專利名稱：：波前修正設(shè)備、光刻設(shè)備以及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及光刻設(shè)備以及用于制造器件的方法，以及涉及波前修正設(shè)備。
背景技術(shù)：
：光刻設(shè)備是一種將所需圖案應(yīng)用到襯底的目標部分上的機器。光刻設(shè)備可用于例如集成電路(IC)的制造中。在這種情況下，可以將可選地稱為掩模或掩模版的圖案形成裝置用于生成待形成在所述IC的單層上的電路圖案，并且可以將該圖案成像到具有一層輻射敏感材料(抗蝕劑)的襯底(例如，娃晶片)上的目標部分(例如，包括一部分管芯、一個或多個管芯)上。通常，單一襯底將包括相鄰目標部分的網(wǎng)絡(luò)，所述相鄰目標部分被連續(xù)地曝光。公知的光刻設(shè)備包括所謂的步進機，在步進機中，通過將全部圖案一次曝光到所述目標部分上來輻射每一個目標部分；和所謂的掃描器，在所述掃描器中，通過輻射束沿給定方向(“掃描”方向)掃描所述圖案、同時沿與該方向平行或反向平行的方向同步地掃描所述襯底來輻射每一個目標部分。期望將圖案從圖案形成裝置以高精確度投影到襯底上。投影到襯底上的圖案的精確度部分依賴于用于投影圖案的輻射的光學波前。光學波前離開其理想形狀的偏離可以通過一個或多個波前像差表征。波前像差可以對通過光刻設(shè)備投影圖案的精確度具有顯著的影響。在光刻設(shè)備中存在多種波前像差的源，包括例如不理想的光學元件(例如透鏡)構(gòu)成、光學元件性能隨時間的偏移以及光學元件升溫。因為波前像差通常存在于光刻設(shè)備中，因此期望能夠以受控的方式減小一個或多個波前像差，由此允許提高光刻設(shè)備投影圖案的精確度。
發(fā)明內(nèi)容期望提供例如新的波前修正設(shè)備，其克服或消除這里指出的或其他地方指出的現(xiàn)有技術(shù)的問題。根據(jù)本發(fā)明一方面，提供一種波前修正設(shè)備，包括多個聲波發(fā)射器，多個聲波發(fā)射器配置成發(fā)射至少部分地行進跨過輻射束管道的聲波。多個聲波發(fā)射器可以配置成以建立駐聲波，所述駐聲波至少部分地延伸跨過輻射束管道的駐聲波。多個聲波發(fā)射器成對地設(shè)置,每一對的聲波發(fā)射器彼此面對。代替或附加面朝另一聲波發(fā)射器，聲波發(fā)射器可以面朝反射器。一對聲波發(fā)射器中的第一聲波發(fā)射器配置成發(fā)射頻率與一對聲波發(fā)射器中的第二聲波發(fā)射器發(fā)射的聲波基本上相同的聲波。第一和第二聲波發(fā)射器可以發(fā)射具有不同頻率的聲波，使得在它們之間建立行進的波。多個聲波發(fā)射器配置成用駐聲波基本上填充輻射束管道的橫截面。聲波發(fā)射器可以配置成用駐聲波基本上填滿輻射束管道的橫截面的部分。波前修正設(shè)備還包括配置成控制由聲波發(fā)射器發(fā)射的聲波的頻率和相位的控制器。控制器可以配置成控制一對聲波發(fā)射器，使得它們都發(fā)射具有基本上相同頻率的聲波?？刂破髋渲贸蓡踊蜿P(guān)閉所選擇的聲波發(fā)射器以便在輻射束管道內(nèi)的期望位置處提供駐聲波。一個或多個聲波發(fā)射器可以具有可調(diào)節(jié)的取向?？刂破骺梢耘渲贸煽刂埔粋€或多個聲波發(fā)射器的取向。一個或多個聲波發(fā)射器具有可調(diào)節(jié)的位置?？刂破骺梢耘渲贸煽刂埔粋€或多個聲波發(fā)射器的位置。多個聲波發(fā)射器可以設(shè)置在基本上相同的平面內(nèi)。根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供一種光刻設(shè)備，包括支撐結(jié)構(gòu)，用以支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置用以在輻射束的橫截面上給輻射束提供圖案；襯底臺，用以保持襯底；投影系統(tǒng)，用以將圖案化的輻射束投影到襯底的目標部分上；和這里所述的波前修正設(shè)備。波前修正設(shè)備的聲波發(fā)射器可以設(shè)置在光刻設(shè)備的投影系統(tǒng)和/或照射系統(tǒng)中，照射系統(tǒng)配置成調(diào)節(jié)輻射束并且朝向支撐結(jié)構(gòu)傳送所述束。聲波發(fā)射器位于光刻設(shè)備的光瞳平面內(nèi)和/或場平面內(nèi)。聲波發(fā)射器位于基本上垂直光刻設(shè)備的光學軸線的平面內(nèi)。聲波發(fā)射器配置成發(fā)射頻率與通過光刻設(shè)備的源或與光刻設(shè)備相關(guān)聯(lián)的源產(chǎn)生的輻射脈沖的重復(fù)率相符的頻率的聲波或者發(fā)射頻率為通過光刻設(shè)備的源或與光刻設(shè)備相關(guān)聯(lián)的源產(chǎn)生的輻射脈沖的重復(fù)率的倍數(shù)的聲波的聲波。聲波發(fā)射器可以配置成發(fā)射頻率與光刻設(shè)備的源或與光刻設(shè)備相關(guān)聯(lián)的源產(chǎn)生的輻射脈沖的重復(fù)率相關(guān)或確定的聲波。例如，可以選擇頻率，其針對不同輻射脈沖在不同的期望位置處提供聲波的波腹?？刂破骺梢耘渲贸山邮蛰椛涫牟ㄇ跋癫畹臏y量值或預(yù)測值，以及確定將減小或消除輻射束的波前像差的駐聲波結(jié)構(gòu)。聲波發(fā)射器可以配置成在氣體中建立駐聲波。根據(jù)本發(fā)明一方面，提供一種器件制造方法，包括步驟使用圖案形成裝置以在輻射束的橫截面上給輻射束提供圖案；使用投影系統(tǒng)將圖案化的輻射束投影到襯底的目標部分上；和使用聲波發(fā)射器發(fā)射聲波以建立聲波，所建立的聲波至少部分地行進跨過圖案化的或未圖案化的輻射束在入射到襯底之前所通過的輻射束管道?，F(xiàn)在參照隨附的示意性附圖，僅以舉例的方式，描述本發(fā)明的實施例，其中，在附圖中相應(yīng)的附圖標記表示相應(yīng)的部件，且其中圖I示意地示出根據(jù)本發(fā)明一個實施例的光刻設(shè)備；圖2示意地示出根據(jù)本發(fā)明一個實施例的波前修正設(shè)備；圖3示意地示出根據(jù)本發(fā)明另一個實施例的波前修正設(shè)備；和圖4示意地示出根據(jù)本發(fā)明另一個實施例的波前修正設(shè)備。具體實施例方式雖然在本文中詳述了光刻設(shè)備用在制造ICs(集成電路)，但是應(yīng)該理解到，這里所述的光刻設(shè)備可以有其他應(yīng)用，例如制造集成光學系統(tǒng)、磁疇存儲器的引導(dǎo)和檢測圖案、液晶顯示器(LCDs)、薄膜磁頭等。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該認識到，在這種替代應(yīng)用的情況中，可以將這里使用的任何術(shù)語“晶片”或“管芯”分別認為是與更上位的術(shù)語“襯底”或“目標部分”同義。這里所指的襯底可以在曝光之前或之后進行處理，例如在軌道(一種典型地將抗蝕劑層涂到襯底上，并且對已曝光的抗蝕劑進行顯影的工具)、量測工具和/或檢驗工具中。在可應(yīng)用的情況下，可以將所述公開內(nèi)容應(yīng)用于這種和其他襯底處理工具中。另外，所述襯底可以處理一次以上，例如為產(chǎn)生多層1C，使得這里使用的所述術(shù)語“襯底”也可以表示已經(jīng)包含多個已處理層的襯底。這里使用的術(shù)語“輻射”和“束”包含全部類型的電磁輻射，包括紫外(UV)輻射(例如具有約365、248、193、157或126nm的波長或其他波長)。這里所使用的術(shù)語“圖案形成裝置”應(yīng)該被廣義地理解為表示能夠用于將圖案在輻射束的橫截面上賦予輻射束、以便在襯底的目標部分上形成圖案的任何裝置。應(yīng)當注意，被賦予輻射束的圖案可能不與在襯底的目標部分上的所需圖案完全相符。通常，被賦予輻射束的圖案將與在目標部分上形成的器件中的特定的功能層相對應(yīng)，例如集成電路。圖案形成裝置可以是透射式的或反射式的。圖案形成裝置的示例包括掩模、可編程反射鏡陣列以及可編程液晶顯示(LCD)面板。掩模在光刻術(shù)中是公知的，并且包括諸如二元掩模類型、交替型相移掩模類型、衰減型相移掩模類型和各種混合掩模類型之類的掩模類型?？删幊谭瓷溏R陣列的示例采用小反射鏡的矩陣布置，每一個小反射鏡可以獨立地傾斜，以便沿不同方向反射入射的輻射束；以此方式，反射的束被圖案化。支撐結(jié)構(gòu)保持圖案形成裝置。支撐結(jié)構(gòu)以依賴于圖案形成裝置的方向、光刻設(shè)備的設(shè)計以及諸如圖案形成裝置是否保持在真空環(huán)境中等其他條件的方式保持圖案形成裝置。所述支撐結(jié)構(gòu)可以采用機械的、真空的、靜電的或其它夾持技術(shù)，例如真空條件下的靜電夾持。所述支撐結(jié)構(gòu)可以是框架或臺，例如，其可以根據(jù)需要成為固定的或可移動的，并且可以確保圖案形成裝置位于所需的位置上(例如相對于投影系統(tǒng))。在這里任何使用的術(shù)語“掩模版”或“掩?！倍伎梢哉J為與更上位的術(shù)語“圖案形成裝置”同義。這里使用的術(shù)語“投影系統(tǒng)”應(yīng)該廣義地解釋為包括任意類型的投影系統(tǒng)，投影系統(tǒng)的類型可以包括折射型光學系統(tǒng)、反射型光學系統(tǒng)、反射折射型光學系統(tǒng)，如對于所使用的曝光輻射所適合的、或?qū)τ谥T如使用浸沒液或使用真空之類的其他因素所適合的。這里使用的術(shù)語“投影透鏡”可以認為是與更上位的術(shù)語“投影系統(tǒng)”同義。照射系統(tǒng)可以包括各種類型的光學構(gòu)件，例如折射型、反射型、反射折射型光學構(gòu)件，以引導(dǎo)、成形、或控制輻射束。光刻設(shè)備可以是具有兩個(雙臺)或更多襯底臺(和/或兩個或更多的支撐結(jié)構(gòu))的類型。在這種“多臺”機器中，可以并行地使用附加的臺或支撐結(jié)構(gòu)，或可以在一個或更多個臺上執(zhí)行預(yù)備步驟的同時，將一個或更多個其它臺用于曝光。光刻設(shè)備也可以是這種類型，其中襯底可以被具有相對高的折射率的液體(例如水)浸沒，以便充滿投影系統(tǒng)的最終元件和襯底之間的空間。浸沒技術(shù)在本領(lǐng)域是熟知的用于提高投影系統(tǒng)的數(shù)值孔徑。圖I示意地示出根據(jù)本發(fā)明具體實施例的光刻設(shè)備。所述光刻設(shè)備包括-照射系統(tǒng)(照射器)IL，其配置用以調(diào)節(jié)輻射束PB(例如UV輻射或DUV輻射)；-支撐結(jié)構(gòu)(例如掩模臺)MT，用于支撐圖案形成裝置(例如掩模)MA，并與配置用于相對于部件PL精確地定位圖案形成裝置MA的第一定位裝置PM相連；-襯底臺(例如晶片臺)WT，其用于保持襯底(例如涂覆有抗蝕劑的晶片)W，并與配置用于相對于部件PL精確地定位襯底的第二定位裝置PW相連；和-投影系統(tǒng)(例如折射投影系統(tǒng))PL，其配置成用于將由圖案形成裝置MA賦予輻射束PB的圖案投影到襯底W的目標部分C(例如包括一根或多根管芯)上。·如這里所示的，所述設(shè)備是透射型的(例如，采用透射式掩模)。替代地，所述設(shè)備可以是反射型的(例如，采用如上所述類型的可編程反射鏡陣列，或采用反射式掩模)。所述照射器IL接收從輻射源SO發(fā)出的輻射束。該源和所述光刻設(shè)備可以是分立的實體(例如當該源為準分子激光器時)。在這種情況下，不會將該源看成形成光刻設(shè)備的一部分，并且通過包括例如合適的定向反射鏡和/或擴束器的束傳遞系統(tǒng)BD的幫助，將所述輻射束從所述源SO傳到所述照射器IL。在其它情況下，所述源可以是所述光刻設(shè)備的組成部分(例如當所述源SO是汞燈時)。可以將所述源SO和所述照射器IL、以及如果需要時設(shè)置的所述束傳遞系統(tǒng)BD—起稱作輻射系統(tǒng)。所述照射器IL可以包括用于調(diào)整所述輻射束的角強度分布的調(diào)整器AM。通常，可以對所述照射器的光瞳平面中的強度分布的至少所述外部和/或內(nèi)部徑向范圍(一般分別稱為σ-外部和ο-內(nèi)部)進行調(diào)整。此外，所述照射器IL可以包括各種其它構(gòu)件，例如積分器IN和聚光器CO。可以將所述照射器用于調(diào)節(jié)所述輻射束PB，以在其橫截面中具有所需的均勻性和強度分布。所述輻射束PB入射到保持在支撐結(jié)構(gòu)MT上的所述圖案形成裝置(例如，掩模)MA上。已經(jīng)穿過圖案形成裝置MA之后，所述輻射束PB通過投影系統(tǒng)PL，所述投影系統(tǒng)將輻射束聚焦到所述襯底W的目標部分C上。通過第二定位裝置PW和位置傳感器IF(例如，干涉儀器件)的幫助，可以精確地移動所述襯底臺WT，例如以便將不同的目標部分C定位于所述輻射束PB的路徑中。類似地，例如在從掩模庫的機械獲取之后，或在掃描期間，可以將所述第一定位裝置PM和另一個位置傳感器(圖I中未明確示出)用于相對于所述輻射束PB的路徑精確地定位圖案形成裝置ΜΑ。通常，可以通過形成定位裝置PM和PW的一部分的長行程模塊(粗定位)和短行程模塊(精定位)的幫助來實現(xiàn)物體臺MT和WT的移動。然而，在步進機的情形(與掃描器相反)中，支撐結(jié)構(gòu)MT可以僅連接至短行程致動器，或可以是固定的?？梢允褂脠D案形成裝置對準標記Μ1、Μ2和襯底對準標記Ρ1、Ρ2來對準圖案形成裝置MA和襯底W。圖中示出的光刻設(shè)備可以用于下列模式中的至少一種I.在步進模式中，在將支撐結(jié)構(gòu)MT和襯底臺WT保持為基本靜止的同時，將賦予所述輻射束PB的整個圖案一次投影到目標部分C上(即，單一的靜態(tài)曝光)。然后將所述襯底臺WT沿X和/或Y方向移動，使得可以對不同目標部分C曝光。在步進模式中，曝光場的最大尺寸限制在單次靜態(tài)曝光中成像的目標部分C的尺寸。2.在掃描模式中，在對支撐結(jié)構(gòu)MT和襯底臺WT同步地進行掃描的同時，將賦予所述輻射束PB的圖案投影到目標部分C上(B卩，單一的動態(tài)曝光)。襯底臺WT相對于支撐結(jié)構(gòu)MT的速度和方向可以通過所述投影系統(tǒng)PL的(縮小)放大率和圖像反轉(zhuǎn)特征來確定。在掃描模式中，曝光場的最大尺寸限制了單一動態(tài)曝光中所述目標部分的寬度(沿非掃描方向)，而所述掃描運動的長度確定了所述目標部分的高度(沿所述掃描方向)。3.在另一個模式中，將用于保持可編程圖案形成裝置的支撐結(jié)構(gòu)MT保持為基本靜止，并且在對所述襯底臺WT進行移動或掃描的同時，將賦予所述輻射束PB的圖案投影到目標部分C上。在這種模式中，通常采用脈沖輻射源，并且在所述襯底臺WT的每一次移動之后、或在掃描期間的連續(xù)輻射脈沖之間，根據(jù)需要更新所述可編程圖案形成裝置。這種操作模式可易于應(yīng)用于利用可編程圖案形成裝置(例如，如上所述類型的可編程反射鏡陣列)的無掩模光刻術(shù)中。也可以采用上述使用模式的組合和/或變體，或完全不同的使用模式。投影系統(tǒng)PL在圖I中通過一般的圓柱形形狀(但是其可以具有其他形狀)示意地表示。投影系統(tǒng)PL可以包括串聯(lián)布置(例如以柱形布置)的多個光學元件(例如，透鏡)。光學元件可以例如由石英形成。光學元件可以包括全部透鏡或其他透射光學元件，包括全部反射鏡或其他反射光學元件，或包括透射和反射光學元件的組合。光學元件可以例如保持在殼體內(nèi)。殼體可以例如由鋁形成。輻射束PB通過投影系統(tǒng)PL并且成像到襯底W上。投影系統(tǒng)PL可以被看作輻射束通道的示例，因為在光刻設(shè)備操作期間輻射束通過投影系統(tǒng)。光刻設(shè)備的其他部分，例如照射系統(tǒng)IL還可以被看作輻射束管道。在一個實施例中，波前修正設(shè)備2(用虛線示意地表示)設(shè)置在投影系統(tǒng)PL內(nèi)。波前修正設(shè)備2連接至控制器CT，其可以控制波前修正設(shè)備的操作?？刂破鰿T還連接至源S0。這允許控制器CT同步化波前修正設(shè)備2的操作和源SO的操作。圖2示意地示出從上面看的根據(jù)一個實施例的波前修正設(shè)備2。波前修正設(shè)備2包括多個聲波發(fā)射器6a-p。聲波發(fā)射器6a-p安裝在框架4上,其圍繞福射束PB的外周延伸。每個聲波發(fā)射器6a_p配置成朝向相關(guān)的發(fā)射器發(fā)射聲波。例如，聲波發(fā)射器6a配置成朝向聲波發(fā)射器6d發(fā)射聲波,并且聲波發(fā)射器6d配置成朝向聲波發(fā)射器6a發(fā)射聲波。這些聲波發(fā)射器6a、d可以看作彼此面對的一對聲波發(fā)射器。由聲波發(fā)射器6a、d發(fā)射的聲波具有相同的頻率(或基本上相同的頻率)。聲波彼此干涉，由此導(dǎo)致生成駐聲波。駐聲波的波腹和波節(jié)的位置依賴于由該對聲波發(fā)射器6a、d發(fā)射的聲波的相對相位。因此，波節(jié)和波腹的位置可以通過修正聲波的相對相位調(diào)節(jié)。由該對聲波發(fā)射器6a、d發(fā)射的聲波的頻率和相位可以通過控制器CT(見圖I)控制。由聲波發(fā)射器6a、d產(chǎn)生的駐聲波提供跨過福射束PB的部分延伸的壓力分布。投影系統(tǒng)PL內(nèi)的氣體(例如空氣)折射系數(shù)是氣體壓力的函數(shù)。因此，壓力分布產(chǎn)生在氣體中的折射系數(shù)分布。折射系數(shù)分布的最大值和最小值在駐聲波的波腹處。在駐聲波的波節(jié)處折射系數(shù)基本上不改變。由駐聲波產(chǎn)生的折射系數(shù)分布引起輻射束PB的修正。當輻射束的部分通過駐聲波時通過駐聲波應(yīng)用至輻射束PB的給定部分的效果將依賴于駐聲波的相位。例如，如果在波腹是最大值時輻射束的部分通過駐聲波的波腹，則輻射束的部分將經(jīng)歷高壓并因此遭受高的折射系數(shù)。輻射束的部分行進的光學路徑長度將因此增大(相對于輻射束的部分通過波節(jié)所行進的光學路徑)。相反，如果當波腹是最小值時輻射束的部分通過駐聲波的波腹，則輻射束的部分將遭受低壓并因此經(jīng)歷低的折射系數(shù)。輻射束的部分行進的光學路徑長度將因此減小(相對于輻射束的部分通過波節(jié)所行進的光學路徑)。相同的情形應(yīng)用至通過駐聲波的波腹和波節(jié)之間部分路徑的輻射束的部分，但是被聲波施加的影響的振幅將較小。圖案通過光刻設(shè)備(見圖I)從圖案形成裝置MA被投影到襯底W上的精確度部分依賴于用于投影圖案的輻射束PB的光學波前。輻射束PB的光學波前偏離其理想形狀會對通過光刻設(shè)備投影圖案的精確度產(chǎn)生極壞的影響。波前修正設(shè)備2可以用于修正輻射束PB的光學波前，并且由此減小或消除輻射束的光學波前偏離其理想形狀。這可以便于改進通過光刻設(shè)備投影圖案到襯底W上的精確度。由一對聲波發(fā)射器6a_p產(chǎn)生的每個駐聲波將具有有限的直徑,其可以例如通過用于發(fā)射聲波的聲波發(fā)射器的配置和/或尺寸確定。期望地，可以提供跨過輻射束PB的橫截面的基本上部分或甚至全部的聲波。等同地，期望提供跨過輻射束管道(例如輻射束PB通過的照射系統(tǒng)IL和/或投影系統(tǒng)PL的部分)的基本上部分或甚至全部的聲波。這可以通過圍繞輻射束管道的外部(例如圍繞框架4)提供多個聲波發(fā)射器實現(xiàn)。在一個實施例中，聲波發(fā)射器可以圍繞在輻射束管道的外部分布(例如設(shè)置在框架4上)。聲波發(fā)射器可以例如定位成在它們之間具有基本上相等的間隔，或在它們之間具有不同的間隔。聲波發(fā)射器可以配置成引導(dǎo)聲波使得它們?nèi)客ㄟ^中心點(例如示意地通過聲波發(fā)射器6a_f部分地表示)。例如，中心點可以與光刻設(shè)備的光學軸線一致。替換地，聲波發(fā)射器的部分或全部可以配置成引導(dǎo)聲波使得它們不全部通過中心點或根本不通過中心點(例如通過聲波發(fā)射器6g-p不意地表不)。聲波發(fā)射器可以配置成引導(dǎo)聲波使得它們建立填充(或填充大體部分)輻射束管道的橫截面的格子。通過聲波發(fā)射器6g-p產(chǎn)生這種格子在圖2中示意地示出。聲波發(fā)射器可以配置成沿任何期望的方向引導(dǎo)聲波。聲波發(fā)射器可以配置成用駐聲波基本上充滿輻射束管道的橫截面?？梢栽O(shè)置任何合適數(shù)量的聲波發(fā)射器。每個聲波發(fā)射器可以是一對聲波發(fā)射器中的一個。該對聲波發(fā)射器的每個聲波發(fā)射器配置成引導(dǎo)聲波到該對聲波發(fā)射器的相對的聲波發(fā)射器。由該對聲波發(fā)射器的每個聲波發(fā)射器發(fā)射的聲波具有基本上相同的頻率(包括多個基本上相同的頻率)。以基本上相同的頻率沿相反方向行進的聲波發(fā)射導(dǎo)致產(chǎn)生駐聲波。不同對的聲波發(fā)射器可以發(fā)射具有不同頻率的聲波。在一個實施例中，如圖3所不,波前修正設(shè)備2’可以包括一系列單個聲波發(fā)射器6a_c代替多對的聲波發(fā)射器或作為多對聲波發(fā)射器的附加?？梢栽谙鄬Φ拿總€聲波發(fā)射器6a_c設(shè)置能夠發(fā)射聲波的表面。反射表面8a-c可以例如是基本上平的表面，其基本上垂直于由單個聲波發(fā)射器發(fā)射聲波的傳播方向。在使用單個聲波發(fā)射器的情形中，波前修正設(shè)備將大體與前面描述的波前修正設(shè)備以相同方式運轉(zhuǎn)。然而，在單個聲波發(fā)射器僅與反射表面組合使用的情形中，駐聲波的波節(jié)和波腹的位置不能通過控制聲波發(fā)射器之間的相位控制，因為在這種組合中僅設(shè)置單個聲波發(fā)射器。雖然在圖3中示出三個聲波發(fā)射器6a_c和三個反射表面8a_c,但是可以設(shè)置任何數(shù)量的聲波發(fā)射器和發(fā)射表面。控制器CT可以配置成接通或關(guān)閉所選擇的聲波發(fā)射器以便在輻射束管道內(nèi)期望的位置處提供駐聲波。在一個實施例中，一個或多個聲波發(fā)射器6a_p可以具有可調(diào)節(jié)的取向。例如，聲波發(fā)射器可以保持在可旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)的基座上(未示出)?？尚D(zhuǎn)調(diào)節(jié)的基座可以允許例如圍繞一個或多個旋轉(zhuǎn)軸線修正聲波發(fā)射器的取向。聲波發(fā)射器的取向可以例如通過控制器CT控制(如圖I)。聲波發(fā)射器的取向可以通過控制器CT控制以便引導(dǎo)聲波跨過輻射束管道的期望產(chǎn)生駐聲波的部分。在一個實施例中，一個或多個聲波發(fā)射器6a_p可以具有可調(diào)節(jié)的位置。例如，聲波發(fā)射器可以保持在允許調(diào)節(jié)聲波發(fā)射器位置的基座上?？梢哉{(diào)節(jié)的基座可以例如允許沿一個或多個方向改變聲波發(fā)射器的位置。聲波發(fā)射器的位置可以例如通過控制器CT(見圖I)控制。聲波發(fā)射器的位置可以通過控制器CT控制以便引導(dǎo)聲波跨過輻射束管道的期望產(chǎn)生駐聲波的部分。雖然聲波發(fā)射器6a_p如圖2示出為安裝在框架4上，但是聲波發(fā)射器可以以任何合適的方式固定(框架4不是必須的)。例如，聲波發(fā)射器可以安裝在投影系統(tǒng)PL的壁上(可以安裝在照射系統(tǒng)IL的壁上)。在一個實施例中，可以期望在束管道內(nèi)的特定位置處提供波前修正(例如以便調(diào)節(jié)在輻射束內(nèi)的特定位置處的波前)。例如可以通過僅操作那些產(chǎn)生通過該位置的聲波的聲波發(fā)射器并且通過選擇使得在該位置處提供駐聲波波腹的聲波發(fā)射器的相對相位實現(xiàn)在束管道內(nèi)的特定位置處提供波前修正。雖然駐聲波在空間上是基本上靜止或固定的，由駐聲波引起的壓力分布隨時間變化。具體地，駐聲波的波腹處的壓力將在駐聲波的頻率確定的時間段從最大值變化至最小值。因為光速比聲速快得多，在輻射束的輻射脈沖經(jīng)歷的壓力分布不顯著改變的同時，輻射脈沖通過駐聲波。然而，為了幫助確保輻射束的連續(xù)輻射脈沖經(jīng)歷基本上相同的壓力分布，駐聲波和輻射脈沖可以同步。將駐聲波與輻射束的輻射脈沖同步可以限制駐聲波的最大波長。例如，如果光刻設(shè)備要具有輻射束脈沖重復(fù)率2kHz，則在與輻射脈沖同步提供的同時駐聲波可以具有的最小頻率也是2kHz。聲波的波長等于被聲波的頻率分開的聲速。在這種情形中，可以提供與輻射脈沖同步的聲波的最大波長為350ms_72kHZ=17cm。在通常的光刻設(shè)備中，輻射束(或等同地，輻射管道)可以具有大約IOcm的直徑。因此，聲波的最大波長顯著大于輻射束的直徑，并且結(jié)果駐聲波能夠提供波前修正用于輻射束中的低級像差。駐聲波不需要具有與輻射脈沖重復(fù)率相同的頻率，但是可以替代地例如具有輻射脈沖重復(fù)率的倍數(shù)的頻率。在這種情況下，連續(xù)輻射脈沖將不經(jīng)受駐聲波的連續(xù)的最大值，但是替代地將遭受駐聲波的最大值的二分之一、三分之一或η分之一。這仍然有助于確保連續(xù)的輻射脈沖經(jīng)歷基本上相同的壓力分布，同時允許使用具有較短波長的駐聲波。較短波長的駐聲波將提供具有更大的最大值的壓力分布(最大值的數(shù)值由駐聲波的波長確定)O在一個實施例中，駐聲波可以具有不等于輻射脈沖重復(fù)率或等于倍數(shù)的頻率。在這種情況下，連續(xù)的輻射脈沖可以經(jīng)歷具有不同振幅的駐聲波的波腹。以此方式，可以將時間變化的波前修正應(yīng)用于輻射束。波前修正的時間變化可以通過聲波的頻率和輻射脈沖的頻率之間的頻率失配確定。通過選擇由用于產(chǎn)生駐聲波的聲波發(fā)射器發(fā)射的聲波的合適波長可以選擇駐聲波的高壓波腹之間的分隔距離。通過調(diào)節(jié)用于產(chǎn)生駐聲波的聲波發(fā)射器之間的相對相位可以選擇給定駐聲波的高壓波腹的位置。通過選擇由適當?shù)囟ㄎ徊⒍ㄏ虻穆暡òl(fā)射器發(fā)射的聲波的適當?shù)牟ㄩL(或頻率)和相位可以實現(xiàn)修正輻射束波前以補償特定或具體像差。在一個實施例中，可以期望，減小駐聲波的波長(并相應(yīng)地增大其頻率)，同時保持輻射脈沖和聲波最大值之間的一對一的對應(yīng)關(guān)系。在這種情況下，輻射脈沖的重復(fù)率可以增大，以便允許駐聲波的波長減小。在實踐中，輻射脈沖的重復(fù)率可以是固定不變的，或可以依賴于光刻設(shè)備的不容易修正的參數(shù)?；诖嗽?，可以更加直接地將駐聲波的頻率提高至脈沖重復(fù)率的倍數(shù)而不是增大脈沖重復(fù)率。波前修正設(shè)備的聲波發(fā)射器可以位于投影系統(tǒng)PL的光瞳平面內(nèi)(或光刻設(shè)備的某些其他合適部件內(nèi)的光瞳平面內(nèi))。在這種情況下，波前修正設(shè)備將對光瞳平面內(nèi)的輻射束應(yīng)用修正，并將因此引入光瞳效應(yīng)。波前修正設(shè)備可以用于應(yīng)用例如像差偏移。術(shù)語“像差偏移”是為了表示將同等地完全應(yīng)用到場平面內(nèi)的圖像的像差修正。波前修正因此可以用于減小或校正跨過輻射束的整個波前的輻射束內(nèi)的像差。例如，如果通過波前修正設(shè)備在光瞳平面內(nèi)引入散焦，則圖像的全部點將基本上等同地散焦，因為來自圖像的每個點的輻射通過相同的光瞳平面。波前修正設(shè)備可以修正光瞳平面內(nèi)的輻射束的波前，而不會引入場平面修正到輻射束中。波前修正設(shè)備可以用于減小或消除被投影系統(tǒng)PL(或光刻設(shè)備的其他部件)引入至輻射束的不期望的像差偏移。波前修正設(shè)備的聲波發(fā)射器可以位于投影系統(tǒng)PL的場平面內(nèi)(或在光刻設(shè)備的某些其他部件內(nèi)的場平面內(nèi))。在這種情況下，波前修正設(shè)備將應(yīng)用修正到場平面內(nèi)的輻射束，并因此將場效應(yīng)引入到輻射束。波前修正設(shè)備可以用于減小或校正存在于輻射束的特定空間位置處的像差。使用基于線柵的設(shè)備(如下文中進一步描述的)不能減小或校正存在于輻射束的特定空間位置處的像差，因為在光刻設(shè)備的操作期間線柵的線將被成像到襯底上。如上介紹的，將波前修正設(shè)備放置在光瞳平面內(nèi)允許將相同的像差修正應(yīng)用跨過整個輻射束，而將波前修正設(shè)備放置在場平面允許將像差修正應(yīng)用在輻射束中的特定空間位置處。可以提供兩個波前修正設(shè)備，第一個在光瞳平面內(nèi)，第二個在場平面內(nèi)。這允許跨過整個輻射束執(zhí)行像差修正，并允許在輻射束的特定空間位置處執(zhí)行像差修正。波前修正設(shè)備的聲波發(fā)射器可以位于投影系統(tǒng)PL的場平面和光瞳平面之間(或在光刻設(shè)備的某些其他部件內(nèi))。在這種情況下，波前修正設(shè)備將提供輻射束的混合的光瞳-場修正。波前修正設(shè)備的聲波發(fā)射器可以設(shè)置在基本上垂直于光刻設(shè)備的光學軸線的平面內(nèi)。在這種情況下，圖2中示出的波前修正設(shè)備將提供輻射束波前的二維修正。如圖4示意地示出的，波前修正設(shè)備2”可以配置成提供輻射束波前的三維修正。如圖4所示，波前修正設(shè)備的聲波發(fā)射器16a-d不配置成發(fā)射垂直于輻射束的光學軸線OA的聲波，而是配置成發(fā)射使得它們與非垂直方向上的光學軸線交叉的聲波。在圖4中，示出四個聲波發(fā)射器16a-d，但是應(yīng)該認識到，可以設(shè)置任何合適數(shù)量的聲波發(fā)射器。聲波發(fā)射器中的兩個16a、c設(shè)置在光刻設(shè)備的光瞳平面PP內(nèi)或光瞳平面PP處，聲波發(fā)射器中的兩個16b、d設(shè)置在光刻設(shè)備的場平面FP內(nèi)或場平面FP處。由波前修正設(shè)備2”產(chǎn)生的駐聲波在光瞳平面和場平面之間延伸，并因此應(yīng)用混合的光瞳-場波前修正至輻射束。圖4中示出的波前修正設(shè)備2”可以例如設(shè)置在光刻設(shè)備的投影系統(tǒng)內(nèi)、光刻設(shè)備的照射系統(tǒng)內(nèi)和/或光刻設(shè)備的任何其他合適位置處。雖然圖4中示出的波前修正設(shè)備2”包括在光瞳平面PP內(nèi)或光瞳平面PP處的聲波發(fā)射器16a、c和場平面PP內(nèi)或場平面PP處的聲波發(fā)射器16b、d，但是聲波發(fā)射器可以附加地或替換地設(shè)置在任何其他合適平面內(nèi)。在單個光刻設(shè)備內(nèi)可以設(shè)置多于一個波前修正設(shè)備。該波前修正設(shè)備可以提供超過其他波前修正設(shè)備的一個或多個優(yōu)點。一個其他波前修正設(shè)備包括位于投影系統(tǒng)內(nèi)透鏡的外圍周圍的致動器，該致動器用于修正透鏡的形狀和/或位置，由此應(yīng)用波前修正。這些致動器的缺點在于，它們可以修正透鏡形狀的速度相對慢。另一缺點在于，致動器可能僅能夠應(yīng)用有限范圍的修正到透鏡形狀，并因此可以應(yīng)用有限范圍的波前修正到輻射束。本發(fā)明的一個實施例能夠以比通過致動器能實現(xiàn)的速度大的速度應(yīng)用波前修正到輻射束。一旦通過一對聲波發(fā)射器發(fā)射的聲波已經(jīng)行進跨過它們之間的空間，則建立駐聲波。一對聲波發(fā)射器(例如圖2中的聲波發(fā)射器6a、b)之間的間隔可以例如是大約IOcm(這可以是輻射束的寬度，或輻射管道的寬度)。假定由聲波發(fā)射器發(fā)射的聲波以聲速(例如350m/s)行進,則由聲波發(fā)射器發(fā)射的聲波可以在大約O.3ms內(nèi)行進跨過輻射管道。因此，可以在大約O.3ms內(nèi)在輻射管道內(nèi)建立期望的駐聲波。如果輻射管道將具有更大的寬度，則將花費更長時間建立駐聲波，因為聲波將需要進行更遠以行進跨過輻射管道。類似地，如果輻射管道將具有較小的寬度，則其將花費較短的時間建立駐聲波。附加地或替換地，波前修正設(shè)備能夠迅速地修正駐聲波。可以修正駐聲波的速度與建立駐聲波的速度相同(這依賴于聲速和聲波行進的距離)。駐聲波的修正可以例如包括駐聲波的波腹和波節(jié)位置的調(diào)節(jié)，該調(diào)節(jié)通過修正用于產(chǎn)生駐聲波的聲波發(fā)射器的相對相位實現(xiàn)。另一優(yōu)點在于，本發(fā)明一個實施例可以應(yīng)用比通過致動器對輻射束應(yīng)用的修正寬范圍的修正。例如，本發(fā)明的一個實施例能夠應(yīng)用具有比使用致動器應(yīng)用高的空間分辨率的修正到輻射束。例如，本發(fā)明的一個實施例可以減小或消除具有比使用致動器應(yīng)用的最高空間頻率高的空間頻率的輻射束內(nèi)的像差偏移(當設(shè)備位于光瞳平面內(nèi)或光瞳平面處)。本發(fā)明的一個實施例能夠減小或消除輻射束中的作為輻射束中的空間位置的函數(shù)而改變的場像差效應(yīng)(當設(shè)備位于光瞳平面之外)。例如，本發(fā)明的一個實施例能夠減小或消除輻射束中的相對于空間位置而不能通過使用致動器提供的速率的變化的場平面像差。例如，本發(fā)明的一個實施例能夠減小或消除輻射束中的相位波痕。本發(fā)明的一個實施例能夠減小或消除輻射束中的局部的場平面像差(即，沿橫截面看僅輻射束的部分存在的場平面像差)。這不能通過使用致動器有效地完成。另一波前修正設(shè)備包括傳送板，其設(shè)置有線柵和氣體冷卻設(shè)備。線柵可以用于修正傳送板上的期望位置上的溫度，并由此修正通過傳送板應(yīng)用到輻射束的光學效應(yīng)。傳送板和線柵布置可以允許在比使用致動器應(yīng)用高的空間分辨率的情況下應(yīng)用修正至輻射束。該板和線柵布置的缺點在于，其可以相對慢，因為需要用于傳送板到達期望溫度的時間。另一缺點在于，線柵的線會阻塞或阻擋輻射束，并因此不能設(shè)置在光刻設(shè)備的場平面內(nèi)或靠近場平面(這將引起由線形成的陰影成像到襯底上)。這些缺點的一個或多個可以通過本發(fā)明的一個實施例克服。如上所述，本發(fā)明的一個實施例可以在大約O.3ms內(nèi)建立期望的駐聲波。因為本發(fā)明的一個實施例不在束中使用線或其他結(jié)構(gòu)，因此不引入陰影到輻射束，因而可以用于光刻設(shè)備的場平面內(nèi)。附加地，因為不在束中使用線或其他結(jié)構(gòu)，本發(fā)明的一個實施例不會通過輻射束的散射產(chǎn)生雜散輻射。本發(fā)明一個實施例的另一缺點在于，可以不需要氣體冷卻，由此避免相對地復(fù)雜的工藝提供氣體冷卻。另一優(yōu)點在于，不必提供與光刻設(shè)備的投影系統(tǒng)匹配的傳送板。這是重要的優(yōu)點，因為將傳送板與光刻設(shè)備的投影系統(tǒng)匹配是花費時間且花費成本的，并且阻止那些傳送板用于任何其他光刻設(shè)備。本發(fā)明的一個實施例可以適應(yīng)光刻設(shè)備而不用匹配至光刻設(shè)備。這允許本發(fā)明的該實施例應(yīng)用并適應(yīng)不同的光刻設(shè)備或其他設(shè)備。本發(fā)明的一個實施例的還一優(yōu)點在于，當波前修正設(shè)備切換至關(guān)閉時，其不應(yīng)用任何修正到輻射束的波前(不像線柵和板設(shè)備)。本發(fā)明的一個實施例的波前修正設(shè)備可以充分迅速地將波前修正應(yīng)用到輻射束，在將圖案掃描曝光到襯底W上(見圖I)期間波前修正可以變化。例如，在掃描曝光期間改變的波前修正可以應(yīng)用到輻射束PB，使得其在掃描曝光期間通過引入抵消這種效應(yīng)的像差(或補償其他不期望的效應(yīng))補償圖案形成裝置加熱導(dǎo)致的圖像變形效應(yīng)?？梢栽诖蠹s40ms內(nèi)通過光刻設(shè)備執(zhí)行掃描曝光，并且在掃描曝光期間由圖案形成裝置加熱引起的圖像變形可以是大約20nm。這對應(yīng)每毫秒(ms)大約O.5nm的改變。波長修正設(shè)備可以在大約O.3毫秒(ms)內(nèi)建立和/或修正駐聲波。因此，波長修正設(shè)備足夠快，便于在掃描曝光期間校正由圖案形成裝置加熱引起的圖像變形。由聲波發(fā)射器產(chǎn)生的聲波可以包括傳播至投影系統(tǒng)的壁或光刻設(shè)備的其他部件的分量。然而，聲波應(yīng)該適當?shù)匮杆偎p，因此對光刻設(shè)備具有可忽略的影響。如果觀察到顯著的負面影響，則在光刻設(shè)備內(nèi)的合適位置處可以設(shè)置吸收材料以防止或限制聲波的傳播。例如，吸收材料可以位于聲波發(fā)射器后面。吸收材料可以設(shè)置在在所有沿聲波發(fā)射器(或基本上全部聲波發(fā)射器)后面延伸的環(huán)內(nèi)。由聲波發(fā)射器發(fā)射的聲波可以具有例如大約Icm的厚度(在這種情況下術(shù)語“厚度”指的是沿傳播方向的橫向方向聲波的尺寸)。一對厚度大約Icm的聲波可以用于生成厚度大約Icm的駐聲波。如果將要獲得IPa振幅的駐聲波，則這將允許應(yīng)用IOnm的像差補償。換句話說，輻射束的通過駐聲波的最大壓力波腹的部分經(jīng)歷的路徑長度將比輻射束的通過駐聲波的波節(jié)的部分經(jīng)歷的路徑長度長10nm。應(yīng)該認識到，較大的振幅將應(yīng)用較大的像差影響至輻射束。類似地，較厚的駐聲波將應(yīng)用較大像差影響至輻射束。由波前修正設(shè)備產(chǎn)生的駐聲波的厚度依賴于聲波發(fā)射器的配置和/或尺寸和聲波的波長。當制造波前修正設(shè)備時可以根據(jù)將要實現(xiàn)的期望空間分辨率選擇厚度。較薄的聲波可以需要比較厚聲波更精確地引導(dǎo)以便幫助確保它們不會彼此重疊和/或控制它們之間的重疊。較厚的聲波可以帶來對輻射束的平面外修正，如下文介紹的。在光刻設(shè)備的期望的平面內(nèi)(例如光瞳平面)提供駐聲波的實施例中，可以期望限制駐聲波的厚度使得其不包括充分大以將不期望的平面外修正施加至輻射束的該平面外部的分量。將駐聲波的厚度限制至大約Icm或更小可以充分地避免將不期望的平面外修正施加至輻射束。例如，將駐聲波的厚度限制至大約Icm可以允許在不應(yīng)用明顯的光瞳平面外部的修正的情況下應(yīng)用光瞳平面內(nèi)的輻射束的修正。可以在投影系統(tǒng)PS的一個或多個位置處應(yīng)用大約Icm的駐聲波厚度(這可以依賴于投影系統(tǒng)中使用的光學元件的配置)?？梢詰?yīng)用其他駐聲波厚度?？梢栽诓灰朊黠@的非光瞳平面影響的情況下用于光瞳平面的駐聲波的最大厚度將依賴于投影系統(tǒng)的配置，并且尤其地，可以依賴于投影系統(tǒng)內(nèi)光瞳和場平面之間的距離。在不引入明顯的非場平面影響的情況下確定用于場平面的駐聲波的最大厚度時可以應(yīng)用類似的考慮。如上面所述，波前修正設(shè)備的聲波發(fā)射器可以通過控制器CT控制(見圖I)?？刂破鰿T可以配置成監(jiān)測輻射束的一個或多個測量的(例如通過使用位于襯底臺WT內(nèi)的傳感器測量的)波前像差?？刂破鰿T可以配置成確定由波前修正設(shè)備生成的駐聲波的結(jié)構(gòu)，其將減小或消除輻射束的測量的波前像差。控制器CT可以接收所測量的波前像差，并確定應(yīng)該在哪里增加波前或減去波前以補償像差。隨后控制器可以控制聲波發(fā)射器以產(chǎn)生將增加或減去適當?shù)母郊酉嗖畹膲毫Ψ植肌＠?，散焦可以通過襯底臺WT內(nèi)的傳感器測量?？刂破骺梢源_定由波前修正設(shè)備生成的駐聲波結(jié)構(gòu)，其將減小或消除散焦，并且隨后可以操作所選擇的聲波發(fā)射器使得它們產(chǎn)生該駐聲波結(jié)構(gòu)。代替或附加配置以監(jiān)測輻射束的測量的波前像差，控制器CT可以配置成接收、生成或從存儲器搜索輻射束的一個或多個預(yù)測的波前像差。波前像差的預(yù)測可以依賴于在校準光刻設(shè)備期間觀察到的波前像差，并且可以是例如基于時間的(例如由于光刻設(shè)備的光學元件隨著時間變化而升溫可以發(fā)生的像差)?？刂破骺梢耘渲贸纱_定由波前修正設(shè)備產(chǎn)生的駐聲波結(jié)構(gòu)，其將減小或消除輻射束的計算的或預(yù)測的波前像差。可以通過例如參考存儲的數(shù)據(jù)的控制器確定用以減小或消除輻射束的給定波前像差的駐聲波結(jié)構(gòu)。存儲的數(shù)據(jù)可以例如包括查找表(lookuptable)(或某些其他形式的數(shù)據(jù))，其指示將減小或消除一個或多個波前像差的駐聲波結(jié)構(gòu)?？梢詧?zhí)行存儲在查找表(或某些其他數(shù)據(jù)形式)中的聲波結(jié)構(gòu)之間的內(nèi)插或插值。可以以任何便利的形式實施本發(fā)明的多個方面。例如，可以提供計算機程序執(zhí)行這里所描述的方法的任一種。這種計算機程序可以在合適的計算機可讀介質(zhì)上執(zhí)行，計算機可讀介質(zhì)包括任何合適的實際的存儲裝置(例如光盤、ROM或RAM)?？梢酝ㄟ^合適地編程的計算機實施本發(fā)明的多個方面?？梢栽诶缈刂破鰿T中應(yīng)用或?qū)嵤┯嬎銠C和/或計算機程序。波前修正設(shè)備可以用于在光刻設(shè)備中存在的空氣(或其他氣體)中產(chǎn)生駐聲波。在一個實施例中，波前修正設(shè)備可以用于在光刻設(shè)備中存在的水(或其他液體)中產(chǎn)生駐聲波。例如，在光刻設(shè)備的操作期間(用于浸沒光刻)可以在位于光刻設(shè)備的投影系統(tǒng)和襯底之間的浸沒液體中產(chǎn)生駐聲波。在一個實施例中，波前修正設(shè)備可以用于在光刻設(shè)備中存在的石英(或某些其他固體)中產(chǎn)生駐聲波。例如，可以在光刻設(shè)備的光學元件(例如透鏡)中產(chǎn)生駐聲波。在液體或固體中產(chǎn)生的駐聲波將以與氣體中產(chǎn)生的駐聲波相同的方式修正輻射束的波前。然而，液體或固體的較高的折射系數(shù)將意味著對于輻射束脈沖的給定重復(fù)率可以產(chǎn)生的駐聲波的最大波長減小。因為液體或固體允許產(chǎn)生減小的波長的駐聲波，因此它們可以例如在期望產(chǎn)生具有較短波長的駐聲波時(與氣體產(chǎn)生的駐聲波相比)使用。在一個實施例中，波前修正設(shè)備的一對聲波發(fā)射器可以發(fā)射不同頻率的聲波。在這種情況下，它們一起產(chǎn)生的聲波將不是固定不變的，而是具有依賴于所發(fā)射聲波的頻率之間的差異的變化的相位。聲波將因此朝向聲波發(fā)射器中的一個行進。因此聲波可以稱為行進的聲波或移動的聲波，而不是駐聲波?？刂破鰿T可以使移動聲波與通過源SO產(chǎn)生輻射脈沖同步化，使得輻射脈沖在它們通過波前修正設(shè)備時經(jīng)歷基本上相同的壓力分布。移動聲波因此可以用于以前面關(guān)于駐聲波描述的相同方式修正福射束PB的波前。在一個實施例中，替代或附加適用一對聲波發(fā)射器以產(chǎn)生移動聲波，可以使用單個聲波發(fā)射器產(chǎn)生移動聲波。在這種情況下，可以相對聲波發(fā)射器設(shè)置吸收器。吸收器用作減小或消除聲波反射回朝向聲波發(fā)射器。例如，可以使用與圖3中示出的類似的配置，其中反射器8a_c用吸收器替換。吸收器可以例如包括吸收材料，或可以例如包括不操作的聲波發(fā)射器。移動的聲波的振幅可以在其移動離開聲波發(fā)射器時衰減。例如當期望跨過輻射束對振幅衰減的輻射束應(yīng)用修正時，這可以是有利的。控制器CT可以使移動的聲波與通過源SO產(chǎn)生輻射脈沖同步化，使得輻射脈沖在通過波前修正設(shè)備時經(jīng)歷基本上相同的壓力分布。這里描述的聲波發(fā)射器可以是傳統(tǒng)的聲波發(fā)射器，其能夠發(fā)射準直的或基本上準直的聲波(例如可以使用電磁聲換能器)。雖然上面描述的本發(fā)明具體的實施例，但是應(yīng)該認識到，本發(fā)明可以以與上述不同的方式實施。這里的說明書不是為了限制本發(fā)明。權(quán)利要求1.一種波前修正設(shè)備，包括多個聲波發(fā)射器，所述多個聲波發(fā)射器配置成發(fā)射至少部分地行進跨過輻射束管道的聲波。2.如權(quán)利要求I所述的波前修正設(shè)備，其中，所述多個聲波發(fā)射器配置以建立駐聲波，所述駐聲波至少部分地延伸跨過輻射束管道。3.如權(quán)利要求I或2所述的波前修正設(shè)備，其中，所述多個聲波發(fā)射器成對地設(shè)置，每一對的聲波發(fā)射器彼此面對。4.如權(quán)利要求3所述的波前修正設(shè)備，其中，一對聲波發(fā)射器中的第一聲波發(fā)射器配置成發(fā)射頻率與一對聲波發(fā)射器中的第二聲波發(fā)射器發(fā)射的聲波基本上相同的聲波。5.如前述權(quán)利要求任一項所述的波前修正設(shè)備，其中，聲波發(fā)射器配置成用駐聲波基本上填滿輻射束管道的橫截面。6.如前述權(quán)利要求任一項所述的波前修正設(shè)備，其中，波前修正設(shè)備還包括配置成控制由聲波發(fā)射器發(fā)射的聲波的頻率和相位的控制器。7.如權(quán)利要求6所述的波前修正設(shè)備，其中，所述控制器配置成啟動或關(guān)閉所選擇的聲波發(fā)射器以便在輻射束管道內(nèi)的期望位置處提供駐聲波。8.如前述權(quán)利要求任一項所述的波前修正設(shè)備，其中，多個聲波發(fā)射器設(shè)置在基本上相同的平面內(nèi)。9.一種光刻設(shè)備，包括支撐結(jié)構(gòu)，用以支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置用以在輻射束的橫截面上給輻射束提供圖案；襯底臺，用以保持襯底；投影系統(tǒng)，用以將圖案化的輻射束投影到襯底的目標部分上；和如前述權(quán)利要求中任一項所述的波前修正設(shè)備。10.如權(quán)利要求9所述的光刻設(shè)備，其中，波前修正設(shè)備的聲波發(fā)射器能夠設(shè)置在投影系統(tǒng)中和/或光刻設(shè)備的照射系統(tǒng)中，照射系統(tǒng)配置成調(diào)節(jié)輻射束并且朝向支撐結(jié)構(gòu)傳送所述束。11.如權(quán)利要求9或10所述的光刻設(shè)備,其中，聲波發(fā)射器位于光刻設(shè)備的光瞳平面內(nèi)和/或場平面內(nèi)。12.如權(quán)利要求9至11任一項所述的光刻設(shè)備,其中，聲波發(fā)射器位于基本上垂直光刻設(shè)備的光學軸線的平面內(nèi)。13.如權(quán)利要求9至12任一項所述的光刻設(shè)備，其中，聲波發(fā)射器配置成發(fā)射具有與通過光刻設(shè)備的源或與光刻設(shè)備相關(guān)聯(lián)的源產(chǎn)生的輻射脈沖的重復(fù)率相符的頻率的聲波或者發(fā)射頻率為通過光刻設(shè)備的源或與光刻設(shè)備相關(guān)聯(lián)的源產(chǎn)生的輻射脈沖的重復(fù)率的倍數(shù)的聲波。14.如引用權(quán)利要求6的權(quán)利要求9所述的光刻設(shè)備，其中，控制器配置成接收輻射束的波前像差的測量值或預(yù)測值，并且確定將減小或消除輻射束的波前像差的駐聲波結(jié)構(gòu)。15.一種器件制造方法，包括下列步驟使用圖案形成裝置以在輻射束的橫截面上給輻射束提供圖案；使用投影系統(tǒng)將圖案化的輻射束投影到襯底的目標部分上；和·使用多個聲波發(fā)射器發(fā)射聲波以建立聲波，所建立的聲波至少部分地行進跨過圖案化的或未圖案化的輻射束在入射到襯底之前所通過的輻射束管道。全文摘要一種具有多個聲波發(fā)射器的波前修正設(shè)備，聲波發(fā)射器配置成發(fā)射至少部分地行進跨過輻射束管道的聲波。聲波發(fā)射器可以配置成建立至少部分地延伸跨過輻射束管道的駐聲波。可以在光刻設(shè)備中設(shè)置波前修正設(shè)備，可以使用波前修正設(shè)備修正被光刻設(shè)備使用以將圖案投影到襯底上的輻射束的波前。文檔編號G02B27/00GK102841511SQ201210207908公開日2012年12月26日申請日期2012年6月19日優(yōu)先權(quán)日2011年6月20日發(fā)明者羅坦·艾哈邁多維奇·斯匹克漢諾夫申請人:Asml荷蘭有限公司