一種紫外正性光刻膠及其高耐熱成膜樹脂的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種用于半導(dǎo)體生產(chǎn)中產(chǎn)生電路的光刻膠組合物，此光刻膠使用有機 硅改性的線性酚醛樹脂，具有比通常的酚醛體系正性光刻膠更高的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度和耐等 離子蝕刻的性能，能在較高的烘烤溫度下保持光刻膠圖形不變化，且在干法蝕刻的過程中 有更高的選擇比。
【背景技術(shù)】
[0002] 在液晶顯示器行業(yè)和半導(dǎo)體行業(yè)中光刻膠用于產(chǎn)生細微的電路圖形，通過蝕刻將 細微電路形成于基板上。在目前的行業(yè)中，用于TFT-IXD、TN/STN、LED生產(chǎn)中使用的紫外正 性光刻膠基本以線性酚醛樹脂體系的光刻膠為主?；诠饪棠z本身對線性酚醛樹脂的性能 要求和線性酚醛樹脂結(jié)構(gòu)的影響，導(dǎo)致此類型的光刻膠在高溫烘烤時會產(chǎn)生軟化變形的情 況，使分辨率變差，光刻膠性能劣化。本發(fā)明所述光刻膠組合物采用新型的有機硅改性的線 性酚醛樹脂，可以在保證光刻膠曝光顯影性能的前提下，提高光刻膠的軟化點和干法蝕刻 過程中的選擇比。
[0003] 在專利京東方科技集團股份有限公司.含有重氮基團的高分子感光劑及其制備 方法與光刻膠組合物：中國，201210275419. 9[P]. 2012-11-21.所涉及的一種含有重氮基 團的高分子感光劑及其制備方法與光刻膠組合物。該含有重氮基團的高分子感光劑，其一 般式如式1所示：
【主權(quán)項】
1. 一種紫外正性光刻膠組合物包括內(nèi)容如下：
1. 有機硅改性的線性酚醛樹脂
2. 具有重氮萘醌基團的感光劑
3. 極性的高沸點溶劑
4. 表面活性劑
5. 黏附促進劑 權(quán)利1中所述光刻膠組合物中的有機硅改性的線性酚醛樹脂的分子量為1000? 30000,優(yōu)選 3000 ?10000。
2. 權(quán)利1中所述光刻膠組合物中的有機硅改性的線性酚醛樹脂具有如下結(jié)構(gòu)
3. 權(quán)利1中所述光刻膠組合物中的具有重氮基團的感光劑為多羥基二苯甲酮和重氮 萘醌磺酰氯的酯化物的一種或者幾種，但不局限于此類型，凡曝光后可產(chǎn)生酸且可與酚醛 樹脂樹脂產(chǎn)生阻溶效果的重氮類感光劑皆可選用。
4. 權(quán)利1中所述光刻膠組合物中的極性高沸點溶劑為丙二醇單甲醚醋酸酯、丙二醇單 甲醚、環(huán)己酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯等中的一種或者幾種，但不局限于此，凡能較 好的溶解酚醛樹脂、閃點大于40度沸點高于120度的溶劑皆可選用。
5. 權(quán)利1中所述光刻膠組合物中的表面活性劑可強烈的降低光刻膠組合物的表面張 力，涂布中產(chǎn)生的mula和spin涂布中產(chǎn)生的干涉條紋，優(yōu)選為娃氧燒系、氟系。
6. 權(quán)利1中所述光刻膠組合物中的黏附促進劑可增強光刻膠與金屬、二氧化硅、氧化 銦錫等表面的黏附性，優(yōu)選為脂肪族胺類、醇胺類、三嗪類等。
7. 權(quán)利1中所述的光刻膠組合物中個組分的比例為： 重氮類感光劑：1 %?20% 有機硅改性的線性酚醛樹脂：5%?50% 表面活性劑：0?1% 黏附促進劑：〇?20% 極性高沸點溶劑：50 %?90%。
8. 權(quán)利1中所述的光刻膠組合物用于光刻制作的工藝為：
1. 旋涂涂布與基板上
2. 用熱板或者烘箱烘干殘余溶劑
3. 使用接觸式或者步進式曝光機曝光
4. 將曝光后的基本進行PEB烘烤
5. 使用2. 38%的四甲基氫氧化銨水溶液顯影
6. 將曝光后的光刻膠進行后烘
7. 對基板進行等離子蝕刻
8. 用去膠液對光刻膠進行去除。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種紫外正性光刻膠組合物，含有1～20份的重氮類感光劑、5～50份的成膜樹脂、0～1份的表面活性劑、0～20份的黏附促進劑以及50～90份的溶劑。此光刻膠組合物使用有機硅改性的線性酚醛樹脂具有比通常線性酚醛樹脂體系的光刻膠更高的耐熱性和玻璃化轉(zhuǎn)變溫度，可在更高的烘烤溫度下保持圖形的穩(wěn)定，并且具有良好的耐等離子蝕刻的性能，在干法蝕刻的工藝中有很高的選擇比。
【IPC分類】G03F7-004, G03F7-00, G03F7-075
【公開號】CN104614942
【申請?zhí)枴緾N201510014008
【發(fā)明人】徐亮
【申請人】蘇州瑞紅電子化學品有限公司
【公開日】2015年5月13日
【申請日】2015年1月8日