本實(shí)用新型涉及一種回收再生系統(tǒng)，尤其涉及一種廢光刻膠回收再生系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

在印制電路板(PCB)的制作過程或半導(dǎo)體制作過程中，在使用微影光刻(photolithography)工藝與蝕刻工藝來定義圖案時(shí)，都會(huì)使用到光刻膠。在定義出圖案之后，會(huì)使用如NaOH等的堿性溶液來將光刻膠移除，而形成廢光刻膠。由于廢光刻膠為堿性，若隨意丟棄會(huì)對(duì)環(huán)境造成重大的污染。因此，如何有效的處理廢光刻膠，使廢光刻膠能夠回收再生利用為目前業(yè)界有待解決的技術(shù)問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型提供一種廢光刻膠回收再生系統(tǒng)，其可有效地將廢光刻膠進(jìn)行回收再生利用。

本實(shí)用新型提出一種廢光刻膠回收再生系統(tǒng)，包括中和裝置、脫水裝置與交聯(lián)化裝置。中和裝置用于對(duì)廢光刻膠進(jìn)行中和處理。脫水裝置連通至中和裝置，且用于對(duì)中和處理后的廢光刻膠進(jìn)行脫水處理。交聯(lián)化裝置連通至脫水裝置，且用于對(duì)脫水處理后的廢光刻膠進(jìn)行交聯(lián)處理，而獲得交聯(lián)聚合物。

根據(jù)本實(shí)用新型的一實(shí)施例所述，在上述的廢光刻膠回收再生系統(tǒng)中，中和裝置包括中和處理槽與酸添加裝置。中和處理槽用于容置廢光刻膠。酸添加裝置連通至中和處理槽。

根據(jù)本實(shí)用新型的一實(shí)施例所述，在上述的廢光刻膠回收再生系統(tǒng)中，中和裝置還可包括攪拌裝置。攪拌裝置設(shè)置于中和處理槽中。

根據(jù)本實(shí)用新型的一實(shí)施例所述，在上述的廢光刻膠回收再生系統(tǒng)中，交聯(lián)化裝置包括交聯(lián)處理槽、酸添加裝置、氧化劑添加裝置與催化劑添加裝置。交聯(lián)處理槽用于容置脫水處理后的廢光刻膠。酸添加裝置連通至交聯(lián)處理槽。氧化劑添加裝置連通至交聯(lián)處理槽。催化劑添加裝置連通至交聯(lián)處理槽。

根據(jù)本實(shí)用新型的一實(shí)施例所述，在上述的廢光刻膠回收再生系統(tǒng)中，還可包括純化裝置。純化裝置連通至交聯(lián)化裝置，且用于純化交聯(lián)聚合物。

基于上述，通過本實(shí)用新型所提出的廢光刻膠回收再生系統(tǒng)，可對(duì)廢光刻膠進(jìn)行中和、脫水與交聯(lián)處理，以獲得能夠再利用的交聯(lián)聚合物。因此，本實(shí)用新型所提出的廢光刻膠回收再生系統(tǒng)能夠有效地將廢光刻膠進(jìn)行回收再生利用，進(jìn)而可有效地降低生產(chǎn)成本，且可防止廢光刻膠對(duì)環(huán)境造成污染。

為讓本實(shí)用新型的上述特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉實(shí)施例，并配合附圖作詳細(xì)說明如下。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型一實(shí)施例的廢光刻膠回收再生系統(tǒng)的示意圖；

圖2為本實(shí)用新型一實(shí)施例的廢光刻膠回收再生方法的流程圖。

附圖標(biāo)記：

100：廢光刻膠回收再生系統(tǒng)；

102：中和裝置；

104：脫水裝置；

106：交聯(lián)化裝置；

108：廢光阻源；

110：中和處理槽；

112：酸添加裝置；

114：攪拌裝置；

116：擠壓裝置；

118：烘干裝置；

120：交聯(lián)處理槽；

122：酸添加裝置；

124：氧化劑添加裝置；

126：催化劑添加裝置；

128：純化裝置；

S100、S102、S104、S110、S112、S114、S120、S130：步驟。

具體實(shí)施方式

圖1為本實(shí)用新型一實(shí)施例的廢光刻膠回收再生系統(tǒng)的示意圖。

請(qǐng)參照?qǐng)D1，廢光刻膠回收再生系統(tǒng)100包括中和裝置102、脫水裝置104與交聯(lián)化裝置106。廢光刻膠回收再生系統(tǒng)100可用于對(duì)印制電路板的制作過程或半導(dǎo)體制作過程中所產(chǎn)生的廢光刻膠進(jìn)行回收再生利用。廢光刻膠例如是在對(duì)圖案化對(duì)象進(jìn)行圖案化工藝之后，使用堿性溶液從圖案化對(duì)象上所移除的光刻膠，其中光刻膠可為干膜或濕膜。

此外，廢光刻膠回收再生系統(tǒng)100還可包括廢光阻源108。廢光阻源108連通至中和裝置102，且用于提供廢光刻膠至中和裝置102。廢光阻源108例如是廢光刻膠儲(chǔ)存槽或廠務(wù)的廢光刻膠排放系統(tǒng)。

中和裝置102用于對(duì)廢光刻膠進(jìn)行中和處理，可將廢光刻膠的酸堿值調(diào)整為趨近于中性。廢光刻膠在進(jìn)行中和處理之后可成為片狀。中和裝置102包括中和處理槽110與酸添加裝置112。中和處理槽110用于容置廢光刻膠。酸添加裝置112連通至中和處理槽110，且可將酸添加至中和處理槽110中，以對(duì)廢光刻膠進(jìn)行中和。酸添加裝置112添加至中和處理槽110中的酸例如是硫酸或醋酸等有機(jī)酸類。中和處理后的廢光刻膠的酸堿值例如是小于7.5。

此外，中和裝置102還可包括攪拌裝置114。攪拌裝置114設(shè)置于中和處理槽110中。攪拌裝置114可對(duì)廢光刻膠進(jìn)行攪拌。

脫水裝置104連通至中和裝置102，且用于對(duì)中和處理后的廢光刻膠進(jìn)行脫水處理。脫水處理包括擠壓、烘干、吹干、吸濕或?yàn)V干等物理性脫水處理或使用化學(xué)藥水進(jìn)行脫水處理。由于脫水裝置104連通至中和裝置102，因此中和處理后的廢光刻膠可輸送到脫水裝置104中進(jìn)行脫水處理。

脫水裝置104包括擠壓裝置116與烘干裝置118中的至少一者。在此實(shí)施例中，脫水裝置104是以同時(shí)具有擠壓裝置116與烘干裝置118為例來進(jìn)行說明，但本實(shí)用新型并不以此為限。舉例來說，可先通過擠壓裝置116對(duì)中和處理后的廢光刻膠進(jìn)行擠壓處理，再通過烘干裝置118對(duì)擠壓處理后的廢光刻膠進(jìn)行烘干處理，以對(duì)中和處理后的廢光刻膠進(jìn)行脫水處理。烘干處理可包括烘烤步驟。

交聯(lián)化裝置106連通至脫水裝置104，且用于對(duì)脫水處理后的廢光刻膠進(jìn)行交聯(lián)處理，而獲得交聯(lián)聚合物。由于交聯(lián)化裝置106連通至脫水裝置104，因此脫水處理后的廢光刻膠可輸送到交聯(lián)化裝置106中進(jìn)行交聯(lián)處理。交聯(lián)聚合物例如是熱塑性聚合物或熱固性聚合物。

交聯(lián)化裝置106包括交聯(lián)處理槽120、酸添加裝置122、氧化劑添加裝置124與催化劑添加裝置126。交聯(lián)處理槽120用于容置脫水處理后的廢光刻膠。酸添加裝置122連通至交聯(lián)處理槽120，且可將酸添加至交聯(lián)處理槽120中。酸添加裝置122添加至交聯(lián)處理槽120中的酸例如是有機(jī)酸，如醋酸或丙酸等。氧化劑添加裝置124連通至交聯(lián)處理槽120，且可將氧化劑添加至交聯(lián)處理槽120中。氧化劑添加裝置124添加至交聯(lián)處理槽120中的氧化劑例如是過氧化氫(hydrogen peroxide)或高錳酸鹽等氧化劑。高錳酸鹽例如是高錳酸鈉或高錳酸鉀。催化劑添加裝置126連通至交聯(lián)處理槽120，且可將催化劑添加至交聯(lián)處理槽120中。催化劑添加裝置126添加至交聯(lián)處理槽120中的催化劑例如是氧金屬錯(cuò)合物或是其他反應(yīng)觸媒。

廢光刻膠回收再生系統(tǒng)還可包括純化裝置128。純化裝置128連通至交聯(lián)化裝置106，且用于純化交聯(lián)聚合物。由于純化裝置128連通至交聯(lián)化裝置106，因此可將交聯(lián)聚合物輸送到純化裝置128中進(jìn)行純化。舉例來說，在純化裝置128中，可通過沉淀、過濾、分餾萃取或洗滌萃取等處理對(duì)交聯(lián)聚合物進(jìn)行純化。

基于上述實(shí)施例可知，由于廢光刻膠回收再生系統(tǒng)100具有中和裝置102、脫水裝置104與交聯(lián)化裝置106，所以可對(duì)廢光刻膠進(jìn)行中和、脫水與交聯(lián)處理，而獲得能夠再利用的交聯(lián)聚合物。因此，廢光刻膠回收再生系統(tǒng)100能夠有效地將廢光刻膠進(jìn)行回收再生利用，進(jìn)而可有效地降低生產(chǎn)成本，且可防止廢光刻膠對(duì)環(huán)境造成污染。

圖2為本實(shí)用新型一實(shí)施例的廢光刻膠回收再生方法的流程圖。在本實(shí)施例的廢光刻膠回收再生方法中，可采用圖1的廢光刻膠回收再生系統(tǒng)100來進(jìn)行廢光刻膠的回收再生利用，但本實(shí)用新型并不以此為限。

請(qǐng)參照?qǐng)D2，進(jìn)行步驟S100，對(duì)廢光刻膠進(jìn)行中和處理，可將廢光刻膠的酸堿值調(diào)整為趨近于中性。廢光刻膠在進(jìn)行中和處理之后可成為片狀。廢光刻膠例如是源自于圖1中的廢光阻源108。中和處理包括進(jìn)行步驟S102，添加酸，以對(duì)廢光刻膠進(jìn)行中和。酸例如是硫酸或醋酸等有機(jī)酸類。中和處理后的廢光刻膠的酸堿值例如是小于7.5。中和處理還包括進(jìn)行步驟S104，對(duì)廢光刻膠進(jìn)行攪拌。

進(jìn)行步驟S110，對(duì)中和處理后的廢光刻膠進(jìn)行脫水處理。脫水處理包括擠壓、烘干、吹干、吸濕或?yàn)V干等物理性脫水處理或使用化學(xué)藥水進(jìn)行脫水處理。在此實(shí)施例中，脫水處理是以進(jìn)行擠壓處理(步驟S112)與烘干處理(步驟S114)為例來進(jìn)行說明，但本實(shí)用新型并不以此為限。舉例來說，脫水處理可包括以下步驟?？上冗M(jìn)行步驟S112，對(duì)中和處理后的廢光刻膠進(jìn)行擠壓處理。接著，進(jìn)行步驟S114，對(duì)擠壓處理后的廢光刻膠進(jìn)行烘干處理。烘干處理可包括烘烤步驟。

進(jìn)行步驟S120，對(duì)脫水處理后的廢光刻膠進(jìn)行交聯(lián)處理，而獲得交聯(lián)聚合物。交聯(lián)聚合物例如是熱塑性聚合物或熱固性聚合物。交聯(lián)處理包括在存在催化劑的環(huán)境下，使用酸與氧化劑對(duì)經(jīng)脫水處理后的廢光刻膠進(jìn)行交聯(lián)處理。在交聯(lián)處理中，酸例如是醋酸或丙酸等有機(jī)酸，氧化劑例如是過氧化氫或高錳酸鹽(如高錳酸鈉或高錳酸鉀)等氧化劑，且催化劑例如是氧金屬錯(cuò)合物或是其他反應(yīng)觸媒。

可選擇性地進(jìn)行步驟S130，對(duì)交聯(lián)聚合物進(jìn)行純化處理。舉例來說，在純化處理中，可通過沉淀、過濾、分餾萃取或洗滌萃取等處理對(duì)交聯(lián)聚合物進(jìn)行純化。

基于上述實(shí)施例可知，由于廢光刻膠回收再生方法可對(duì)廢光刻膠進(jìn)行中和、脫水與交聯(lián)處理，而獲得能夠再利用的交聯(lián)聚合物。因此，廢光刻膠回收再生方法能夠有效地將廢光刻膠進(jìn)行回收再生利用，進(jìn)而可有效地降低生產(chǎn)成本，且可防止廢光刻膠對(duì)環(huán)境造成污染。

綜上所述，通過上述實(shí)施例的廢光刻膠回收再生系統(tǒng)，能夠有效地回收再生廢光刻膠，因此除了可有效地降低生產(chǎn)成本，還可防止廢光刻膠對(duì)環(huán)境造成污染。

最后應(yīng)說明的是：以上各實(shí)施例僅用以說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案，而非對(duì)其限制；盡管參照前述各實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解：其依然可以對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對(duì)其中部分或者全部技術(shù)特征進(jìn)行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本實(shí)用新型各實(shí)施例技術(shù)方案的范圍。