技術(shù)總結(jié)
本實用新型提供了一種掩膜板，所述掩膜板包括：完全透光區(qū)和完全不透光區(qū)；在所述完全透光區(qū)和所述完全不透光區(qū)之間的交界位置形成有用于與掩膜形成的開口圖案的邊界斜坡位置相對應的能夠使得光部分透過的部分透光區(qū)。本實用新型所提供的掩膜板設(shè)置部分透光區(qū)，可以對由該掩膜板掩膜形成的過孔(VIA)等開口圖案的邊界處斜坡的坡度進行控制改良，與現(xiàn)有技術(shù)中相比，過孔等開口圖案斜坡的坡度緩和，通過對過孔等開口圖案的邊界位置處的斜坡形狀進行改良，以降低過孔等開口圖案邊緣曝光能量，從而提高過孔等開口圖案刻蝕設(shè)備管控，降低上層ITO層發(fā)生不良，防止出現(xiàn)各種相關(guān)產(chǎn)品問題，提高良率。

技術(shù)研發(fā)人員：吳四權(quán);張心杰;陳號
受保護的技術(shù)使用者：合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
文檔號碼：201621175982
技術(shù)研發(fā)日：2016.11.01
技術(shù)公布日：2017.04.26