專利名稱：一種顯示裝置、彩膜基板及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種顯示裝置、彩膜基板及其制作方法。
背景技術(shù)：
近年來，隨著科技的發(fā)展，液晶顯示器技術(shù)也隨之不斷完善。TFT-1XD (Thin FilmTransistor-Liquid Crystal Display,薄膜場效應(yīng)晶體管-液晶顯示器)以其圖像顯示品質(zhì)好、能耗低、環(huán)保等優(yōu)勢占據(jù)著顯示器領(lǐng)域的重要位置。目前TFT-1XD主要由陣列基板和彩膜基板對盒形成，對盒后的空腔內(nèi)填充液晶?，F(xiàn)有的彩膜基板是基于紅綠藍(lán)三原色的彩膜基板，液晶面板通過驅(qū)動(dòng)IC的電壓改變來控制液晶分子的排列狀態(tài)，而形成開關(guān)式選擇背光源的光線是否穿透，經(jīng)三原色比例調(diào)合形成不同的色彩，從而使得液晶顯示器呈現(xiàn)出亮麗、鮮艷的畫面。目前，液晶顯示中的光來源主要依靠LED光源，為了提高顯示器的亮度，增強(qiáng)顯示效果，通常采用提高燈源的亮度，但如果只一味地提高燈源的亮度，不僅會降低燈源的使用壽命，同時(shí)也會增加成本。如圖1所示，背光源白光透過紅綠藍(lán)三色濾光膜形成紅綠藍(lán)三色光。根據(jù)全反射定理，光從光密(折射率高)介質(zhì)射向光疏(折射率低)介質(zhì)時(shí)，當(dāng)入射角超過某一角度C(臨界角)時(shí)，折射光完全消失，只剩下反射光線。由于一般紅綠藍(lán)光刻膠的折射率比玻璃基板的大，當(dāng)光從紅綠藍(lán)濾光膜透過入射至玻璃基板表面時(shí)，只有在入射角在臨界角范圍內(nèi)的光才能透射過玻璃基板，其余光均被反射。這樣，導(dǎo)致透過的光線范圍Θ的范圍較小，造成背光源的利用十分有限。

發(fā)明內(nèi)容

(一)要解決的技術(shù)問題本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種顯示裝置、彩膜基板及其制作方法，以克服現(xiàn)有的彩膜基板結(jié)構(gòu)對背光源的利用率不高的缺陷。(二)技術(shù)方案為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明一方面提供一種彩膜基板，其包括:基板；黑矩陣，其間隔設(shè)置于基板上；所述基板上位于相鄰黑矩陣之間的區(qū)域設(shè)有弧形凹槽，所述彩色像素單元位于相鄰的黑矩陣之間，且其底部延伸至弧形凹槽中。進(jìn)一步地，所述彩色像素單元至少包括紅色像素單元、綠色像素單元和藍(lán)色像素單元。進(jìn)一步地，所述凹槽為半圓狀。另一方面，本發(fā)明還提供一種彩膜基板的制作方法，包括:步驟SI，在基板表面通過構(gòu)圖工藝形成黑矩陣，所述黑矩陣間隔設(shè)置在基板上；
步驟S2，基板位于相鄰黑矩陣之間的區(qū)域形成弧形凹槽；步驟S3，在所述相鄰黑矩陣之間采用構(gòu)圖工藝形成彩色像素單元，所述彩色像素單元的底部延伸至弧形凹槽中。進(jìn)一步地,所述彩色像素單元至少包括紅色像素單元、綠色像素單元和藍(lán)色像素單元。進(jìn)一步地，所述凹槽為半圓狀。進(jìn)一步地，所述步驟S2中，采用刻蝕液對基板進(jìn)行刻蝕處理，在基板上形成弧形凹槽。 進(jìn)一步地，所述刻蝕液為氫氟酸。進(jìn)一步地，所述步驟S3之前還包括:對刻蝕過的基板表面采用去離子水進(jìn)行清洗。再一方面，本發(fā)明還提供一種顯示裝置，包括上述的彩膜基板。(三)有益效果本發(fā)明提供一種顯示裝置、彩膜基板及其制作方法，通過在基板表面設(shè)置弧形凹槽，極大地提高了入射玻璃基板的光線角度和增加光線透過區(qū)域表面積，有效提升了顯示器的売度，提聞了畫面的顯不品質(zhì)。


圖1為現(xiàn)有技術(shù)中彩膜基板結(jié)構(gòu)示意
圖2為弧形凹槽光反射原理示意圖；圖3為基于本實(shí)施例彩膜基板結(jié)構(gòu)的光反射原理不意圖；圖4為本發(fā)明實(shí)施例彩膜基板的制作工藝流程圖。圖中:1、玻璃基板；2、黑矩陣；3、紅色像素單元；4、綠色像素單元；5、藍(lán)色像素單元；
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對本發(fā)明的具體實(shí)施方式
作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說明本發(fā)明，但不用來限制本發(fā)明的范圍。如圖2和圖3所示，本發(fā)明實(shí)施例提供一種彩膜基板，其包括:基板，本實(shí)施例中的基板采用玻璃基板1、透明石英或其他同性質(zhì)的基材；黑矩陣，其間隔設(shè)置于玻璃基板I上；玻璃基板I上位于相鄰黑矩陣之間的區(qū)域設(shè)有弧形凹槽，彩色像素單元位于相鄰的黑矩陣之間，且其底部延伸至弧形凹槽中。其中，彩色像素單元至少包括紅色像素單元、綠色像素單元和藍(lán)色像素單元。該紅色像素單元、綠色像素單元和藍(lán)色像素單元的底部都位于弧形凹槽中。為了采用凸透鏡原理，提高入射的光線角度和增加光線透過區(qū)域表面積，設(shè)置凹槽為半圓狀。本發(fā)明提供彩膜基板，通過在基板表面設(shè)置弧形凹槽，極大地提高了入射玻璃基板的光線角度和增加光線透過區(qū)域表面積，有效提升了顯示器的亮度，提高了畫面的顯示品質(zhì)。
需要說明的是，本實(shí)施例中的彩膜基板除了需要上述結(jié)構(gòu)外，還包括保護(hù)層、透明導(dǎo)電層，該保護(hù)層位于彩色像素區(qū)域上，用于平整該彩色像素區(qū)域和黑矩陣。在保護(hù)層7的表面具有一層透明導(dǎo)電層，用于形成像素電極。該透明導(dǎo)電層由ITO材料制成。需要說明的是，本實(shí)施例中的彩膜基板包括但并不局限應(yīng)用于TN模式，同樣適用于例如VA、FFS、IPS等其他模式，而采用FFS、IPS模式時(shí)，透明導(dǎo)電層則設(shè)于玻璃基板的背面，即與彩色像素區(qū)域相反的一側(cè)。如圖4所示，本發(fā)明實(shí)施例提供一種制作上述彩膜基板結(jié)構(gòu)的工藝方法，以FFS模式為例，其包括:步驟SI，在基板表面通過構(gòu)圖工藝形成黑矩陣，所述黑矩陣間隔設(shè)置在基板上；黑色矩陣一方面起到防止漏光的作用，一方面也起到為后期制作提供對位標(biāo)記的作用。步驟S2，基板位于相鄰黑矩陣之間的區(qū)域形成弧形凹槽，較優(yōu)地，該凹槽為半圓狀。具體的，采用氫氟酸等對玻璃基板或石英等材料具有腐蝕作用的刻蝕液對玻璃基板進(jìn)行刻蝕處理，通過調(diào)節(jié)刻蝕液流速，濃度，刻蝕時(shí)間，刻蝕溫度，調(diào)節(jié)刻蝕速度，在基板上形成弧形凹槽。另外，為了保證后一道工序作業(yè)清潔，對刻蝕過的基板表面需要采用去離子水進(jìn)行清洗。步驟S3，在相鄰黑矩陣之間采用構(gòu)圖工藝形成彩色像素單元，所述彩色像素單元的底部延伸至弧形凹槽中。具體的，彩色像素單元至少包括紅色像素單元、綠色像素單元和藍(lán)色像素單元。本發(fā)明中采用的構(gòu)圖工藝為現(xiàn)有技術(shù)中通常采用的曝光、顯影、刻蝕和剝離等工藝。采用上述方法制成的彩膜基板示意圖如圖3所示。玻璃基板表面制成的凹面使得能夠透過的光線范圍增大至最大Θ 2的范圍，同時(shí)由于具有凹槽的玻璃基板的表面積大于平面玻璃基板的表面積，因此，具有凹槽的玻璃基板的表面上能夠通過的光線更多，進(jìn)而提高了能夠進(jìn)入紅色像素單元、藍(lán)色像素單元和綠色像素單元的光強(qiáng)強(qiáng)度，進(jìn)而提升了顯示器的売度，提聞了畫面的顯不品質(zhì)。另外，本發(fā)明還提供一種顯示裝置，其包括實(shí)施例中的彩膜基板。該顯示裝置可以為液晶顯示器、液晶面板、液晶電腦或其他顯示裝置。該顯示裝置采用實(shí)施例中的彩膜基板能夠提高產(chǎn)品圖像顯示的亮度，滿足客戶對高亮度的需求，有效提升了圖像的顯示品質(zhì)，增強(qiáng)用戶的體驗(yàn)感。以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明技術(shù)原理的前 提下，還可以做出若干改進(jìn)和變型，這些改進(jìn)和變型也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種彩膜基板，其特征在于，包括: 基板； 黑矩陣，其間隔設(shè)置于基板上； 所述基板上位于相鄰黑矩陣之間的區(qū)域設(shè)有弧形凹槽，所述彩色像素單元位于相鄰的黑矩陣之間，且其底部延伸至弧形凹槽中。
2.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩色像素單元至少包括紅色像素單元、綠色像素單元和藍(lán)色像素單元。
3.如權(quán)利要求1或2所述的彩膜基板，其特征在于，所述凹槽為半圓狀。
4.一種彩膜基板的制作方法，其特征在于，具體包括: 步驟SI，在基板表面通過構(gòu)圖工藝形成黑矩陣，所述黑矩陣間隔設(shè)置在基板上； 步驟S2，基板位于相鄰黑矩陣之間的區(qū)域形成弧形凹槽； 步驟S3，在所述相鄰黑矩陣之間采用構(gòu)圖工藝形成彩色像素單元，所述彩色像素單元的底部延伸至弧形凹槽中。
5.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述彩色像素單元至少包括紅色像素單元、綠色像素單元和藍(lán)色 像素單元。
6.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述凹槽為半圓狀。
7.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述步驟S2中，采用刻蝕液對基板進(jìn)行刻蝕處理，在基板上形成弧形凹槽。
8.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述刻蝕液為氫氟酸。
9.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述步驟S3之前還包括:對刻蝕過的基板表面采用去離子水進(jìn)行清洗。
10.一種顯示裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的彩膜基板。
全文摘要
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種顯示裝置、彩膜基板及其制作方法。彩膜基板包括基板；黑矩陣，其間隔設(shè)置于基板上；所述基板上位于相鄰黑矩陣之間的區(qū)域設(shè)有弧形凹槽，所述彩色像素單元位于相鄰的黑矩陣之間，且其底部延伸至弧形凹槽中。本發(fā)明提供一種顯示裝置、彩膜基板及其制作方法，通過在基板表面設(shè)置弧形凹槽，極大地提高了入射玻璃基板的光線角度和增加光線透過區(qū)域表面積，有效提升了顯示器的亮度，提高了畫面的顯示品質(zhì)。
文檔編號G02F1/1335GK103246107SQ20131018514
公開日2013年8月14日 申請日期2013年5月17日 優(yōu)先權(quán)日2013年5月17日
發(fā)明者張思凱, 楊同華, 萬冀豫, 吳洪江 申請人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方顯示技術(shù)有限公司