專利名稱：一種液晶面板的制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及顯示器技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種液晶面板的制備方法。
背景技術(shù)：
液晶面板主要包括:對盒連接的彩膜基板、陣列基板以及位于彩膜基板和陣列基板之間的液晶分子層?，F(xiàn)有技術(shù)下，液晶面板的制備方法為:在彩膜基板或陣列基板上涂封框膠，并在彩膜基板和陣列基板中注入液晶分子，再將彩膜基板、陣列基板以及位于彩膜基板和陣列基板之間的液晶分子層放入對盒設(shè)備進行對盒，形成液晶面板，隨后取出液晶面板，并放入紫外光固化設(shè)備中進行紫外固化，此時，為了防止紫外光對液晶分子造成損傷，需要使用紫外光掩模板對液晶面板的顯示區(qū)進行遮擋。但是，這種制備方法，由于對盒后的封框膠處于未固化狀態(tài)，將對盒后的液晶面板由對盒設(shè)備移動至紫外固化設(shè)備的過程中，液晶面板中的彩膜基板和陣列基板容易發(fā)生位錯，從而發(fā)生開口區(qū)變小、漏光和串色等現(xiàn)象，進而影響液晶板面的品質(zhì)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種液晶面板的制備方法，提高了液晶面板中基板的對位精度，降低液晶面板漏光、串色等不良現(xiàn)象的發(fā)生。為達到上述目的，本發(fā)明提供以下技術(shù)方案:一種液晶面板的制備方法，包括:在陣列基板和/或彩膜基板的背面形成覆蓋液晶面板顯示區(qū)的以阻擋紫外光的遮擋層；在所述陣列基板和所述彩膜基板的四周涂覆封框膠并對盒，其中所述封框膠涂覆區(qū)域位于所述遮擋層之外；對所述封框膠進行紫外光照固化； 通過構(gòu)圖工藝去除所述遮擋層。優(yōu)選地，所述遮擋層的材料為金屬。優(yōu)選地，所述在陣列基板和/或彩膜基板的背面形成覆蓋液晶面板顯示區(qū)的以阻擋紫外光的遮擋層具體包括:在所述陣列基板和/或所述彩膜基板背面形成鍍膜；對所述鍍膜進行曝光；對所述鍍膜進行刻蝕，形成所述遮擋層。優(yōu)選地，所述通過構(gòu)圖工藝去除所述遮擋層具體包括:采用酸液對所述遮擋層進行刻蝕，以去除所述遮擋層。優(yōu)選地，所述酸液為鹽酸、硝酸、磷酸中的一種或幾種。優(yōu)選地，通過構(gòu)圖工藝去除所述遮擋層具體包括:
采用刻蝕液對所述遮擋層進行過刻蝕，以實現(xiàn)去除所述遮擋層并薄化所述陣列基板和/或所述彩膜基板的基板。優(yōu)選地,所述刻蝕液的組分包括:質(zhì)量分?jǐn)?shù)為10% 50%的氫氟酸、質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1% 10%的磷酸、質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.1% 1%的硝酸和質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.1% 1%的醋酸。本發(fā)明提供了一種液晶面板的制備方法，包括:在陣列基板和/或彩膜基板的背面形成覆蓋液晶面板顯示區(qū)的以阻擋紫外光的遮擋層；在所述陣列基板和所述彩膜基板的四周涂覆封框膠并對盒，其中所述封框膠涂覆區(qū)域位于所述遮擋層之外；對所述封框膠進行紫外光照固化；通過構(gòu)圖工藝去除所述遮擋層。本發(fā)明提供的液晶面板的制備方法，陣列基板和/或彩膜基板背面的遮擋層能夠防止紫外光對液晶盒中的液晶造成損傷，因此，液晶面板在對盒設(shè)備中涂覆封框膠之后可直接在對盒設(shè)備中進行紫外線曝光，實現(xiàn)對液晶面板的固化，從而無需再將液晶面板移動到單獨的紫外曝光設(shè)備中進行曝光固化，避免上述背景技術(shù)中提到在將液晶面板從對盒設(shè)備搬運至紫外曝光設(shè)備的移動過程中，彩膜基板和陣列基板錯位現(xiàn)象的發(fā)生；而且，液晶面板紫外曝光固化完成后，通過構(gòu)圖工藝去除遮擋層可以將陣列基板和/或彩膜基板背面的遮擋層去除，避免遮擋層對顯示面板顯示效果的影響。所以，本發(fā)明提供的液晶面板的制備方法，提高了液晶面板中基板的對位精度，降低液晶面板漏光、串色等不良現(xiàn)象的發(fā)生。另外，由于本發(fā)明提供的液晶面板的制備方法，無需單獨的紫外曝光設(shè)備，降低了制備過程中所需設(shè)備的成本，簡化了工藝流程，同時減少了流屏?xí)r間，提高了生產(chǎn)效率。


圖1為本發(fā)明提供的液晶面板為對盒前的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明提供的液晶面板制備流程圖。圖中:1.陣列基板11.遮擋層2.彩膜基板21.顯示區(qū)域
具體實施例方式下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。實施例一如圖1和圖2所示，其中:圖1為本發(fā)明提供的液晶面板為對盒前的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明提供的液晶面板制備流程圖。本發(fā)明實施例提供了一種液晶面板的制備方法，包括:步驟301:在陣列基板I和/或彩膜基板2的背面形成覆蓋液晶面板顯示區(qū)21的以阻擋紫外光的遮擋層11;步驟302:在陣列基板I和彩膜基板2的四周涂覆封框膠并對盒，其中所封框膠涂覆區(qū)域位于遮擋層11之外；步驟303:對封框膠進行紫外光照固化；步驟304:通過構(gòu)圖工藝去除遮擋層11。本發(fā)明提供的液晶面板的制備方法，陣列基板I和/或彩膜基板2背面的遮擋層11能夠防止紫外光對液晶盒中的液晶造成損傷，因此，液晶面板在對盒設(shè)備中涂覆封框膠之后可直接在對盒設(shè)備中進行紫外線曝光，實現(xiàn)對液晶面板的固化，從而無需再將液晶面板移動到單獨的紫外曝光設(shè)備中進行曝光固化，避免上述背景技術(shù)中提到在將液晶面板從對盒設(shè)備搬運至紫外曝光設(shè)備的移動過程中，彩膜基板和陣列基板錯位現(xiàn)象的發(fā)生；而且，液晶面板紫外曝光固化完成后，通過步驟304可以將陣列基板I和/或彩膜基板2背面的遮擋層去除，避免遮擋層11對顯示面板顯示效果的影響。所以，本發(fā)明實施例提供的液晶面板的制備方法，提高了液晶面板中基板的對位精度，降低液晶面板漏光、串色等不良現(xiàn)象的發(fā)生。另外，由于本發(fā)明實施例提供的液晶面板的制備方法，無需單獨的紫外曝光設(shè)備，降低了制備過程中所需設(shè)備的成本，簡化了工藝流程，同時減少了流屏?xí)r間，提高了生產(chǎn)效率。進一步地，上述遮擋層11的材料為金屬。例如:鑰和鋁等，這里就不再一一贅述，當(dāng)然，上述遮擋層11還可以為:有兩種或兩種以上的金屬與非金屬經(jīng)一定方法所合成的具有金屬特性的合金。上述遮擋層11通過鍍膜、曝光和刻蝕形成和液晶面板顯示區(qū)域21相對應(yīng)的圖案。上述液晶面板對盒和紫外曝光后，需要通過構(gòu)圖工藝去除遮擋層11，構(gòu)圖工藝去除遮擋層11的方式有多種:方式一通過酸液腐蝕去除。在遮擋層11上滴加酸液，通過酸液的腐蝕去除遮擋層11。優(yōu)選地，上述酸液為鹽酸、硝酸、磷酸中的一種或幾種。方式二采用刻蝕液對遮擋層11進行過刻蝕，以實現(xiàn)去除遮擋層11并薄化陣列基板I和/或彩膜基板2的基板，所述基板一般為玻璃基板。液晶面板固化后，需要對液晶面板打薄處理，可更改打薄刻蝕液的配比，將去除遮擋層11和打薄液晶面板同時進行。優(yōu)選地,刻蝕液的組分包括:質(zhì)量分?jǐn)?shù)為10% 50%的氫氟酸、質(zhì)量分?jǐn)?shù)為質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1% 10%的磷酸、質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.1% 1%的硝酸和質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.1% 1%的醋酸。其中，氫氟酸主要刻蝕玻璃和金屬，磷酸和硝酸主要刻蝕金屬，醋酸主要是提高酸液、金屬及玻璃基板的浸潤性。顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明實施例進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種液晶面板的制備方法，其特征在于，包括: 在陣列基板和/或彩膜基板的背面形成覆蓋液晶面板顯示區(qū)的以阻擋紫外光的遮擋層； 在所述陣列基板和所述彩膜基板的四周涂覆封框膠并對盒，其中所述封框膠涂覆區(qū)域位于所述遮擋層之外； 對所述封框膠進行紫外光照固化； 通過構(gòu)圖工藝去除所述遮擋層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶面板的制備方法，其特征在于，所述遮擋層的材料為金屬。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶面板的制備方法，其特征在于，所述在陣列基板和/或彩膜基板的背面形成覆蓋液晶面板顯示區(qū)的以阻擋紫外光的遮擋層具體包括: 在所述陣列基板和/或所述彩膜基板背面形成鍍膜； 對所述鍍膜進行曝光； 對所述鍍膜進行刻蝕，形成所述遮擋層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶面板的制備方法，其特征在于，所述通過構(gòu)圖工藝去除所述遮擋層具體包括: 采用酸液對所述遮擋層進行刻蝕，以去除所述遮擋層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的液晶面板的制備方法，其特征在于，所述酸液為鹽酸、硝酸、磷酸中的一種或幾種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶面板的制備方法，其特征在于，所述通過構(gòu)圖工藝去除所述遮擋層具體包括: 采用刻蝕液對所述遮擋層進行過刻蝕，以實現(xiàn)去除所述遮擋層并薄化所述陣列基板和/或所述彩膜基板的基板。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的液晶面板的制備方法，其特征在于，所述刻蝕液的組分包括:質(zhì)量分?jǐn)?shù)為10% 50%的氫氟酸、質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1% 10%的磷酸、質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.1% 1%的硝酸和質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.1% 1%的醋酸。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種液晶面板的制備方法，包括在陣列基板和/或彩膜基板的背面形成覆蓋液晶面板顯示區(qū)的以阻擋紫外光的遮擋層；在陣列基板和彩膜基板的四周涂覆封框膠并對盒，其中封框膠涂覆區(qū)域位于遮擋層之外；對封框膠進行紫外光照固化；通過構(gòu)圖工藝去除遮擋層。上述液晶面板的制備方法，陣列基板和/或彩膜基板背面的遮擋層能夠防止紫外光對液晶盒中的液晶造成損傷，因此，液晶面板在對盒設(shè)備中涂覆封框膠之后可直接在對盒設(shè)備中進行紫外線曝光，實現(xiàn)對液晶面板的固化，從而無需再將液晶面板移動到單獨的紫外曝光設(shè)備中進行曝光固化。所以，上述液晶面板的制備方法，提高了液晶面板中基板的對位精度，降低液晶面板漏光、串色等不良現(xiàn)象的發(fā)生。
文檔編號G02F1/1339GK103197472SQ20131008854
公開日2013年7月10日 申請日期2013年3月19日 優(yōu)先權(quán)日2013年3月19日
發(fā)明者程凌志 申請人:北京京東方光電科技有限公司