正型感光性樹脂組合物、聚酰亞胺樹脂圖案的形成方法、和圖案化后的聚酰亞胺樹脂膜的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及含有聚酰亞胺樹脂的正型感光性樹脂組合物、使用上述正型感光性樹 脂組合物的聚酰亞胺樹脂圖案的形成方法和由上述聚酰亞胺樹脂圖案的形成方法形成的 聚酰亞胺樹脂膜。
【背景技術(shù)】
[0002] 聚酰亞胺樹脂具有優(yōu)良的耐熱性、機(jī)械強(qiáng)度和絕緣性、介電常數(shù)低等特性。因此， 聚酰亞胺樹脂在各種元件、多層布線基板等電子基板之類的電氣電子部件中被廣泛地作為 絕緣材料、保護(hù)材料使用。另外，為了在精密的電氣電子部件中選擇性地絕緣或保護(hù)微小的 部位，從加工容易性的觀點(diǎn)出發(fā)，絕緣膜、保護(hù)膜優(yōu)選使用感光性樹脂組合物通過光刻法來 形成。
[0003] 以往，能夠應(yīng)用于光刻法的感光性樹脂組合物中使用：側(cè)鏈具有能夠與堿反應(yīng)的 官能團(tuán)（例如羧基、酚性羥基）的樹脂；具有通過與酸或堿反應(yīng)生成羧基、酚性羥基的反應(yīng) 性基團(tuán)（被可由酸或堿進(jìn)行脫保護(hù)的保護(hù)基團(tuán)所保護(hù)的羧基、酚性羥基）的樹脂（專利文 獻(xiàn)1)。
[0004] 但是，聚酰亞胺樹脂通常不具有通過與酸或堿反應(yīng)生成羧基、酚性羥基的反應(yīng)性 基團(tuán)。雖然根據(jù)單體的組成，聚酰亞胺樹脂有時(shí)在側(cè)鏈具有羧基，但這樣的聚酰亞胺樹脂的 羧基的含量對于作為感光性樹脂組合物用樹脂使用是不充分的。
[0005] 也能夠?qū)⑼ㄟ^與酸或堿反應(yīng)生成羧基、酚性羥基的反應(yīng)性基團(tuán)導(dǎo)入聚酰亞胺樹 月旨。但是，此時(shí)存在聚酰亞胺樹脂的合成所需要的成本顯著增高的問題?？梢?，很難將一般 的聚酰亞胺樹脂配合到光刻法用的感光性樹脂組合物中。因此，期望對包含聚酰亞胺樹脂 的樹脂組合物賦予能夠通過光刻法形成圖案的感光性。
[0006] 為了解決這樣的課題，提出了包含聚酰亞胺樹脂（聚醚酰亞胺）和光產(chǎn)酸劑的感 光性樹脂組合物（專利文獻(xiàn)2)。專利文獻(xiàn)2中記載的感光性樹脂組合物通過曝光可溶于包 含羥胺、N-甲基-2-吡咯烷酮和離子交換水的顯影液。
[0007] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0008] 專利文獻(xiàn)
[0009] 專利文獻(xiàn)1 :日本特開2001-066781號公報(bào)
[0010] 專利文獻(xiàn)2 :日本特開2003-076013號公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0011] 發(fā)明要解決的課題
[0012] 但是，本發(fā)明人研宄的結(jié)果發(fā)現(xiàn)，使用專利文獻(xiàn)2中記載的、包含聚酰亞胺樹脂和 光產(chǎn)酸劑的感光性樹脂組合物而形成的圖案，其耐熱性差。
[0013] 本發(fā)明鑒于上述課題而進(jìn)行，其目的在于提供包含聚酰亞胺樹脂的正型感光性樹 脂組合物，其能夠通過光刻法良好地形成圖案，可賦予耐熱性優(yōu)異的圖案。另外本發(fā)明提 供，使用上述正型感光性樹脂組合物的聚酰亞胺樹脂圖案的形成方法。另外本發(fā)明還提供 由上述聚酰亞胺樹脂圖案的形成方法形成的、圖案化后的聚酰亞胺樹脂膜。
[0014] 解決課題的手段
[0015] 本發(fā)明人等發(fā)現(xiàn)，通過在感光性樹脂組合物中加入（A)聚酰亞胺樹脂和（B)通過 光的作用生成特定結(jié)構(gòu)的咪唑化合物的化合物，可解決上述課題，從而完成了本發(fā)明。
[0016] 本發(fā)明的第一方式為一種正型感光性樹脂組合物，其包含：
[0017] (A)聚酰亞胺樹脂、和（B)通過光的作用生成下述式所示的咪唑化合物的化合物，
[0018] 【化1】
[0019]
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種正型感光性樹脂組合物，其包含： (A) 聚酰亞胺樹脂、和（B)通過光的作用生成下述式所示的咪唑化合物的化合物，
式（1)中，R1A2和R3分別獨(dú)立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、巰基、硫醚基、甲硅烷基、 娃醇基、硝基、亞硝基、勝基、橫酸基、勝基、氧勝基、勝酸基或有機(jī)基團(tuán)。
2. 如權(quán)利要求1所述的正型感光性樹脂組合物，其中， (B) 成分為下述式所示的化合物，
式（2)中，R1A2和R3分別獨(dú)立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、巰基、硫醚基、甲硅烷基、 娃醇基、硝基、亞硝基、勝基、橫酸基、勝基、氧勝基、勝酸基或有機(jī)基團(tuán)，R4和R5分別獨(dú)立地 表示氫原子、鹵素原子、羥基、巰基、硫醚基、甲硅烷基、硅醇基、硝基、亞硝基、亞磺基、磺基、 磺酸基、膦基、氧膦基、膦?；?、膦酸基或有機(jī)基團(tuán)，R 6、R7、R8、R9和R1(1分別獨(dú)立地表示氫原 子、鹵素原子、羥基、巰基、硫醚基、甲硅烷基、硅醇基、硝基、亞硝基、亞磺基、磺基、磺酸基、 膦基、氧膦基、膦酰基、膦酸基、氨基、銨基或有機(jī)基團(tuán)，對于1? 6、1?7、1?8、1?9和1?1°而言可以它們 中的2個(gè)以上鍵合而形成環(huán)狀結(jié)構(gòu)，也可以含有雜原子的鍵。
3. -種聚酰亞胺樹脂圖案的形成方法，其包括： 形成權(quán)利要求1或2所述的正型感光性樹脂組合物的涂布膜的涂布膜形成工序， 將所述涂布膜曝光為規(guī)定圖案的曝光工序，和 除去曝光后的所述涂布膜的曝光部而進(jìn)行顯影的顯影工序。
4. 一種圖案化后的聚酰亞胺樹脂膜，其由權(quán)利要求3所述的方法形成。
【專利摘要】本發(fā)明提供包含聚酰亞胺樹脂的正型感光性樹脂組合物，其能夠通過光刻法良好地形成圖案，可賦予耐熱性優(yōu)異的圖案。另外，提供使用上述正型感光性樹脂組合物的聚酰亞胺樹脂圖案的形成方法。另外還提供由上述聚酰亞胺樹脂圖案的形成方法形成的、圖案化后的聚酰亞胺樹脂膜。在感光性樹脂組合物中配合(A)聚酰亞胺樹脂和(B)通過光的作用生成特定結(jié)構(gòu)的咪唑化合物的化合物。
【IPC分類】H01L21-027, G03F7-004, G03F7-039
【公開號】CN104737074
【申請?zhí)枴緾N201380055257
【發(fā)明人】野田國宏, 千坂博樹, 鹽田大
【申請人】東京應(yīng)化工業(yè)株式會社
【公開日】2015年6月24日
【申請日】2013年10月25日
【公告號】EP2913714A1, US20150261086, WO2014065398A1