【技術領域】

本發(fā)明涉及一種光學成像零件，尤其涉及一種遮光片的處理方法及遮光片。

背景技術：

遮光片在光學系統(tǒng)中是用于調(diào)控光量的光學元件，外界光線進入鏡頭時，在鏡片之間設置的遮光片可阻擋不需要的光線進入。在光學系統(tǒng)中使用遮光片雖達到了控制光線的效果，但光線照射在遮光片通光孔的孔壁時，其從孔壁反射和漫射的光線，卻也對光學系統(tǒng)造成干擾。早期遮光片用金屬沖壓后通過氧化發(fā)黑的方式處理，以達到全消光的目的，但其成本比塑膠遮光片貴好幾倍，近年來隨著成本大幅下降，已經(jīng)改用表面帶防靜電、高遮光涂層的聚對苯二甲酸乙二醇酯(pet)材料直接沖切后替代，但隨著像素越來越高，塑膠沖切后，通光孔的孔壁會暴露出發(fā)亮的pet切斷面，而塑膠材質(zhì)又不能像金屬一樣進行傳統(tǒng)的發(fā)黑消光處理，當其用在薄型鏡頭時，在成像面的鬼影及耀光現(xiàn)象就特別顯著，因此如何處理遮光片通光孔的孔壁就顯得尤為重要。

有關遮光片反射和漫射雜散光處理的發(fā)明，在2011年11月1日公開的專利twi400551，針對遮光片通光孔徑邊緣的端面作斜面化處理，此發(fā)明將靠近遮光片通光孔處的材料壓成斜面，同時也減薄了遮光片邊緣端面，使端面厚度變薄來降低從遮光片斷面產(chǎn)生的反射和漫射。

2015年3月25日公開的專利cn104460182a，針對遮光片通光孔徑邊緣的端面，通過堿溶液在超聲波發(fā)生器內(nèi)對遮光片進行處理，以在遮光片的通光孔的孔壁上形成啞光結構，來避免由于通光孔的孔壁反光而造成的眩光、光暈及鬼影等不良狀況的發(fā)生。

上述專利所公開的技術雖然可以一定程度上減少雜散光的反射或漫射，但仍然有明顯的雜散光現(xiàn)象因此，有必要提出一種新的遮光片的處理方法及結構。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的主要目的在于提供一種遮光片的處理方法及遮光片，旨在解決現(xiàn)有的塑膠遮光片由于通光孔壁暴露的pet材質(zhì)反射和漫射而造成的眩光、光暈及鬼影等不良的技術問題。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種遮光片的處理方法，包括如下步驟：

提供遮光片，所述遮光片包括基材、涂覆于所述基材的相對兩表面的黑色涂層；

對所述遮光片去料形成通光孔；

對圍成所述通光孔的孔壁上的基材進行刻蝕以使其形成凹陷。

上述的遮光片的處理方法，所述刻蝕包括以下步驟：

提供刻蝕液,并將刻蝕液置于可加熱的容器內(nèi)；

將遮光片置于所述刻蝕液中，加熱并攪拌；

刻蝕液對通光孔的孔壁上的基材進行刻蝕；

將遮光片取出，置于烘箱中干燥。

上述的遮光片的處理方法，所述基材包括塑膠材質(zhì)。

上述的遮光片的處理方法，所述基材由pet制成。

上述的遮光片的處理方法，所述黑色涂層為碳材料。

還提供一種遮光片，所述遮光片包括基材、涂覆于所述基材兩面的黑色涂層；所述遮光片還包括去料形成的通光孔；圍成所述通光孔的孔壁上的所述基材刻蝕形成凹陷。

上述的遮光片，所述基材包括塑膠材質(zhì)。

上述的遮光片，所述基材包括pet材料。

上述的遮光片，所述基材凹陷的深度與基材的厚度相等。

上述的遮光片，所述黑色涂層為碳材料。

本發(fā)明的一種遮光片的處理方法及遮光片，通過刻蝕液對遮光片的基材進行刻蝕處理，以使通光孔孔壁的基材形成凹陷，能抑制光學鏡頭中的雜散光漫射或反射至成像面，進而保證拍攝效果，提升攝像產(chǎn)品的品質(zhì)。

【附圖說明】

圖1為本發(fā)明遮光片的立體結構示意圖；

圖2為圖1中a-a線的剖示圖；

圖3為圖2中b部分的放大圖。

【具體實施方式】

下面結合圖1至圖3對本發(fā)明作出詳細描述。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種遮光片的處理方法，所述遮光片的處理方法包括如下步驟：

步驟s1，提供遮光片1，所述遮光片包括基材4以及涂覆于所述基材4的相對兩表面的黑色涂層3和5。具體地,基材4可以由塑膠材質(zhì)構成,比如pet材料。所述黑色涂層3和5可以為碳材料或者其它具有遮光、消光功能的材料。

步驟s2，遮光片1去料形成通光孔2。所述通光孔2通常通過沖切工藝制成。

步驟s3，對圍成通光孔2的孔壁上的基材4進行刻蝕以使其形成凹陷6，從而抑制光學鏡頭中的雜散光漫射或反射至成像面，進而保證拍攝效果，提升攝像產(chǎn)品的品質(zhì)。具體地，可以采用化學刻蝕的方法進行刻蝕。

例如，通過刻蝕液刻蝕在所述通光孔2的孔壁上的基材4形成凹陷6的具體步驟包括：

提供刻蝕液,將刻蝕液置于可加熱的容器內(nèi)；所選擇的刻蝕液易于腐蝕基材、而對黑色涂層則不具有腐蝕作用，或者刻蝕液對基材的腐蝕速率比對黑色涂層的腐蝕速率高?？涛g液可以為碳酸氫鈉水溶液等對塑膠材質(zhì)具有腐蝕性作用的溶液。

將遮光片置于所述刻蝕液中，加熱并攪拌，本實施例中采用本領域常用的加熱方式和攪拌方式；

刻蝕液對基材4進行刻蝕以形成凹陷6；

刻蝕完成后，將遮光片取出，置于烘箱中干燥。

優(yōu)選地，本發(fā)明中，所述基材4的凹陷6的深度與基材4的厚度相等。

本發(fā)明還提供一種遮光片1，所述遮光片1包括基材4以及涂覆于所述基材4的相對兩表面的黑色涂層3和5。所述基材4包括塑膠材料，例如由pet材料制成。所述黑色涂層3、5為碳材料或其它具有遮光、消光功能的材料。所述遮光片1大致呈圓環(huán)形，其中心位置處去料形成圓形的通光孔2。優(yōu)選地，所述通光孔2通過沖切制成。所述遮光片1包括圍成通光孔2的內(nèi)側壁(即孔壁)和與內(nèi)側壁相對設置的外側壁。所述內(nèi)側壁的基材4通過刻蝕形成凹陷6，即基材4與黑色涂層3、5在內(nèi)側壁處的表面不平齊。優(yōu)選地，所述凹陷6通過刻蝕液刻蝕形成，由于浸泡在刻蝕液中的緣故，刻蝕液也會對外側壁上的基材進行刻蝕形成凹陷6。

優(yōu)選地，所述凹陷6的深度與基材的厚度相等。

本發(fā)明的一種遮光片的處理方法及遮光片，通過刻蝕液對遮光片進行刻蝕處理，以在圍成遮光片的通光孔的孔壁上的基材形成凹陷，能抑制光學鏡頭中的雜散光漫射或反射至成像面，進而保證拍攝效果，提升攝像產(chǎn)品的品質(zhì)。

以上所述的僅是本發(fā)明的實施方式，在此應當指出，對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離本發(fā)明創(chuàng)造構思的前提下，還可以做出改進，但這些均屬于本發(fā)明的保護范圍。

技術特征：

技術總結
本發(fā)明公開一種遮光片的處理方法及遮光片，該遮光片適用于光學成像；所述方法包括如下步驟：提供遮光片，所述遮光片包括基材、涂覆于所述基材的相對兩表面的黑色涂層；對所述遮光片去料形成通光孔；對圍成所述通光孔的孔壁上的基材進行刻蝕以使其形成凹陷。該結構能抑制光學鏡頭中雜散光漫射或反射至成像面，進而保證拍攝效果，提升攝像產(chǎn)品的品質(zhì)。

技術研發(fā)人員：王書憲;嚴緒東;劉浩
受保護的技術使用者：瑞聲光電科技（常州）有限公司
技術研發(fā)日：2017.03.06
技術公布日：2017.08.15