專利名稱：彩色濾光片基板的制造方法、光學(xué)掩膜及光反應(yīng)層的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶顯示領(lǐng)域，特別涉及一種彩色濾光片基板的制造方法、光學(xué)掩膜及光反應(yīng)層。
背景技術(shù)：
液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)不僅具有輕、薄、小等特點(diǎn)，并且還具有功耗低、無輻射和制造成本相對(duì)較低的優(yōu)點(diǎn)，因此目前在平板顯示領(lǐng)域占主導(dǎo)地位。液晶顯示器非常適合應(yīng)用在臺(tái)式計(jì)算機(jī)、掌上型計(jì)算機(jī)、個(gè)人數(shù)字助理(Personal Digital Assistant, PDA)、便攜式電話、電視和多種辦公自動(dòng)化和視聽設(shè)備中。液晶顯示面板是液晶顯示器件的主要組件，目前主流的液晶顯示面板是由一片薄膜晶體管(Thin-film transistor, TFT)基板與一片彩色濾光片(Color Filter, CF)基板貼合而成，且在二基板之間設(shè)置液晶層。其中，彩色濾光片基板上的紅色色阻區(qū)、綠色色阻區(qū)、藍(lán)色色阻區(qū)以及黑色遮光區(qū)(Black Matrix, BM)的設(shè)置精度容易影響到顯示器件的開口率和對(duì)比度，從而影響顯示器件的質(zhì)量，因此彩色濾光片基板上的色阻區(qū)和黑色遮光區(qū)的制造方法非常重要。目前的彩色濾光片基板的制造方法，多以BM/R/G/B/IT0/PS為流程制造，無法藉由一次曝光，達(dá)成分色的效果，所以必須要分次進(jìn)行涂布、曝光和顯影等步驟，才能形成不同色阻層；也受限于此，所以需要依據(jù)機(jī)臺(tái)的精度，開立不同的掩膜(Mask)，于不同的機(jī)臺(tái)進(jìn)行對(duì)位曝光，因機(jī)臺(tái)的精度問題，將導(dǎo)致設(shè)計(jì)時(shí)開口率的下降。此外，因?yàn)橐侄鄬佣啻紊a(chǎn)，于BM疊R/G/B層的區(qū)域，將會(huì)造成高度與像素Active Area區(qū)(下文簡稱AA區(qū))不一致，造成液晶傾角不同，產(chǎn)生漏光，由此降低對(duì)比度。因此，目前的彩色濾光片基板的制造方法存在制程繁復(fù)且易造成開口率降低及顯示對(duì)比度下降的缺陷。綜上所述，如何設(shè)計(jì)出一種簡化的彩色濾光片基板制造方法，提高開口率和顯示對(duì)比度是業(yè)界亟須解決的課題之一。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種彩色濾光片基本的制造方法、光學(xué)掩膜以及光反應(yīng)層，以簡化制程，提高開口率及顯示對(duì)比度。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是提供一種彩色濾光片基板的制造方法，所述制造方法包括步驟提供基板；提供光反應(yīng)層，所述光反應(yīng)層覆蓋在所述基板上；提供光學(xué)掩膜，所述光學(xué)掩膜設(shè)置于所述光反應(yīng)層的上方；提供不同頻段的光經(jīng)過所述光學(xué)掩膜對(duì)所述光反應(yīng)層進(jìn)行照射，以分別在所述光反應(yīng)層上形成色阻區(qū)以及黑色遮光區(qū)。其中，所述光學(xué)掩膜包括多個(gè)呈矩陣設(shè)置的光學(xué)帶通濾波單元，所述光學(xué)帶通濾波單元包括
多個(gè)第一透光區(qū)域，每一所述第一透光區(qū)域選擇性地透過一種預(yù)定頻段的光，限制其他頻段的光通過；多個(gè)第二透光區(qū)域，所述第二透光區(qū)域設(shè)置于二相鄰的所述第一透光區(qū)域之間， 以隔絕二相鄰的所述第一透光區(qū)域，且所述第二透光區(qū)域允許多種頻段的光透過。其中，所述光學(xué)掩膜的所述多個(gè)第一透光區(qū)域分別包括第一頻段透光區(qū)、第二頻段透光區(qū)以及第三頻段透光區(qū)；提供第一頻段光、第二頻段光以及第三頻段光經(jīng)過所述光學(xué)掩膜對(duì)所述光反應(yīng)層進(jìn)行照射，其中所述第一頻段透光區(qū)僅可透過所述第一頻段光，且所述光反應(yīng)層在所述第一頻段光的照射下形成紅綠藍(lán)三原色中之第一色的色阻區(qū)；所述第二頻段透光區(qū)僅可透過所述第二頻段光，且所述光反應(yīng)層在所述第二頻段光的照射下形成紅綠藍(lán)三原色中之第二色的色阻區(qū)；所述第三頻段透光區(qū)僅可透過所述第三頻段光，且所述光反應(yīng)層在所述第三頻段光的照射下形成紅綠藍(lán)三原色中之第三色的色阻區(qū)；所述第一頻段光、所述第二頻段光以及所述第三頻段光同時(shí)透過所述第二透光區(qū)域時(shí)，所述光反應(yīng)層形成黑色的遮光區(qū)。其中，所述光反應(yīng)層在所述第一頻段光的照射下形成紅色的色阻區(qū)，所述光反應(yīng)層在所述第二頻段光的照射下形成綠色的色阻區(qū)，所述光反應(yīng)層在所述第三頻段光的照射下形成藍(lán)色的色阻區(qū)。其中，以單一波長的激光二極管作為光源提供所需的照射光。其中，所述光學(xué)掩膜為光學(xué)帶通濾波透鏡陣列。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是提供一種光學(xué)掩膜，用于制備彩色濾光片基板，所述光學(xué)掩膜包括多個(gè)呈矩陣設(shè)置的光學(xué)帶通濾波單元，所述光學(xué)帶通濾波單元包括多個(gè)第一透光區(qū)域，每一所述第一透光區(qū)域選擇性地透過預(yù)定頻段的光；多個(gè)第二透光區(qū)域，所述第二透光區(qū)域允許多種頻段的光透過；其中，所述第二透光區(qū)域設(shè)置于二相鄰的所述第一透光區(qū)域之間，以隔絕二相鄰的所述第一透光區(qū)域。其中，所述多個(gè)第一透光區(qū)域包括第一頻段透光區(qū)，所述第一頻段透光區(qū)僅可透過第一頻段光；第二頻段透光區(qū)，所述第二頻段透光區(qū)僅可透過第二頻段光；第三頻段透光區(qū)，所述第三頻段透光區(qū)僅可透過第三頻段光；且，所述第一頻段光、所述第二頻段光以及所述第三頻段光均可透過所述第二透光區(qū)域。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是提供一種光反應(yīng)層，用于制備彩色濾光片基板的色阻層，在預(yù)設(shè)頻段的入射光照射下，所述光反應(yīng)層形成紅綠藍(lán)三原色中之一色的色阻區(qū)；在多種所述預(yù)設(shè)頻段的入射光照射下，所述光反應(yīng)層形成黑色的遮光區(qū)。其中，所述預(yù)設(shè)頻段的入射光分為第一頻段光、第二頻段光、第三頻段光；且，在所述第三頻段光的照射下，所述光反應(yīng)層形成可透光的藍(lán)色色阻區(qū)；在所述第二頻段光的照射下，所述光反應(yīng)層形成可透光的綠色色阻區(qū)；
在所述第一頻段光的照射下，所述光反應(yīng)層形成可透光的紅色色阻區(qū)；在所述第一頻段光、所述第二頻段光、所述第三頻段光的共同照射下，所述光反應(yīng)層形成黑色的遮光區(qū)。區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明的彩色濾光片基板的制造方法，通過將所述光反應(yīng)層覆蓋設(shè)置在所述基板上，將所述光學(xué)掩膜設(shè)置于所述光反應(yīng)層的上方，提供不同頻段的光經(jīng)過所述光學(xué)掩膜對(duì)所述光反應(yīng)層進(jìn)行照射，以分別在所述光反應(yīng)層上形成色阻區(qū)以及黑色遮光區(qū)，因此能夠只需一次曝光完成色阻區(qū)及黑色遮光區(qū)的制造，由此簡化了流程步驟、縮短了制程的循環(huán)周期；并且，因?yàn)橐淮纹毓饧纯赏瓿葿M遮光層和R/G/B色阻層的制備，因此于設(shè)計(jì)時(shí)不需考慮BM遮光層和R/G/B色阻層的曝光精度，可將設(shè)計(jì)時(shí)的開口率提高；另外， 由于簡化了制程，降低BM疊R/G/B色阻層的區(qū)域與像素AA區(qū)的高度差，可進(jìn)一步提高對(duì)比度和光的穿透率。


圖1是本發(fā)明彩色濾光片基板的制造方法的流程圖；圖2是本發(fā)明的彩色濾光片基板的制造方法的步驟圖；圖3是本發(fā)明光學(xué)掩膜的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4是圖3所示光學(xué)掩膜的一個(gè)光學(xué)帶通濾波單元的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；圖5是本發(fā)明光反應(yīng)層在光照前的結(jié)構(gòu)示意圖；圖6是本發(fā)明光反應(yīng)層經(jīng)光照后制成的彩色濾光片基板的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行說明。請(qǐng)參閱圖1和圖2，圖1是本發(fā)明彩色濾光片基板的制造方法的流程圖，圖2是本發(fā)明的彩色濾光片基板的制造方法的步驟圖。本發(fā)明提供一種彩色濾光片基板的制造方法，所述制造方法包括步驟SlO 提供基板 10 ；本步驟中，基板10 —般采用玻璃基板，對(duì)玻璃基板進(jìn)行清洗，去除其表面上的有機(jī)物或無機(jī)物質(zhì)，并且保持玻璃基板的表面平整。S20 提供光反應(yīng)層20，光反應(yīng)層20覆蓋在基板10上；本步驟中，光反應(yīng)層20設(shè)置在玻璃基板10的一表面上，并且光反應(yīng)層20在玻璃基板10上均勻分布且表面平整。光反應(yīng)層20在不同頻段的光照下能夠產(chǎn)生不同的顏色區(qū)，即，光反應(yīng)層20受同一頻段的光照射后，對(duì)應(yīng)的在受光照射的區(qū)域產(chǎn)生同一顏色的顏色區(qū)；受不同頻段的光照射的區(qū)域，對(duì)應(yīng)產(chǎn)生不同顏色的色區(qū)。光反應(yīng)層20接受光照后發(fā)生顏色的改變具有不可逆性，并且能夠保持穩(wěn)定，即在接受同一頻段的光照射發(fā)生顏色改變后，再接受其它頻段的光照不會(huì)再次發(fā)生顏色改變。S30 提供光學(xué)掩膜30，光學(xué)掩膜30設(shè)置于光反應(yīng)層20的上方；S40 提供具有不同頻段的光經(jīng)過光學(xué)掩膜30對(duì)光反應(yīng)層20進(jìn)行照射，以分別在光反應(yīng)層20上形成色阻區(qū)以及黑色遮光區(qū)207。請(qǐng)一并參閱圖3和圖4，圖3是本發(fā)明光學(xué)掩膜30的結(jié)構(gòu)示意圖，圖4是圖3所示
6光學(xué)掩膜30的光學(xué)帶通濾波單元300剖面結(jié)構(gòu)示意圖。具體而言，在步驟S30中提供一光學(xué)掩膜30，其包括多個(gè)呈矩陣設(shè)置的光學(xué)帶通濾波單元300，每一光學(xué)帶通濾波單元300包括多個(gè)第一透光區(qū)域301，303，305和多個(gè)第二透光區(qū)域307。其中，第一透光區(qū)域301，303，305可選擇性地透過一種預(yù)定頻段的光，而限制其他頻段的光通過；第二透光區(qū)域307則可允許多種頻段的光通過。在本實(shí)施方式中，第一透光區(qū)域301，303，305分別包括第一頻段透光區(qū)301、第二頻段透光區(qū)303以及第三頻段透光區(qū)305。第一頻段透光區(qū)301僅可透過第一頻段光；第二頻段透光區(qū)303僅可透過第二頻段光；第三頻段透光區(qū)305僅可透過第三頻段光。多個(gè)第二透光區(qū)域307設(shè)置于二相鄰的第一透光區(qū)域之間，以隔絕二相鄰的第一透光區(qū)域，且第二透光區(qū)域307允許多種頻段的光透過，第一頻段光、第二頻段光以及第三頻段光均可透過第二透光區(qū)域307。在本實(shí)施方式中，光學(xué)掩膜30具體可設(shè)置為一具有多個(gè)呈矩陣設(shè)置的具有光學(xué)帶通濾波單元300功能的光學(xué)帶通濾波透鏡陣列。在步驟S40中，具體而言，提供包括第一頻段光、第二頻段光以及第三頻段光的光源經(jīng)過光學(xué)掩膜30對(duì)光反應(yīng)層20進(jìn)行照射，其中第一頻段透光區(qū)301僅可透過第一頻段光，且光反應(yīng)層20在第一頻段光的照射下形成紅綠藍(lán)三原色中之第一色的色阻區(qū)。例如，在本實(shí)施方式中，光反應(yīng)層20在第一頻段光的照射下可形成紅色的色阻區(qū)201。第二頻段透光區(qū)303僅可透過第二頻段光，且光反應(yīng)層在第二頻段光的照射下形成紅綠藍(lán)三原色中之第二色的色阻區(qū)。例如，在本實(shí)施方式中，反應(yīng)層20在第二頻段光的照射下可形成綠色的色阻區(qū)203。第三頻段透光區(qū)305僅可透過第三頻段光，且光反應(yīng)層在第三頻段光的照射下形成紅綠藍(lán)三原色中之第三色的色阻區(qū)。例如，在本實(shí)施方式中，反應(yīng)層20在第三頻段光的照射下可形成藍(lán)色的色阻區(qū)205。第一頻段光、第二頻段光以及第三頻段光同時(shí)透過第二透光區(qū)域307時(shí)，光反應(yīng)層20可形成黑色遮光區(qū)207。本發(fā)明實(shí)施方式中，提供包括不同頻段的光線通過光學(xué)掩膜30的光學(xué)帶通濾波單元300對(duì)該光線根據(jù)頻段進(jìn)行濾波選擇，實(shí)現(xiàn)不同頻段的光對(duì)光反應(yīng)層20進(jìn)行照射，從而對(duì)應(yīng)在光反應(yīng)層20形成色阻區(qū)及黑色遮光區(qū)207。光源可選擇具有全頻段的光線，即滿足光反應(yīng)層20發(fā)生顏色改變所需的第一頻段光、第二頻段光以及第三頻段光。請(qǐng)參閱圖5，圖5是本發(fā)明光反應(yīng)層20在光照射之前的結(jié)構(gòu)示意圖。光反應(yīng)層20 用于制備彩色濾光片基板的色阻層，其具有如下特性在預(yù)設(shè)頻段的入射光照射下，光反應(yīng)層20可形成紅綠藍(lán)三原色中之一色的色阻區(qū)；在多種預(yù)設(shè)頻段的入射光照射下，光反應(yīng)層可形成黑色的遮光區(qū)。請(qǐng)參閱圖6，圖6是本發(fā)明光反應(yīng)層經(jīng)光照射后制成的彩色濾光片基板的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。具體而言，預(yù)設(shè)頻段的入射光分為第一頻段光、第二頻段光、第三頻段光。且，第一頻段光、第二頻段光以及第三頻段光的光線經(jīng)過光學(xué)掩膜30對(duì)光反應(yīng)層20進(jìn)行照射。光學(xué)掩膜30的光學(xué)帶通濾波單元300對(duì)入射光線具有選頻通過的作用。第一頻段透光區(qū)301僅可透過第一頻段光，且光反應(yīng)層20在第一頻段光的照射下形成可透光的紅色色阻區(qū)201 ；第二頻段透光區(qū)303僅可透過第二頻段光，且光反應(yīng)層20在第二頻段光的照射下形成可透光的綠色色阻區(qū)203 ；第三頻段透光區(qū)305僅可透過第三頻段光，且光反應(yīng)層20在第三頻段光的照射下形成可透光的藍(lán)色色阻區(qū)205。即在一種預(yù)設(shè)頻段光的照射下，對(duì)應(yīng)的在光反應(yīng)層20可形成不同的單色色阻區(qū) 201,203,205 ；當(dāng)?shù)谝活l段光、第二頻段光以及第三頻段光同時(shí)照射時(shí)，光反應(yīng)層20可形成黑色遮光區(qū)207。本步驟中，可以通過使用具有全頻段光線的光源照射光學(xué)掩膜30，通過光學(xué)掩膜 30的光學(xué)帶通濾波單元300對(duì)光線按頻段進(jìn)行選擇通過，實(shí)現(xiàn)對(duì)光反應(yīng)層20的照射。此外，本發(fā)明還有其他具體實(shí)施方式
，例如在光學(xué)掩膜30第一透光區(qū)域的第一頻段透光區(qū)301、第二頻段透光區(qū)303以及第三頻段透光區(qū)305分別對(duì)應(yīng)設(shè)置具有發(fā)射第一頻段光線、第二頻段光線以及第三頻段光線的單一波長的激光二極管做為光源對(duì)光反應(yīng)層 20進(jìn)行照射；在光學(xué)掩膜30第二透光區(qū)域307設(shè)置具有可同時(shí)發(fā)射第一頻段光線、第二頻段光線以及第三頻段光線的單一波長激光二極管作為光源對(duì)第二透光區(qū)域307進(jìn)行照射。區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明通過將光反應(yīng)層20覆蓋在基板10上，將光學(xué)掩膜30設(shè)置于光反應(yīng)層20的上方，提供包括不同頻段的光經(jīng)過光學(xué)掩膜30對(duì)光反應(yīng)層20進(jìn)行照射，以分別在光反應(yīng)層20上形成色阻區(qū)以及黑色遮光區(qū)，因此能夠只需一次曝光即可完成色阻區(qū)及黑色遮光區(qū)207的制造，由此簡化了流程步驟、縮短了制程的循環(huán)周期；并且，因?yàn)橐淮纹毓饧纯赏瓿葿M遮光層和R/G/B色阻層的制備，因此于設(shè)計(jì)時(shí)不需考慮BM遮光層和R/G/B色阻層的曝光精度，可將設(shè)計(jì)時(shí)的開口率提高；另外，由于簡化了制程，降低BM疊 R/G/B色阻層的區(qū)域與像素AA區(qū)的高度差，可進(jìn)一步提高對(duì)比度和光的穿透率。以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種彩色濾光片基板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括步驟提供基板；提供光反應(yīng)層，所述光反應(yīng)層覆蓋在所述基板上；提供光學(xué)掩膜，所述光學(xué)掩膜設(shè)置于所述光反應(yīng)層的上方；提供不同頻段的光經(jīng)過所述光學(xué)掩膜對(duì)所述光反應(yīng)層進(jìn)行照射，以分別在所述光反應(yīng)層上形成色阻區(qū)以及黑色遮光區(qū)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述光學(xué)掩膜包括多個(gè)呈矩陣設(shè)置的光學(xué)帶通濾波單元，每一所述光學(xué)帶通濾波單元包括多個(gè)第一透光區(qū)域，每一所述第一透光區(qū)域選擇性地透過一種預(yù)定頻段的光，限制其他頻段的光通過；多個(gè)第二透光區(qū)域，所述第二透光區(qū)域設(shè)置于二相鄰的所述第一透光區(qū)域之間，以隔絕二相鄰的所述第一透光區(qū)域，且所述第二透光區(qū)域允許多種頻段的光透過。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述光學(xué)掩膜的所述多個(gè)第一透光區(qū)域分別包括第一頻段透光區(qū)、第二頻段透光區(qū)以及第三頻段透光區(qū)；提供第一頻段光、第二頻段光以及第三頻段光經(jīng)過所述光學(xué)掩膜對(duì)所述光反應(yīng)層進(jìn)行照射，其中所述第一頻段透光區(qū)僅可透過所述第一頻段光，且所述光反應(yīng)層在所述第一頻段光的照射下形成紅綠藍(lán)三原色中之第一色的色阻區(qū)；所述第二頻段透光區(qū)僅可透過所述第二頻段光，且所述光反應(yīng)層在所述第二頻段光的照射下形成紅綠藍(lán)三原色中之第二色的色阻區(qū)；所述第三頻段透光區(qū)僅可透過所述第三頻段光，且所述光反應(yīng)層在所述第三頻段光的照射下形成紅綠藍(lán)三原色中之第三色的色阻區(qū)；所述第一頻段光、所述第二頻段光以及所述第三頻段光同時(shí)透過所述第二透光區(qū)域時(shí)，所述光反應(yīng)層形成黑色遮光區(qū)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制造方法，其特征在于，所述光反應(yīng)層在所述第一頻段光的照射下形成紅色的色阻區(qū)，所述光反應(yīng)層在所述第二頻段光的照射下形成綠色的色阻區(qū)，所述光反應(yīng)層在所述第三頻段光的照射下形成藍(lán)色的色阻區(qū)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的制造方法，其特征在于，以單一波長的激光二極管作為光源提供所需的照射光。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的制造方法，其特征在于，所述光學(xué)掩膜為光學(xué)帶通濾波透鏡陣列。
7.一種光學(xué)掩膜，用于制備彩色濾光片基板，其特征在于所述光學(xué)掩膜包括多個(gè)呈矩陣設(shè)置的光學(xué)帶通濾波單元，每一所述光學(xué)帶通濾波單元包括多個(gè)第一透光區(qū)域，每一所述第一透光區(qū)域選擇性地透過預(yù)定頻段的光；多個(gè)第二透光區(qū)域，所述第二透光區(qū)域允許多種頻段的光透過；其中，所述第二透光區(qū)域設(shè)置于二相鄰的所述第一透光區(qū)域之間，以隔絕二相鄰的所述第一透光區(qū)域。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)掩膜，其特征在于 所述多個(gè)第一透光區(qū)域包括第一頻段透光區(qū)，所述第一頻段透光區(qū)僅可透過第一頻段光； 第二頻段透光區(qū)，所述第二頻段透光區(qū)僅可透過第二頻段光； 第三頻段透光區(qū)，所述第三頻段透光區(qū)僅可透過第三頻段光； 且，所述第一頻段光、所述第二頻段光以及所述第三頻段光均可透過所述第二透光區(qū)域。
9.一種光反應(yīng)層，用于制備彩色濾光片基板的色阻層，其特征在于在預(yù)設(shè)頻段的入射光照射下，所述光反應(yīng)層形成紅綠藍(lán)三原色中之一色的色阻區(qū)； 在多種所述預(yù)設(shè)頻段的入射光照射下，所述光反應(yīng)層形成黑色的遮光區(qū)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)反應(yīng)層，其特征在于所述預(yù)設(shè)頻段的入射光分為第一頻段光、第二頻段光、第三頻段光；且， 在所述第一頻段光的照射下，所述光反應(yīng)層形成可透光的紅色色阻區(qū)； 在所述第二頻段光的照射下，所述光反應(yīng)層形成可透光的綠色色阻區(qū)； 在所述第三頻段光的照射下，所述光反應(yīng)層形成可透光的藍(lán)色色阻區(qū)； 在所述第一頻段光、所述第二頻段光、所述第三頻段光的共同照射下，所述光反應(yīng)層形成黑色的遮光區(qū)。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種彩色濾光片基板的制造方法，所述制造方法包括步驟提供基板；提供光反應(yīng)層，所述光反應(yīng)層覆蓋在所述基板上；提供光學(xué)掩膜，所述光學(xué)掩膜設(shè)置于所述光反應(yīng)層的上方；提供不同頻段的光經(jīng)過所述光學(xué)掩膜對(duì)所述光反應(yīng)層進(jìn)行照射，以分別在所述光反應(yīng)層上形成色阻區(qū)以及黑色遮光區(qū)。本發(fā)明還提供了用于制備彩色濾光片基板的色阻層的光學(xué)掩膜及光反應(yīng)層。通過上述方式，本發(fā)明具有縮短制程循環(huán)周期，提高開口率及顯示對(duì)比度的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)G02B5/20GK102213785SQ20111014978
公開日2011年10月12日 申請(qǐng)日期2011年6月3日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月3日
發(fā)明者李冠政, 陳孝賢 申請(qǐng)人:深圳市華星光電技術(shù)有限公司