一種光配向掩膜版的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種光配向掩膜版，其包括曝光區(qū)域和非曝光區(qū)域，其中曝光區(qū)域有四個(gè)曝光圖形，非曝光區(qū)域有條形碼、特征碼，其特征在于：非曝光區(qū)域還包括第一刻度尺和第二刻度尺。本實(shí)用新型通過提供一種具有刻度尺的掩膜版，可迅速找到掩膜版刮傷位置，縮短故障檢出時(shí)間，提高生產(chǎn)效率。
【專利說明】
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及液晶顯示器的制造領(lǐng)域，尤其涉及一種光配向掩膜版。 一種光配向掩膜版

【背景技術(shù)】
[0002] UV2A(Ultra Violet Vertical Alignment)技術(shù)是一種米用紫外線（UV = Ultra Violet)進(jìn)行液晶配向的VA(Vertical Alignment,垂直配向）面板技術(shù)，其名稱來源于紫 外線UV與液晶面板VA模式的相乘。其原理是用一定角度的紫外光通過掩膜版照射到陣列 基板或彩膜基板的光配向膜層上，使光配向膜層發(fā)生配向反應(yīng)（如二聚反應(yīng)、分解反應(yīng)、異 構(gòu)化反應(yīng)、光再取向反應(yīng)等），光配向膜層使液晶分子以與陣列基板或者彩膜基板法線呈一 定夾角（1度至5度）排列。圖1為現(xiàn)有技術(shù)紫外光垂直配向工藝流程示意圖，基板20經(jīng) 過四個(gè)機(jī)臺，每個(gè)機(jī)臺上設(shè)置有若干紫外光出光口（Head)，每個(gè)紫外光出光口處設(shè)置有掩 膜版100。圖2為現(xiàn)有技術(shù)使用的掩膜版示意圖。掩膜版100包括條形碼101、特征碼102、 曝光圖形103A、曝光圖形103B、曝光圖形103C和曝光圖形103D。目前設(shè)備內(nèi)的掩模版100 與基板20距離只有200um，基板20膜面202或背面201上附著的異物30很容易使掩模版 100與基板20碰撞造成刮傷，如圖3和圖4所示。目前掩模版劃傷位置只能靠手工測量，無 法及時(shí)準(zhǔn)確的測量，且掩膜版設(shè)計(jì)時(shí)曝光圖形和機(jī)種對應(yīng)關(guān)系不容易識別，掩膜版和設(shè)備 中紫外光出光口對應(yīng)關(guān)系不容易識別。 實(shí)用新型內(nèi)容
[0003] 為解決上述問題，本實(shí)用新型提供一種具有刻度尺的掩膜版，可迅速找到掩膜版 刮傷位置，縮短故障檢出時(shí)間，提高生產(chǎn)效率。
[0004] 本實(shí)用新型提供一種光配向掩膜版，該掩膜版包括曝光區(qū)域和非曝光區(qū)域，其中 曝光區(qū)域有四個(gè)曝光圖形，非曝光區(qū)域有條形碼、特征碼，且非曝光區(qū)域還包括第一刻度尺 和第二刻度尺。所述的第一刻度尺和第二刻度尺垂直分布于掩膜版相鄰的兩條邊上。所述 的第一刻度尺范圍為〇mm至250mm，所述的第二刻度尺的范圍為0mm至200mm。非曝光區(qū)域 還包括曝光圖形標(biāo)識和紫外光出光口標(biāo)識，曝光圖形標(biāo)識和紫外光出光口標(biāo)識與第二刻度 尺分別位于掩膜版相對的兩條邊上。掩膜版上的曝光圖形標(biāo)識，使曝光圖形和機(jī)種對應(yīng)關(guān) 系容易識別，紫外光出光口標(biāo)識容易識別掩膜版和設(shè)備中的紫外光出口口對應(yīng)關(guān)系。
[0005] 本實(shí)用新型通過提供一種具有刻度尺的掩膜版，可迅速找到掩膜版刮傷位置，縮 短故障檢出時(shí)間，提高生產(chǎn)效率。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0006] 圖1為現(xiàn)有技術(shù)紫外光垂直配向工藝流程示意圖；
[0007] 圖2為現(xiàn)有技術(shù)使用的掩膜版示意圖；
[0008] 圖3為異物在基板玻璃面導(dǎo)致掩膜版刮傷示意圖；
[0009] 圖4為異物在基板膜面導(dǎo)致掩膜版刮傷示意圖；
[0010] 圖5為本實(shí)用新型光配向掩膜版實(shí)施例一示意圖；
[0011] 圖6為本實(shí)用新型光配向掩膜版實(shí)施例二示意圖；

【具體實(shí)施方式】
[0012] 下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例，進(jìn)一步闡明本實(shí)用新型，應(yīng)理解這些實(shí)施例僅用于 說明本實(shí)用新型而不用于限制本實(shí)用新型的范圍，在閱讀了本發(fā)明之后，本領(lǐng)域技術(shù)人員 對本實(shí)用新型的各種等價(jià)形式的修改均落于本申請所附權(quán)利要求所限定的范圍。
[0013] 圖5為本實(shí)用新型光配向掩膜版實(shí)施例一，該掩膜版100包括曝光區(qū)域和非曝光 區(qū)域，其中曝光區(qū)域有曝光圖形103A、曝光圖形103B、曝光圖形103C和曝光圖形103D，非曝 光區(qū)域有條形碼101、特征碼102,且非曝光區(qū)域還包括第一刻度尺104和第二刻度尺105。 所述的第一刻度尺104和第二刻度尺105垂直分布于掩膜版100相鄰的兩條邊上。所述的 第一刻度尺104范圍為0mm至250mm，所述的第二刻度尺105的范圍為0mm至200mm。第一 刻度尺104和第二刻度尺105測量恰好可以測量曝光區(qū)域，當(dāng)掩膜版100發(fā)生刮傷時(shí)，可快 速找到刮傷位置，縮短故障檢出時(shí)間，提供生產(chǎn)效率。
[0014] 圖6為本實(shí)用新型光配向掩膜版實(shí)施例二，與實(shí)施例一不同之處在于非曝光區(qū)域 還包括曝光圖形標(biāo)識106和紫外光出光口標(biāo)識107,曝光圖形標(biāo)識106和紫外光出光口標(biāo) 識107與第二刻度尺105分別位于掩膜版100相對的兩條邊上。掩膜版上的曝光圖形標(biāo)識 106,使曝光圖形和機(jī)種對應(yīng)關(guān)系容易識別，紫外光出光口標(biāo)識107容易識別掩膜版100和 設(shè)備中的紫外光出光口對應(yīng)關(guān)系。
[0015] 本實(shí)用新型通過提供一種具有刻度尺的掩膜版，可迅速找到掩膜版刮傷位置，縮 短故障檢出時(shí)間，提高生產(chǎn)效率。
【權(quán)利要求】
1. 一種光配向掩膜版，其包括曝光區(qū)域和非曝光區(qū)域，其中曝光區(qū)域有四個(gè)曝光圖形， 非曝光區(qū)域有條形碼、特征碼，其特征在于：非曝光區(qū)域還包括第一刻度尺和第二刻度尺。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光配向掩膜版，其特征在于：所述的第一刻度尺和第二刻度 尺垂直分布于掩膜版相鄰的兩條邊上。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的光配向掩膜版，其特征在于：所述的第一刻度尺范圍為Omm 至 250mm。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的光配向掩膜版，其特征在于：所述的第二刻度尺的范圍為0_ 至 200mm。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光配向掩膜版，其特征在于：非曝光區(qū)域還包括曝光圖形標(biāo) 識和紫外光出光口標(biāo)識。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的光配向掩膜版，其特征在于：曝光圖形標(biāo)識和紫外光出光口 標(biāo)識與第二刻度尺分別位于掩膜版相對的兩條邊上。
【文檔編號】G02F1/1337GK203882088SQ201420288336
【公開日】2014年10月15日 申請日期:2014年5月30日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月30日
【發(fā)明者】劉濂, 盛科, 王永剛, 湯雅蕓, 王海宏, 焦峰 申請人:南京中電熊貓液晶顯示科技有限公司