氨基丙基三乙氧基硅垸和環(huán)氧基垸基三垸氧基硅烷的涂層。關于步驟(A1)和(A2)，采用例如以下技術可獲得無機粘合層和無機子層化學氣相沉積(CVD)法，例如等離子體增強的化學氣相沉積(PECVD)，低壓化學氣相沉積(LPCVD)、低于大氣壓的(sub-atmospheric)化學氣相沉積(SACVD);等離子體氣相沉積(PVD)法，例如離子輔助的電子束蒸鍍、非離子輔助的電子束蒸鍍以及濺射；以及溶膠-凝膠法等?；瘜W氣相沉積(CVD)是一種廣泛采用的材料處理方法。關于CVD的較好的參考書是《化學氣相沉積》(ChemicalV叩orDeposition)(J-HPark等編)'表面工程系列(SurfaceEngineeringSeries),第2巻(ASMInternational,2001年7月)。其應用主要涉及在表面施加固體薄膜涂層。簡單地說，CVD涉及使一種或多種前體氣體流入含一個或多個將要涂覆的加熱的對象的室內。化學反應發(fā)生在熱表面上及其附近，導致在表面上沉積薄膜。副產物與未反應的前體氣體一起從該室排出。PECVD、LPCVD和SACVD只是CVD技術的幾種變體。CVD可以在寬溫度和壓力范圍進行，可以有載氣或沒有載氣。元素周期表中大多數的元素都可以通過CVD技術進行沉積，一些為純元素形式，但常常是組合形成化合物。在這些CVD方法中，PECVD是用于在本發(fā)明方法中沉積無機粘合層和可能存在的子層的優(yōu)選方法。在PECVD系統(tǒng)中，RF源在頂電機和接地基片之間形成的電磁場中激發(fā)電子。激發(fā)的電子與氣體分子碰撞形成離子/反應性中子或等離子體。PECVD與熱CVD技術相比具有幾方面的優(yōu)點。第一，PECVD能夠在低得多的沉積溫度和壓力下進行。例如，使用SfflU和02或N20沉積Si02的PECVD通常在200-400。C的溫度進行，而相比之下，熱CVD要求350-550°C的溫度。其次，通過利用等離子體，離子轟擊能有助于使膜變得更致密，提高沉積速率，并促進良好的膜粘合。此外，可以達到膜的微結構和厚度的均勻性。PECVD的另一個優(yōu)點是其控制殘余膜應力的能力。通過改變工藝參數，使用者可以生產具有壓縮或拉伸應力或沒有應力的膜。等離子體氣相沉積技術不涉及在基片表面和要在其表面上沉積的材料之間的化學反應。這種蒸鍍方法中，將待沉積材料在真空條件下加熱直到材料沸騰或升華為氣體。將該氣體轉移到基片，使氣體冷卻并冷凝到基片表面上，形成沉積層。在濺射中，將待沉積材料以高速率側向拋至基片。已經開發(fā)了各種濺射技術。許多材料包括二氧化硅的薄膜可采用蒸鍍或濺射技術進行沉積。用于形成薄膜的溶膠-凝膠方法涉及將待沉積材料的溶膠-凝膠涂覆在基片表面上，然后通過干燥和熱處理形成該沉積材料的致密互連膜。在氧化硅的情況中，例如溶膠-凝膠材料可以通過水解(在酸性或堿性或中性pH條件下)烷氧基硅烷產生。將因此形成的膠態(tài)溶膠-凝膠涂覆在基片表面上，干燥并在低于30(TC進行熱處理，形成致密的涂層。如果允許，可以采用較高溫度熱處理以燒結膜達到更高致密化，例如在基片是基于無機玻璃的情況中。噴射熱解是用于沉積無機粘合層和任選子層的另一種方法。無論采用哪種涂層沉積方法，都要求涂層沉積方法不能對基片的組成和性質產生負面影響。例如，如果基片包含在高溫發(fā)生變形或降解的有機聚合物材料，則無機粘合層和任選子層的沉積必須在低于閾值溫度下進行。希望沉積的涂層與基片和其他涂層具有高粘合性。因此，特別優(yōu)選基于離子輔助沉積(IAD)、離子束濺射(IBS)、等離子體離子輔助沉積(PIAD)的方法，因為這些方法能在接近室溫條件下進行。例如IAD方法產生的涂層不僅具有良好物理性質，而且因為其涉及的溫度低而可以應用于熱敏基片，例如塑料基片。該方法使離子化蒸氣直接沉積，并通過膜生長期間的高效離子轟擊增加活化能。在PIAD中，使用與等離子體源連接的電子槍蒸鍍各種材料。真空沉積的另一個例子在美國專利第4,130,672號中描述。該專利涉及在低溫(低于12(TC)條件下在玻璃或合成樹脂的透明光學材料的表面上涂覆氧化硅SiO和二氧化硅Si02膜的方法。這種方法利用氧化硅甚至在低溫(10(TC)也能容易地真空沉積的特性。采用真空沉積的適當條件，可以容易地獲得耐久性涂層，這種涂層包括SiO和Si02層。此外，獲得的涂層具有6-7H的鉛筆硬度，是合成樹脂基片例如CR39⑧的硬度的兩倍，因此能適合通過磨料刷磨進行開槽。雖然SiO即使以較大厚度直接沉積時，在塑料基片上也具有良好的粘合性，但是仍有不希望的光吸收。因此SiO主要用于保證Si02厚層的粘合性的目的。美國專利第5,597,622號提出，如果將Si02層直接施涂，它在合成基片上的粘合性差。這種直接施涂的涂層在沸水測試中非常快速例如在5-10分鐘后分離。相比之下，如果使用SiO作為基片和Si02層之間的粘合層，則制品能夠通過沸水測試。當一起使用SiO和Si02時，必須調節(jié)相對厚度，以避免有害的反射效應。盡管SiO存在不希望的吸收，但是SiO可以用作無機粘合層，只要對厚度進行選擇以保證所述吸收在合理限度之內即可。一般地，SiO層厚度為一個分子至最大100納米。優(yōu)選厚度最大為50納米?？梢允褂幂^大厚度例如最大至500納米的SiO2。我們發(fā)現，本發(fā)明制品的適當厚度例如為100納米。如上所述，基片主體在施加無機粘合層和任選無機子層之前可以進行表面處理。例如，對特定塑料基片材料，為了獲得良好粘合性，在沉積無機粘合層和任選無機子層之前，還可以在表面上形成硅樹脂型可固化的硬層。這些硬質硅樹脂可以用作抗劃涂層。在氣相沉積Si02之前沉積硅樹脂層的例子在JP58042001中描述。我們發(fā)現，從PPG工業(yè)公司按商標HI-GARD⑧1080購得的硅樹脂特別合適并能提供可接受的粘合性和良好的透射。也需要這類硅樹脂來保證基片對采用離子或等離子體輔助的技術時候涉及的高能條件具有良好的承受能力。一般的規(guī)則是沒有硬質涂層的透鏡可以在沒有離子輔助的條件下涂覆金屬氧化物層，但是具有硬質涂層的基片一般可以在離子或等離子體輔助下涂覆硬質涂層。這對于熱穩(wěn)定性差的合成基片特別有用?？梢允褂煤鼙〉慕饘?如鉻)層以獲得氧化物層在基片上的高粘合性。確實氧化物通常不能與塑料形成強粘合。因為是金屬，該層必須很薄以防止灰色。典型粘合性金屬子層的厚度僅幾納米。用于形成細微溝槽和在其上沉積光偏振層的方法和設備已經在FR0312686、美國專利第4,683,153號和第2,400,877號中揭示。在無機粘合層的表面上形成細微溝槽可優(yōu)選通過刷磨表面實現。作為非限制性例子，由泡沫材料如聚氨酯泡沫浸以磨粒的漿料構成的旋轉輪(spinningwheel)可用于刷磨表面。磨粒漿料通常是在普通技術人員已知的領域中使用的典型拋光漿料。磨粒通常為微米級或亞微米級尺度。顆粒可以是例如A1203,Zr02Ti02，&02等，根據具體情況而定，只要這些顆粒的硬度大于待磨損表面例如無機粘合層或基片本身的材料的硬度即可。在漿料還可以加入添加劑，如粘度改進劑。本領域的技術人員可以調節(jié)進行刷磨時的刷輪旋轉速度、施加的壓力以及其他工藝參數，以在最佳刷磨時間獲得最佳刷磨結果。在沉積光偏振層之前，對中間層進行刷磨后，基片通常要徹底清潔和干燥。形成光偏振層的過程包括在已經形成有細微溝槽的表面如無機增粘層表面上涂覆前面所述的本發(fā)明的偏振染料分散體?？梢葬娪帽绢I域可以利用的各種涂覆技術，使用常規(guī)設備進行偏振染料溶液的沉積，各種涂覆技術例如有，浸涂、淋涂、旋涂、噴涂等。在有細微溝槽的表面上涂覆偏振染料分散體之后，通常需要使偏振染料不溶解并且固定在細微溝槽上。因此，本發(fā)明方法的步驟(D)可以包括使涂覆在表面上的偏振染料分子不溶解的子步驟。優(yōu)選的方式是使涂覆的基片接觸金屬鹽的水溶液。美國專利第2,400,877號揭示了用于不溶解的方法和試劑。這種金屬鹽的非限制性例子有.-A1C13、BaCl2、CdCl2、ZnCl2、SnC2等。ACl^QZnCl2因為其低毒性而被優(yōu)選。可以使用氯化物外的其他鹽。一般而言，可以使用在紡織工業(yè)中用于使染料不溶解于水的金屬鹽。例如，可以使用A1、Fe、Cr、Ca、Mg等的金屬鹽。此外，使染料分子不溶解的材料可以是含多種酸、各種金屬的鹽和/或堿的緩沖溶液或懸浮液。例如，固定特定的具有磺酸基的偏振分子的一種組合是包含以下組分的pH約為4的水分散體(i)A1C13,(ii)Mg(0H)2和(iii)Ca(0H)2。通過金屬鹽達到這種不溶解的結果是偏振染料分子以室溫下水中低溶解度鹽的形式沉淀。但是，如上所述，這種沉淀的鹽在相對較高溫度條件下在水中仍具有不能接受的溶解度，或者在長期接觸汗水和/或其他水源之后發(fā)生移動。在本發(fā)明的一些實施方式中，步驟(D)在使偏振染料分子不溶解之后還包括將偏振染料分子進一步固定在偏振染料層中的子步驟。因此，在一些實施方式中，要求偏振染料分子通過如分散在光偏振層中的聚合物分子進一步固定?？捎糜谶@一目的的一類聚合物是聚硅氧垸。根據一些實施方式，在偏振染料分子最初不溶解化之后，用硅氧垸或至少一種硅氧垸的預聚物的分散體浸漬偏振染料分子層。一般要求能夠使硅氧烷或硅氧烷預聚物滲透并分布在整個光偏振層上。在一些實施方式中，要求浸漬至少5分鐘，在一些實施方式中至少10分鐘，在一些實施方式中至少15分鐘。浸漬之后，一些實施方式中要求漂洗光偏振層以避免在表面上形成獨立的硅氧烷和/或硅氧烷預聚物層。本發(fā)明人不希望受到任何特定理論的束縛，本發(fā)明人相信這樣可以避免由任何獨立硅氧垸層進一步聚合引起的偏振染料分子的胡亂取向。在進行浸漬和漂洗之后，在一些實施方式中要求對光偏振層進行溫和熱處理，通過該熱處理使分布在光偏振層中的硅氧垸和/或硅氧烷預聚物聚合和/或交聯(lián)，形成捕集光偏振染料分子的聚合物基質。為了獲得高偏振效率的制品，要求偏振染料在具有添加劑如液晶聚合物的幫助或沒有這種幫助的條件下以平行形式例如在細微溝槽方向對齊。在一些實施方式中要求光偏振層基本是單層。這樣能夠使偏振染料分子精確對齊因此具有高偏振效率。如上面討論的，為了改進使用條件下在光偏振層和其上的附加功能層例如保護涂層之間的粘合性和粘合耐久性，本發(fā)明方法的一些實施方式包括在光偏振層與附加功能層之間形成第一連接層的步驟。本發(fā)明人發(fā)現第一連接層有益于改進包含帶有陰離子的偏振染料分子的光偏振層與包含聚硅氧烷和/或聚(甲基)丙烯酸酯的保護涂層之間的粘合性。如上面討論的，可能存在的第一連接層具有一定的結構，該結構帶有的離子基團的電荷與光偏振層的偏振染料分子的電荷相反，或者該結構帶有的基團在使用條件下能形成其電荷與光偏振層的偏振染料分子的電荷相反的離子。光偏振染料分子的抗衡離子與第一連接層形成強鍵，提高了光偏振層和第一連接層之間的粘合性。此外，在光偏振層包含聚合物固定劑(i醒obilizer)例如聚硅氧垸時，要求第一連接層能與聚合物固定劑反應形成共價鍵，因此在光偏振層和第一連接層之間的界面上形成分子結構的網狀物，進一步提高兩個層之間的粘合性，固定偏振染料分子，尤其是在界面處或者靠近界面的那些染料分子。因此，對具有陰離子基團例如磺酸基團的光偏振染料分子，第一連接層具有帶陽離子基團或者在使用條件下能形成陽離子基團的基團的結構。第一中間層可優(yōu)選基于包含結合本發(fā)明的光偏振制品所述的結構(a),(b),(c),(d),(e)和(f)的聚硅氧垸。這種聚硅氧烷層可以通過本領域技術人員已知的方法形成。一般而言，在這些實施方式中，可以使具有所需分子結構的硅氧烷或硅垸在水性介質中在有各種堿性或酸性催化劑存在或不存在的條件下水解，進行預縮合或者不進行預縮合，然后采用例如浸涂、噴涂、旋涂、淋涂等施加到目標表面。使涂層干燥，有時加熱至涂層能進一步聚合(例如通過縮合)的升高的溫度，以獲得牢固的涂層。因此，本發(fā)明的一些實施方式的方法的步驟(D)可以包括使至少部分溶劑從涂覆的偏振染料分散體蒸發(fā)的子步驟。制成的本發(fā)明光偏振制品足夠牢固，能承受最終光偏振制品例如眼科透鏡的常規(guī)預期用途的磨損和撕裂，所述最終制品能經受寬范圍溫度波動，高濕度，直接陽光以及可能的雨水和汗水。在許多情況中，通常需要在光偏振涂層上面的進一步的保護涂層。因此，在本發(fā)明方法的一些實施方式中，進行進一步的步驟(F)，以在光偏振層上形成進一步的保護層。如上面討論的，為了在第一連接層和保護層之間達到最佳粘合性，在一些實施方式中需要在形成保護層之前在第一連接層上面形成第二連接層。第二連接層在結構和/或組成方面不同于第一連接層。通常，要求第二連接層的結構基本不含離子。還要求第二連接層可以和第一連接層在界面反應，形成共價鍵和/或氫鍵，以在它們之間達到高結合強度。例如，當第一連接層包含聚硅氧烷時，第二連接層可以基于不同的聚硅氧烷。在固化步驟期間，要求兩個層的表面基團(如-OH基團)發(fā)生反應(如縮合)形成共價鍵(如-Si-O-Si-連接)，因而在界面形成牢固的網狀結構。能用于第二連接層的特別有用的材料種類基于聚環(huán)氧基硅氧烷，尤其在第一連接層是基于具有陽離子的聚硅氧烷的情況中。與上面所述的基片上的表面涂層類似，在步驟(F)中形成的保護涂層可以是基于硅烷如烷氧基硅烷和/或氯硅垸的聚硅氧垸，或者是基于以下類型的反應性基團的組合物乙烯基、環(huán)氧基、異氰酸酯、羥基、胺、硫醇、羧酸和/或酐。這些組合物可包含單一類型的反應性基團(如，異氰酸酯)或者至少兩種上述類型的反應性基團，它們相互是非反應性的(如，異氰酸酯和乙烯基)。這種表面涂層的具體例子包括基于7-氨基丙基三甲氧基硅垸、產氨基丙基三乙氧基硅垸和環(huán)氧基烷基三烷氧基硅垸的涂層。這些保護層是可涂色的(tintable)(因此是涂色的或未涂色的)或者不可涂色的，取決于最終偏振制品的應用。用于這類保護層的可商購的涂料組合物的非限制性例子包括由UV可固化的樹脂(如來自LESCO的不可涂色的C4000-60、C5050-60和可涂色的C5051-60、CRC-12，來自透鏡技術LLC的SCH180、SHC3100和SHCArmour500)獲得的UV固化的涂層；熱固化的涂層，例如由Tokuyama公司以TS56H或TS56T商品名銷售的雙組分硬質涂層溶液獲得的那些涂層，它們分別是不可涂色和可涂色的，或者來自PPG工業(yè)公司的單組分HI-GARD⑧1080或HI-GARD⑧1035涂料溶液。在保護涂層上可形成附加的任選涂層。這些涂層包括但是不限于疏水性(斥水或防霧)涂層；紅外吸收涂層；UV吸收涂層；抗反射涂層；光致變色涂層；減振涂層(吸收沖擊的撓性涂層)等。這些涂層還可以形成在基片與無機粘合層、任選子層和光偏振層相背的一側上。圖1圖示說明本發(fā)明方法的一個實施方式。但是，該方法不包括形成第一連接層(iii)的步驟。因此，圖1中所示的最終光偏振制品在光偏振層和保護層之間沒有第一連接層(iii)。在步驟(l)中，提供基片主體101。在步驟(2)中，在基片主體101的一個表面上形成硬質表面涂層103。在步驟(3)中，在表面層103的頂部形成無機子層105。在步驟(4)中，在子層105的頂部形成無機粘合層107。因此IOI，103，105和107的組合形成本申請意義上的基片100。在步驟(5)中，對無機粘合層107進行刷磨操作，以在其頂部表面上形成許多基本平行的細微溝槽109。在步驟(6)中，將偏振層111沉積在細微溝槽109的頂部。在步驟(6)中，將本發(fā)明的偏振染料分散體施加在具有許多細微溝槽的表面上、使之不溶解、任選固定、并干燥。在步驟(7)中，在光偏振層109的頂部形成保護層113。圖2示出本發(fā)明方法的另一個實施方式的一部分。該實施方式具有圖1中所示的方法的步驟(1)至(5)。因此，步驟(1)至(5)未在圖2中示出。圖2實施方式與圖1實施方式的較大的區(qū)別是，包括在步驟(6)和(7)之間進行的步驟(6a)，該步驟中形成第一連接層112。由上面對本發(fā)明的描述可以清楚地了解，圖2只是示出本發(fā)明的一個實施方式。在圖2示出的一些步驟在制造本發(fā)明的一些偏振制品時并不是必需的。例如，對一些基片材料可以省略步驟(2)和(3)。如上所述，本發(fā)明方法可以應用于許多不同類型的無機基片材料和有機基片材料。同樣的無機粘合層例如Si02可以沉積在不同的基片材料上以獲得類似的良好結果。因此，對不同基片材料，下游工藝步驟(C)和(D)和(E)可以使用相同的工藝參數和設備進行。這樣可以提供一致的產品質量、較高生產率和較低生產成本。一些實施方式中的制品在高濕度或沸騰測試中具有特別高的耐久性。此外，本發(fā)明的方法能夠在單獨小規(guī)模的眼科處方實驗室中以較低成本制造本發(fā)明的制品。以下非限制性實施例進一步用來說明本發(fā)明。實施例在所有實施例中，制成的透鏡進行以下光學性能測試-通過使用可見光分光光度計和偏振儀測量平行透射率(T〃)和垂直透射率(Ti)來確定偏振效率(Peff)。采用下式計算偏振效率34<formula>formulaseeoriginaldocumentpage35</formula>使用霧度計(來自BYKGardner的Haze-Gardplus)確定霧度(。/0)。透鏡基片的凸側(涂覆有氧化硅層的塑料透鏡)用浸有水基氧化鋁漿料的球形聚醚泡沫材料摩擦。然后該透鏡用去離子水仔細漂洗。下面表III中列出的活化劑組合物是可商購的表面活性劑材料A，B，C，D和E的水溶液，這些表面活性劑材料具有下表II列出的結構參數，制備所述活化劑組合物并測試它們的性能。將各活化劑以10重量％水溶液形式加入到染料水溶液中，染料水溶液包含三種偶氮染料的混合物(可從美國肯塔基州，Sterling光學公司按Varilight2S購得)。將形成的偏振染料分散體旋涂在透鏡基片的已刷磨凸側上。由旋涂速度、沉積室內的溫度和濕度控制染料溶液的干燥。染料沉積后，霧度和偏振效率如上所述進行測量。為了保護水溶性染料層，將涂覆后的透鏡基片浸漬在穩(wěn)定化溶液(氯化鋁水溶液)中然后在去離子水中漂洗。然后，將透鏡基片浸在10重量％的3-氨基丙基三乙氧基硅垸水溶液中15分鐘，然后在去離子水中漂洗，干燥和熱固化。硅烷處理和固化之后，測量霧度和偏振效率。對含單獨活化劑的偏振染料分散體的測試結果也列于下面表III。AC1是比較例，其中表面活性劑分子的數字n的平均值為8。表II<table>tableseeoriginaldocumentpage35</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage36</column></row><table>只要這些修改和變動在權利要求書和其等同的范圍之內即可。權利要求1.一種偏振染料水分散體，該分散體包含多個偏振染料分子和包含許多由以下通式(I)表示的表面活性劑分子的非離子型表面活性劑材料其中所有表面活性劑分子的數字n的平均值為9-200；m為1或2；R對各表面活性劑分子和各種情況是相同或不同的，獨立地是烷基；在各表面活性劑分子上的至少一個R是C6-C12直鏈烷基或支鏈烷基；X對各表面活性劑分子是相同或不同的，獨立地是氫或C1-C4烷基。2.如權利要求l所述的分散體，其特征在于，以分散體總重量為基準，非離子型表面活性劑濃度為0.1-10重量％。3.如權利要求l或2所述的分散體，其特征在于，表面活性劑分子可分成以下(A)和(B)兩組:(A),具有總分子數MA，其中，分子的數字n的平均值為5-20;和(B)，具有總分子數MB，其中，所有分子的數字n的平均值為30-200。4.如權利要求3所述的分散體，其特征在于，MA/MB的比值為1/10至10/1。5.根據權利要求3所述的分散體，其特征在于，MA/MB的比值為1/10至1/5。6.如權利要求3-5中任一項所述的分散體，其特征在于，(A)組中，表面活性劑分子的多分散性指數為1-2;(B)組中，表面活性劑分子的多分散性為l-2。7.如權利要求3所述的分散體，其特征在于，所有非離子型表面活性劑分子的平均分子量為620-10，000克'摩爾—。8.如前述權利要求中任一項所述的分散體，其特征在于，偏振染料分子在其分子結構中包含陰離子基團。9.一種制造光偏振制品的方法，該方法包括以下步驟(A)提供具有至少一個表面的光透射基片；(B)在基片表面上形成多個細微溝槽；(C)用前述權利要求中任一項所述的偏振染料分散體涂覆具有細微溝槽的表面；和(D)在該表面上形成偏振染料層。10.如權利要求9所述的方法，其特征在于步驟(A)包括以下子步驟(A2):(A2)在基片表面上沉積無機中間增粘層；禾口，步驟(B)包括在無機中間增粘層的表面上形成多個細微溝槽。11.如權利要求9或IO所述的方法，其特征在于，該方法還包括以下步驟(F):(F)在偏振染料層上形成第二功能層。12.如權利要求ll所述的方法，其特征在于，該方法進一步包括在步驟(D)和(F)之間的步驟(E):(E)白:接在偏振染料^上和相鄰處形成第一連接g-。13.如權利要求12所述的方法，其特征在于，步驟(E)包括形成第一連接層，該層包含一定的分子結構，該分子結構帶有的離子基團的電荷與偏振染料分子的電荷相反，或者該分子結構帶有的基團能夠形成其電荷與光偏振層的偏振染料分子的電荷相反的離子。14.如權利要求12或13所述的方法，其特征在于，在步驟(E)中，光偏振染料分子在其分子結構中包含陰離子基團。15.—種光偏振制品，該制品包括具有一個表面的基片，在該表面的至少一部分上包含多個對齊的偏振染料分子的第一功能層，其特征在于，第一功能層還包含非離子型表面活性劑材料，該材料包含多個由以下通式(I)表示的表面活性劑分子0"["CH，—CH，一O"hrCH廠CH，一OX、Rm(I)其中所有表面活性劑分子的數字n的平均值為9-200;m為l或2;R對各表面活性劑分子和各種情況是相同或不同的，獨立地是烷基；在各表面活性劑分子上的至少一個R是C6-C12直鏈烷基或支鏈烷基；X對各種表面活性劑分子是相同或不同的，獨立地是氫或C1-C4烷基。16.如權利要求15所述的光偏振制品，其特征在于，表面活性劑分子可分成以下(A)和(B)兩組:(A)，具有總分子數MA，其中，分子的數字n的平均值為9-20;禾口(B)，具有總分子數MB，其中，所有分子的數字n的平均值為40-100。17.如權利要求16所述的光偏振制品，其特征在于，MA/MB的比值范圍為1/10至10/1，優(yōu)選是1/10至1/5。18.如權利要求16或17所述的光偏振制品，其特征在于，(A)組中，表面活性劑分子的多分散性指數為1-2;(B)組中，表面活性劑分子的多分散性為1-2。19.如權利要求15-18中任一項所述的光偏振制品，其特征在于，偏振染料分子在其分子結構中包含陰離子基團。20.如權利要求15-19中任一項所述的光偏振制品，其特征在于，所述制品還包括在第一功能層上的第二功能層，以及在第一功能層和第二功能層之間的第一連接層。21.如權利要求20所述的光偏振制品，其特征在于，第一功能層中的偏振染料分子具有陰離子基團，第一連接層中的分子結構帶有的離子基團的電荷與偏振染料分子的電荷相反，或者第一連接層中的分子結構帶有的基團能形成其電荷與第一功能層的偏振染料分子的電荷相反的離子。22.如權利要求15-21中任一項所述的光偏振制品，其特征在于，第一功能層形成在基片表面至少一部分上的許多細微溝槽上。23.如權利要求15-22中任一項所述的光偏振制品，其特征在于，第一功能層還包含固定光偏振染料的聚合物。全文摘要一種新穎的偏振染料分散體，新穎的光偏振制品及使用該偏振染料分散體制造光偏振制品的新穎方法。一種偏振染料水分散體，包含偏振染料材料，以及包含許多由通式(I)表示的表面活性劑分子的非離子型表面活性劑材料，其中所有表面活性劑分子的數字n的平均值為9-200；m為1或2；R對各表面活性劑和各種情況是相同或不同的，獨立地是烷基；各表面活性劑分子上的至少一個R是C6-C12直鏈或支鏈烷基；X對各表面活性劑分子是相同或不同的，獨立地是H或C1-C4烷基。文檔編號G02B5/30GK101669051SQ200880013630公開日2010年3月10日申請日期2008年2月26日優(yōu)先權日2007年2月28日發(fā)明者B·迪富爾,D·亨利,J·V·達維多維茨申請人:康寧股份有限公司