平板式光刻板的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種平板式光刻板，它包括石英基板，所述的石英基板的上表面的預(yù)定位置蝕刻有凹槽，所述的凹槽內(nèi)填充有鉻，所述的鉻與所述的石英基板的上表面相平齊。由于采用上述技術(shù)方案，可以在石英的一個表面制作出所需的圖形，然后再其上鍍鉻，再將表面多余的鉻通過CMP的方式去除，減少了光刻板在重復(fù)使用過程中的圖形失真。
【專利說明】平板式光刻板
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種LED制程中的設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]光刻掩模板一般用石英玻璃作為基體，采用石英是由于其優(yōu)良的近紫外透過率。掩模板擋光部分用鉻(Cr)，所以有時也叫鉻板?，F(xiàn)有技術(shù)是在石英上鍍鉻，再將鉻刻制成相應(yīng)的版圖得到的。這種光刻板在使用過程中，尤其是接觸式的使用過程中容易受到損壞，從而造成掩模圖形的失真。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是實現(xiàn)通過將鉻填入到石英材料內(nèi)來制作掩模圖形，減少光刻板在重復(fù)使用過程中的圖形失真。
[0004]為了達(dá)到上述技術(shù)目的，本發(fā)明提供了一種平板式光刻板，它包括石英基板，所述的石英基板的上表面的預(yù)定位置蝕刻有凹槽，所述的凹槽內(nèi)填充有鉻，所述的鉻與石英基板的上表面相平齊。
[0005]優(yōu)選地，所述的凹槽底部制作有掩模圖形。
[0006]優(yōu)選地，填充在所述的凹槽內(nèi)的鉻的上表面或者下表面制作有掩模圖形。
[0007]由于采用上述技術(shù)方案，可以在石英的一個表面制作出所需的圖形，然后再其上鍍鉻，再將表面多余的鉻通過CMP的方式去除，減少了光刻板在重復(fù)使用過程中的圖形失真。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]附圖1為根據(jù)本發(fā)明的平板式光刻板的結(jié)構(gòu)示意圖；
附圖2為根據(jù)本發(fā)明的平板式光刻板的生產(chǎn)加工流程示意圖；
附圖3為根據(jù)本發(fā)明的平板式光刻板的工作原理示意圖；
附圖4為根據(jù)本發(fā)明的平板式光刻板的工作原理示意圖。
【具體實施方式】
[0009]下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的較佳實施例進(jìn)行詳細(xì)闡述，以使本發(fā)明的優(yōu)點和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對本發(fā)明的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。
[0010]附圖1為根據(jù)本發(fā)明的平板式光刻板的結(jié)構(gòu)示意圖；附圖2為根據(jù)本發(fā)明的平板式光刻板的生產(chǎn)加工流程示意圖；附圖3為根據(jù)本發(fā)明的平板式光刻板的工作原理示意圖；附圖4為根據(jù)本發(fā)明的平板式光刻板的工作原理示意圖。
[0011]如附圖1所示，本實施例中的平板式光刻板，它包括石英基板1，石英基板I的上表面的預(yù)定位置蝕刻有凹槽2，凹槽2內(nèi)填充有鉻3，鉻3與石英基板I的上表面相平齊，凹槽2底部制作有掩模圖形。[0012]如附圖2所示，首先在石英基板I的上表面的預(yù)定位置通過化學(xué)蝕刻的方式開出凹槽2，并在凹槽2底部制作掩模圖形；之后在所述的凹槽2以及石英基板I的上表面鍍一層鉻3 ;最后再將表面多余的鉻通過CMP的方式去除。作為一種其它的選擇方式，也可以是填充在凹槽2內(nèi)的鉻3的上表面或者下表面制作有掩模圖形。
[0013]如附圖3與附圖4所示，當(dāng)曝光機(jī)進(jìn)行曝光時，印有掩模圖形的位置部分由于鉻3阻止光線的通過，其余部分則順利通過石英基板I達(dá)到光刻膠從而對光刻膠進(jìn)行蝕刻。由于石英基板I與鉻3位于同一平面內(nèi)，并且凹槽2底部制作有掩模圖形，在接觸的過程中避免了受到損壞，保證了掩模圖形的長期有效。
[0014]以上實施方式只為說明本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思及特點，其目的在于讓熟悉此項技術(shù)的人了解本發(fā)明的內(nèi)容并加以實施，并不能以此限制本發(fā)明的保護(hù)范圍，凡根據(jù)本發(fā)明精神實質(zhì)所做的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種平板式光刻板,它包括石英基板(I),其特征在于:所述的石英基板(I)的上表面的預(yù)定位置蝕刻有凹槽(2)，所述的凹槽(2)內(nèi)填充有鉻(3)，所述的鉻(3)與所述的石英基板(I)的上表面相平齊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平板式光刻板，其特征在于:所述的凹槽(2)底部制作有掩模圖形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平板式光刻板，其特征在于:填充在所述的凹槽(2)內(nèi)的鉻(3)的上表面或者下表面制作有掩模圖形。
【文檔編號】G03F1/26GK103777456SQ201110458416
【公開日】2014年5月7日 申請日期:2011年12月31日 優(yōu)先權(quán)日:2011年12月31日
【發(fā)明者】魏臻 申請人:聚燦光電科技(蘇州)有限公司