專利名稱：工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置及聯(lián)調(diào)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光刻機(jī)干涉測量系統(tǒng)，尤其涉及一種工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的 聯(lián)調(diào)裝置及聯(lián)調(diào)方法。
背景技術(shù)：
在光刻機(jī)中，工件臺和掩模臺各自采用一套干涉測量系統(tǒng)進(jìn)行測量。若工件臺干 涉儀的出射光束與掩模臺干涉儀的出射光束不平行，則會降低工件臺和掩模臺的對準(zhǔn)程 度，從而影響光刻機(jī)的性能。因此，在安裝工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀時，需要保證工件 臺干涉儀的出射光束與掩模臺干涉儀的出射光束平行。如圖1所示，在光刻機(jī)中，工件臺干涉儀25通過工件臺測量支架M連接在主基板 22的下方，而掩模臺干涉儀27通過掩模臺測量支架沈連接在主基板22的上方。為保證 光刻機(jī)的性能，安裝工件臺干涉儀25和掩模臺干涉儀27時，要確保工件臺干涉儀25射出 的水平光束251與掩模臺干涉儀27射出的水平光束271平行，但是，工件臺干涉儀25和掩 模臺干涉儀27之間的間距較大，通常大于1000mm，無法將工件臺干涉儀25射出的水平光 束251和掩模臺干涉儀27射出的水平光束271同時導(dǎo)入測角儀器，因此，無法檢測和調(diào)節(jié) 工件臺干涉儀25射出的水平光束251與掩模臺干涉儀27射出的水平光束271的平行度。另外，光刻機(jī)結(jié)構(gòu)復(fù)雜，空間布局緊湊，采用長光程測量法直接檢測工件臺干涉儀 25射出的水平光束251與掩模臺干涉儀27射出的水平光束271的平行度將受到空間因素 的限制，在實際中很難操作。在光刻機(jī)投入使用后，每隔一段時間需要重新檢測和校準(zhǔn)工件臺干涉儀的出射光 束與掩模臺干涉儀的出射光束的平行度，而安裝好的光刻機(jī)可供檢測裝置使用的空間更加 有限，另外，還要求檢測和校準(zhǔn)方案不能影響到光刻機(jī)的正常使用。針對上述問題，需要設(shè)計一種體積小、易裝卸的工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的 聯(lián)調(diào)裝置以及操作簡單的聯(lián)調(diào)方法，以滿足安裝工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀時以及后期 檢測維護(hù)時檢測和調(diào)節(jié)的需要。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置及聯(lián)調(diào)方 法，該裝置體積小、裝卸方便，該方法操作簡單。為了達(dá)到上述的目的，本發(fā)明提供一種工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝 置，包括可調(diào)連桿、分光棱鏡、棱鏡和角度調(diào)整架；所述角度調(diào)整架設(shè)置在所述可調(diào)連桿的 一端；所述棱鏡與所述角度調(diào)整架連接；所述分光棱鏡設(shè)置在所述可調(diào)連桿的另一端；所 述可調(diào)連桿用于調(diào)節(jié)所述分光棱鏡和所述棱鏡之間的距離；所述角度調(diào)整架用于調(diào)節(jié)所 述棱鏡相對所述分光棱鏡的角度；入射光束入射到所述分光棱鏡后，一部分光束透過所述 分光棱鏡，另外一部分光束經(jīng)所述分光棱鏡反射后沿所述可調(diào)連桿的內(nèi)側(cè)壁入射到所述棱 鏡，經(jīng)所述分光棱鏡反射的光束再經(jīng)所述棱鏡反射后射出。
上述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置，其中，所述分光棱鏡采用五角分 光棱鏡。上述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置，其中，所述棱鏡采用五角棱鏡。本發(fā)明的另一種技術(shù)方案是，一種使用上述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào) 裝置聯(lián)合調(diào)節(jié)工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的方法，用于光刻機(jī)干涉測量系統(tǒng)調(diào)節(jié)，該光 刻機(jī)包括工件臺干涉儀、工件臺多面鏡工裝、掩模臺干涉儀和掩模臺多面鏡工裝，包括以下 步驟步驟1，調(diào)節(jié)所述工件臺干涉儀，使所述工件臺干涉儀的出射光束垂直于所述工件臺 多面鏡工裝，鎖定所述工件臺干涉儀；步驟2，鎖定所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián) 調(diào)裝置的可調(diào)連桿和角度調(diào)整架；將所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置安裝到 光刻機(jī)中，調(diào)節(jié)所述可調(diào)連桿，使所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的出射光 束與掩模臺干涉儀的出射光束之間的間距限定在一定范圍內(nèi)，鎖定該可調(diào)連桿；卸下所述 工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置，離線調(diào)節(jié)所述角度調(diào)整架，使所述工件臺干涉 儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的出射光束平行于所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián) 調(diào)裝置的入射光束，鎖定該角度調(diào)整架；步驟3，將所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián) 調(diào)裝置再次安裝到光刻機(jī)中，調(diào)節(jié)所述掩模臺干涉儀，使所述掩模臺干涉儀的出射光束平 行于所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的出射光束，鎖定該掩模臺干涉儀；步 驟4，調(diào)節(jié)所述掩模臺多面鏡工裝，使所述掩模臺多面鏡工裝與所述掩模臺干涉儀的出射光 束垂直，鎖定該掩模臺多面鏡工裝。上述聯(lián)合調(diào)節(jié)工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的方法，其中，所述步驟1中采用邁 克耳遜工裝檢測所述工件臺干涉儀的出射光束與所述工件臺多面鏡工裝的垂直度，將所述 邁克耳遜工裝置于所述工件臺干涉儀與所述工件臺多面鏡工裝之間，所述工件臺干涉儀的 出射光束經(jīng)所述邁克耳遜工裝入射到所述工件臺多面鏡工裝，當(dāng)所述邁克耳遜工裝的干涉 條紋最少時，所述工件臺干涉儀的出射光束垂直于所述工件臺多面鏡工裝。上述聯(lián)合調(diào)節(jié)工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的方法，其中，所述步驟2中，工件臺 干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的出射光束與掩模臺干涉儀的出射光束之間的間距小 于 30mmo上述聯(lián)合調(diào)節(jié)工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的方法，其中，所述步驟2中，通過所 述角度調(diào)整架調(diào)節(jié)棱鏡，以改變所述棱鏡相對分光棱鏡的角度，使所述工件臺干涉儀和掩 模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的出射光束平行于所述所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào) 裝置的入射光束。上述聯(lián)合調(diào)節(jié)工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的方法，其中，所述分光棱鏡采用五 角分光棱鏡，所述棱鏡采用五角棱鏡。上述聯(lián)合調(diào)節(jié)工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的方法，其中，所述步驟3中，讓所述 掩模臺干涉儀的出射光束與所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的出射光束同 時入射測角儀器，用所述測角儀器檢測所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的出 射光束是否平行于所述掩模臺干涉儀的出射光束，如果不平行，則調(diào)節(jié)所述掩模臺干涉儀， 使所述掩模臺干涉儀的出射光束平行于所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的 的出射光束。上述聯(lián)合調(diào)節(jié)工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的方法，其中，所述步驟4中，采用邁克耳遜工裝檢測所述掩模臺多面鏡工裝與所述掩模臺干涉儀的出射光束的垂直度，將所述 邁克耳遜工裝置于所述掩模臺干涉儀與所述掩模臺多面鏡工裝之間，所述掩模臺干涉儀的 出射光束經(jīng)所述邁克耳遜工裝入射到所述掩模臺多面鏡工裝，當(dāng)所述邁克耳遜工裝的干涉 條紋最少時，所述掩模臺多面鏡工裝垂直于所述掩模臺干涉儀的出射光束。本發(fā)明工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置及聯(lián)調(diào)方法，該聯(lián)調(diào)裝置采用可 調(diào)連桿調(diào)節(jié)分光棱鏡和棱鏡之間的距離，采用角度調(diào)整架調(diào)節(jié)棱鏡相對分光棱鏡的角度， 實現(xiàn)平行提升工件臺干涉儀的出射光束，結(jié)構(gòu)簡單、體積小，裝卸方便；校準(zhǔn)本發(fā)明工件臺 干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置采用離線方式，規(guī)避了光刻機(jī)的空間限制條件，現(xiàn)實可 操作；本發(fā)明聯(lián)調(diào)方法的聯(lián)調(diào)精度可控制在士82Urad之內(nèi)，精度高；本發(fā)明工件臺干涉儀 和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置及聯(lián)調(diào)方法既可用于安裝工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀，又可 用于工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀后期檢測和維護(hù)，使用靈活，操作簡單。


本發(fā)明的工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置及聯(lián)調(diào)方法由以下的實施例 及附圖給出。圖1是現(xiàn)有技術(shù)中光刻機(jī)的示意圖。圖2是本發(fā)明工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是本發(fā)明工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的原理圖；圖4是本發(fā)明工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置離線校準(zhǔn)精度分析圖；圖5是本發(fā)明聯(lián)合調(diào)節(jié)工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的方法中鎖定工件臺干涉 儀的示意圖；圖6是本發(fā)明聯(lián)合調(diào)節(jié)工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的方法中鎖定可調(diào)節(jié)桿的 示意圖；圖7是本發(fā)明聯(lián)合調(diào)節(jié)工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的方法中鎖定掩模臺干涉 儀的示意圖；圖8是本發(fā)明聯(lián)合調(diào)節(jié)工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的方法中鎖定掩模臺多面 鏡工裝示意圖。
具體實施例方式以下將結(jié)合圖2 圖8對本發(fā)明的工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置及聯(lián) 調(diào)方法作進(jìn)一步的詳細(xì)描述。參見圖2，本發(fā)明的工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置包括可調(diào)連桿11、 分光棱鏡12、棱鏡13和角度調(diào)整架14 ；所述角度調(diào)整架14設(shè)置在所述可調(diào)連桿11的一端；所述棱鏡13與所述角度調(diào)整架14連接；所述分光棱鏡12設(shè)置在所述可調(diào)連桿11的另一端；所述可調(diào)連桿11用于調(diào)節(jié)所述分光棱鏡12和所述棱鏡13之間的距離；所述角度調(diào)整架14用于調(diào)節(jié)所述棱鏡13相對所述分光棱鏡12的角度；入射光束51入射到所述分光棱鏡12后，一部分光束透過所述分光棱鏡12(如圖2中的透射光束5 ，另外一部分光束經(jīng)所述分光棱鏡12反射后沿所述可調(diào)連桿11的內(nèi)側(cè) 壁入射到所述棱鏡13，經(jīng)所述分光棱鏡12反射的光束再經(jīng)所述棱鏡13反射后射出(如圖 2中的出射光束53)。本實施例中，所述分光棱鏡12采用五角分光棱鏡；所述棱鏡13采用五角棱鏡。調(diào)節(jié)本發(fā)明工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置可使經(jīng)所述棱鏡13反射的 出射光束53平行于入射光束51，其原理如下參見圖3，所述分光棱鏡12的出射面121與所述棱鏡13的入射面131平行相對， 處于不同高度，所述分光棱鏡12的中心與所述棱鏡13的中心的連線垂直于所述入射光束 51。以所述入射光束51的入射方向為Y軸正方向，以所述分光棱鏡12的中心與所述 棱鏡13的中心的連線、指向所述棱鏡13的方向為Z軸正方向，建立一個三維坐標(biāo)系；將右 手拇指指向Z軸正方向，其余四指握拳，其余四指握拳的方向定義為RZ方向，將右手拇指指 向Y軸正方向，其余四指握拳，其余四指握拳的方向定義為RY方向，同理定義RX方向。所述入射光束51入射到所述分光棱鏡12后，一部分光束透過所述分光棱鏡12，形 成透射光束52 ；另外一部分光束經(jīng)所述分光棱鏡12反射后入射到所述棱鏡13，再經(jīng)所述棱 鏡13反射后射出，形成出射光束53。所述透射光束52與所述入射光束51無論在RX方向 還是RZ方向都嚴(yán)格平行(誤差小于士 15Urad)，而所述出射光束53與所述入射光束51僅 在RX方向嚴(yán)格平行(誤差小于士 15urad)，在RZ方向上不平行，其不平行度由所述棱鏡13 相對于所述分光棱鏡12的角度決定(所述棱鏡13相對于所述分光棱鏡12的角度可以認(rèn) 為是所述棱鏡13的出射面132與所述分光棱鏡12的入射面122之間的夾角)，所述角度調(diào) 整架14可調(diào)節(jié)所述棱鏡13相對于所述分光棱鏡12的角度。通過所述角度調(diào)整架14調(diào)節(jié)所述棱鏡13相對于所述分光棱鏡12的角度，使所述 出射光束53與所述入射光束51在RZ方向上平行，具體做法如下在距離聯(lián)調(diào)裝置較遠(yuǎn)處 設(shè)置一屏幕60，該屏幕60與所述分光棱鏡12之間的距離設(shè)為Ly (Ly越長，調(diào)節(jié)精度越高)， 所述透射光束52和所述出射光束53分別在所述屏幕60上投影，各自形成一光斑，如圖4 所示，光斑123為所述透射光束52在所述屏幕60上投影形成的光斑，光斑133為所述出射 光束53在所述屏幕60上投影形成的光斑，測量所述光斑123與所述光斑133在X方向上 的偏差Lx，通過所述角度調(diào)整架14調(diào)節(jié)所述棱鏡13，改變所述棱鏡13相對于所述分光棱 鏡12的角度，使偏差Lx等于0，此時，可認(rèn)為所述出射光束53與所述透射光束52嚴(yán)格平 行，即所述出射光束53與所述入射光束51嚴(yán)格平行。假設(shè)人眼測量光斑中心的分辨率為 士 1mm，Ly為20m，則本發(fā)明聯(lián)調(diào)裝置的校準(zhǔn)分辨率為士 1/20000 = 士50urad。本發(fā)明工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置結(jié)構(gòu)簡單、體積小，裝卸方便，校 準(zhǔn)精度高。使用上述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置安裝并調(diào)節(jié)工件臺干涉儀和 掩模臺干涉儀的方法包括以下步驟步驟1，安裝并調(diào)節(jié)工件臺干涉儀25，以鎖定工件臺干涉儀25 ；參見圖5，光刻機(jī)包括物鏡23、主基板22、工件臺多面鏡工裝21和工件臺測量支 架對，所述物鏡23穿過所述主基板22，所述工件臺多面鏡工裝21設(shè)置在所述物鏡23正下 方，所述工件臺測量支架M設(shè)置在所述主基板22的底部；
將所述工件臺干涉儀25安裝到所述工件臺測量支架M上，利用邁克耳遜工裝30 檢測所述工件臺干涉儀25的出射光束251與所述工件臺多面鏡工裝21的垂直度，當(dāng)所述 邁克耳遜工裝30的干涉條紋最少時，所述工件臺干涉儀25的出射光束251與所述工件臺 多面鏡工裝21的側(cè)表面211垂直，此時，所述工件臺干涉儀25達(dá)到理想位置，鎖定所述工 件臺干涉儀25 ；步驟2，初安裝掩模臺干涉儀27，調(diào)節(jié)上述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào) 裝置，以鎖定上述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的可調(diào)連桿11以及角度調(diào)整 架14;步驟2. 1，初安裝掩模臺干涉儀27，安裝并調(diào)節(jié)所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉 儀的聯(lián)調(diào)裝置，以鎖定可調(diào)連桿11 ；參見圖6，上述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置穿過所述主基板22放 置，使所述工件臺干涉儀25的出射光束251入射到所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián) 調(diào)裝置的分光棱鏡12，該出射光束251經(jīng)所述分光棱鏡12后分成兩束光束，一束為透射光 束252，另一束為反射光束，該反射光束沿所述可調(diào)連桿11的內(nèi)側(cè)壁入射到棱鏡13，該反射 光再經(jīng)所述棱鏡13反射后出射，形成所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的出 射光束253 ；所述主基板22的上表面上安裝有掩模臺測量支架沈，所述掩模臺干涉儀27初安 裝在所述掩模臺測量支架26上；調(diào)節(jié)所述可調(diào)連桿11，使所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的出射光 束253與所述掩模臺干涉儀27的出射光束271之間的間距小于30mm，鎖定可調(diào)連桿11 ；步驟2. 2，離線調(diào)節(jié)所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置，使所述工件臺 干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的出射光束平行于該工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的 聯(lián)調(diào)裝置的入射光束，以鎖定所述角度調(diào)整架14 ；取出所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置，采用長光程測量法離線校準(zhǔn) 所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置，如圖3和圖4所示，通過所述角度調(diào)整架14 調(diào)節(jié)所述棱鏡13相對于所述分光棱鏡12的角度，使所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的 聯(lián)調(diào)裝置的出射光束平行于所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的入射光束，此 時，鎖定所述角度調(diào)整架14，完成所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的離線校 準(zhǔn)；校準(zhǔn)所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置時采用離線方式，規(guī)避了光刻 機(jī)的空間限制條件，可操作；步驟3，調(diào)整所述掩模臺干涉儀27，以鎖定所述掩模臺干涉儀27 ；參見圖7，將離線校準(zhǔn)后的工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置重新穿過所 述所述主基板22放置，使所述工件臺干涉25的出射光束251入射到所述工件臺干涉儀和 掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的分光棱鏡12 ；讓所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的的出射光束253和所述掩模 臺干涉儀27的出射光束271同時入射測角儀器40，所述測角儀器40檢測所述工件臺干涉 儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的的出射光束253和所述掩模臺干涉儀27的出射光束271 的平行度，調(diào)節(jié)所述掩模臺干涉儀27，使所述掩模臺干涉儀27的出射光束271平行于所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的出射光束253，鎖定所述掩模臺干涉儀27 ；取出所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置和所述測角儀器40 ；步驟4，安裝并調(diào)節(jié)掩模臺多面鏡工裝28，以鎖定掩模臺多面鏡工裝觀參見圖8，初安裝掩模臺多面鏡工裝觀于所述物鏡23的正上方，將邁克耳遜工裝 30放置于所述掩模臺干涉儀27與所述掩模臺多面鏡工裝觀之間，使所述掩模臺干涉儀27 的出射光束271經(jīng)所述邁克耳遜工裝30入射到所述掩模臺多面鏡工裝觀，調(diào)節(jié)所述掩模臺 多面鏡工裝觀，當(dāng)所述邁克耳遜工裝30的干涉條紋最少時，所述掩模臺多面鏡工裝觀的側(cè) 表面281垂直于所述掩模臺干涉儀27的出射光束271，此時，鎖定所述掩模臺多面鏡工裝 28 ；取下所述邁克耳遜工裝30，完成所述工件臺干涉儀和所述掩模臺干涉儀聯(lián)合調(diào) 節(jié)。本發(fā)明聯(lián)合調(diào)節(jié)工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的方法采用離線校準(zhǔn)所述工件臺 干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置，可使所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的 出射光束與入射光束在RX方向上的平行度誤差小于士30Urad，而在RZ方向上的平行度誤 差小于士65Urad，總體平行度誤差小于力02 + 652 = ±12urad ；另外，測角儀器的測量誤差 可控制在士 IOurad以內(nèi)，綜合以上兩個方面來看，本發(fā)明聯(lián)合調(diào)節(jié)工件臺干涉儀和掩模臺 干涉儀的方法的聯(lián)調(diào)精度可控制在士82Urad之內(nèi)，精度高。在后期檢測和維護(hù)光刻機(jī)干涉測量系統(tǒng)的過程中，也可使用本發(fā)明工件臺干涉儀 和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置聯(lián)合調(diào)節(jié)工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀，具體聯(lián)合調(diào)節(jié)方法與 上述聯(lián)合調(diào)節(jié)方法的區(qū)別在于，省去步驟1中安裝工件臺干涉儀的步驟、步驟2中初安裝掩 模臺干涉儀的步驟、步驟4中安裝掩模臺多面鏡工裝的步驟。本發(fā)明聯(lián)合調(diào)節(jié)工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的方法操作簡單，使用靈活，即可 用于安裝工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀，又可用于工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀后期檢測 和維護(hù)。
權(quán)利要求
1.一種工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置，其特征在于，包括可調(diào)連桿、分光棱 鏡、棱鏡和角度調(diào)整架；所述角度調(diào)整架設(shè)置在所述可調(diào)連桿的一端； 所述棱鏡與所述角度調(diào)整架連接； 所述分光棱鏡設(shè)置在所述可調(diào)連桿的另一端； 所述可調(diào)連桿用于調(diào)節(jié)所述分光棱鏡和所述棱鏡之間的距離； 所述角度調(diào)整架用于調(diào)節(jié)所述棱鏡相對所述分光棱鏡的角度； 入射光束入射到所述分光棱鏡后，一部分光束透過所述分光棱鏡，另外一部分光束經(jīng) 所述分光棱鏡反射后沿所述可調(diào)連桿的內(nèi)側(cè)壁入射到所述棱鏡，經(jīng)所述分光棱鏡反射的光 束再經(jīng)所述棱鏡反射后射出。
2.如權(quán)利要求1所述的工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置，其特征在于，所述 分光棱鏡采用五角分光棱鏡。
3.如權(quán)利要求1所述的工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置，其特征在于，所述 棱鏡采用五角棱鏡。
4.一種使用如權(quán)利要求1所述的工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置聯(lián)合調(diào)節(jié) 工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的方法，用于光刻機(jī)干涉測量系統(tǒng)調(diào)節(jié)，該光刻機(jī)包括工件 臺干涉儀、工件臺多面鏡工裝、掩模臺干涉儀和掩模臺多面鏡工裝，其特征在于，包括以下 步驟步驟1，調(diào)節(jié)所述工件臺干涉儀，使所述工件臺干涉儀的出射光束垂直于所述工件臺多 面鏡工裝，鎖定所述工件臺干涉儀；步驟2，鎖定所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的可調(diào)連桿和角度調(diào)整架；將所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置安裝到光刻機(jī)中，調(diào)節(jié)所述可調(diào)連 桿，使所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的出射光束與掩模臺干涉儀的出射光 束之間的間距限定在一定范圍內(nèi)，鎖定該可調(diào)連桿；卸下所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置，離線調(diào)節(jié)所述角度調(diào)整架，使所 述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的出射光束平行于所述工件臺干涉儀和掩模 臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的入射光束，鎖定該角度調(diào)整架；步驟3，將所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置再次安裝到光刻機(jī)中，調(diào)節(jié)所 述掩模臺干涉儀，使所述掩模臺干涉儀的出射光束平行于所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉 儀的聯(lián)調(diào)裝置的出射光束，鎖定該掩模臺干涉儀；步驟4，調(diào)節(jié)所述掩模臺多面鏡工裝，使所述掩模臺多面鏡工裝與所述掩模臺干涉儀的 出射光束垂直，鎖定該掩模臺多面鏡工裝。
5.如權(quán)利要求4所述的聯(lián)合調(diào)節(jié)工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的方法，其特征在于， 所述步驟1中采用邁克耳遜工裝檢測所述工件臺干涉儀的出射光束與所述工件臺多面鏡 工裝的垂直度，將所述邁克耳遜工裝置于所述工件臺干涉儀與所述工件臺多面鏡工裝之 間，所述工件臺干涉儀的出射光束經(jīng)所述邁克耳遜工裝入射到所述工件臺多面鏡工裝，當(dāng) 所述邁克耳遜工裝的干涉條紋最少時，所述工件臺干涉儀的出射光束垂直于所述工件臺多 面鏡工裝。
6.如權(quán)利要求4所述的聯(lián)合調(diào)節(jié)工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的方法，其特征在于， 所述步驟2中，工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的出射光束與掩模臺干涉儀的出 射光束之間的間距小于30mm。
7.如權(quán)利要求4所述的聯(lián)合調(diào)節(jié)工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的方法，其特征在于， 所述步驟2中，通過所述角度調(diào)整架調(diào)節(jié)棱鏡，以改變所述棱鏡相對分光棱鏡的角度，使所 述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的出射光束平行于所述工件臺干涉儀和掩模 臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的入射光束。
8.如權(quán)利要求7所述的聯(lián)合調(diào)節(jié)工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的方法，其特征在于， 所述分光棱鏡采用五角分光棱鏡，所述棱鏡采用五角棱鏡。
9.如權(quán)利要求4所述的聯(lián)合調(diào)節(jié)工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的方法，其特征在于， 所述步驟3中，讓所述掩模臺干涉儀的出射光束與所述工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián) 調(diào)裝置的出射光束同時入射測角儀器，用所述測角儀器檢測所述工件臺干涉儀和掩模臺干 涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的的出射光束是否平行于所述掩模臺干涉儀的出射光束，如果不平行，則 調(diào)節(jié)所述掩模臺干涉儀，使所述掩模臺干涉儀的出射光束平行于所述工件臺干涉儀和掩模 臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置的出射光束。
10.如權(quán)利要求4所述的聯(lián)合調(diào)節(jié)工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的方法，其特征在于， 所述步驟4中，采用邁克耳遜工裝檢測所述掩模臺多面鏡工裝與所述掩模臺干涉儀的出射 光束的垂直度，將所述邁克耳遜工裝置于所述掩模臺干涉儀與所述掩模臺多面鏡工裝之 間，所述掩模臺干涉儀的出射光束經(jīng)所述邁克耳遜工裝入射到所述掩模臺多面鏡工裝，當(dāng) 所述邁克耳遜工裝的干涉條紋最少時，所述掩模臺多面鏡工裝垂直于所述掩模臺干涉儀的 出射光束。
全文摘要
本發(fā)明涉及工件臺干涉儀和掩模臺干涉儀的聯(lián)調(diào)裝置及聯(lián)調(diào)方法，該方法包括以下步驟步驟1，鎖定工件臺干涉儀；步驟2，將聯(lián)調(diào)裝置安裝到光刻機(jī)中，調(diào)節(jié)可調(diào)連桿，使該聯(lián)調(diào)裝置的出射光束與掩模臺干涉儀的出射光束之間的間距限定在一定范圍內(nèi)，鎖定該可調(diào)連桿；卸下聯(lián)調(diào)裝置，離線調(diào)節(jié)角度調(diào)整架，使聯(lián)調(diào)裝置的出射光束平行于聯(lián)調(diào)裝置的入射光束，鎖定該角度調(diào)整架；步驟3，將聯(lián)調(diào)裝置再次安裝到光刻機(jī)中，調(diào)節(jié)掩模臺干涉儀，使掩模臺干涉儀的出射光束平行于聯(lián)調(diào)裝置的出射光束，鎖定該掩模臺干涉儀；步驟4，調(diào)節(jié)掩模臺多面鏡工裝，使掩模臺多面鏡工裝與掩模臺干涉儀的出射光束垂直，鎖定該掩模臺多面鏡工裝。
文檔編號G03F7/20GK102109769SQ200910247419
公開日2011年6月29日 申請日期2009年12月29日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月29日
發(fā)明者吳萍, 張志平, 張曉文, 池峰, 陳勇輝 申請人:上海微電子裝備有限公司