同時(shí)，在顯示基板中，線(xiàn) 寬越小，像素區(qū)中相應(yīng)的像素電路（例如不透光的薄膜晶體管部分）所占面積越小，有效顯 示區(qū)域越大，透光部分會(huì)有所提高，因此通過(guò)采用該掩模板還能極大改善像素開(kāi)口率及光 透過(guò)率，充分發(fā)揮了曝光機(jī)高解析度（HighPPI)特性，使得形成的圖案的精細(xì)度提高，從而 使得制造高解析度的顯示裝置產(chǎn)品成為可能。
[0057] 實(shí)施例2 :
[0058] 本實(shí)施例提供一種光掩模板，該光掩模板使得形成的成圖圖案的精細(xì)度提高，從 而提高采用其曝光成圖形成的直線(xiàn)圖案的精度。與實(shí)施例1不同的是，本實(shí)施例的光掩模 板中，在條狀主體11的兩側(cè)僅設(shè)置有齒狀翼部12。
[0059] 如圖7所示，輔助構(gòu)圖圖形單元包括齒狀翼部12,齒狀翼部12與條狀主體11相接 設(shè)置。
[0060] 本實(shí)施例中光掩模板中齒狀翼部的形狀和結(jié)構(gòu)參數(shù)可參考實(shí)施例1中光掩模板 中齒狀翼部的形狀和結(jié)構(gòu)參數(shù)，這里不再詳述。
[0061] 本實(shí)施例的光掩模板中，通過(guò)在用于形成直線(xiàn)圖案的條狀主體兩側(cè)設(shè)置齒狀翼 部，提高曝光機(jī)對(duì)達(dá)到或超過(guò)曝光機(jī)極限解像力的微型圖案解析度，在利用現(xiàn)有設(shè)備不進(jìn) 行設(shè)備改造條件下，通過(guò)光掩模板設(shè)計(jì)輔助改善成像性能，充分發(fā)揮了曝光機(jī)高解析度 (High PPI)特性，進(jìn)一步改善像素開(kāi)口率及光透過(guò)率，使得形成的圖案的精細(xì)度提高，從而 使得制造高解析度的顯示裝置產(chǎn)品成為可能。
[0062] 實(shí)施例3 :
[0063] 本實(shí)施例提供一種光掩模板，該光掩模板使得形成的成圖圖案的精細(xì)度提高，從 而提高采用其曝光成圖形成的直線(xiàn)圖案的精度。與實(shí)施例1不同的是，本實(shí)施例的光掩模 板中，在條狀主體11的兩側(cè)僅設(shè)置有柱狀部13。
[0064] 如圖8所示，柱狀部13設(shè)置于條狀主體11外側(cè)、且與條狀主體11相離，柱狀部13 包括對(duì)稱(chēng)設(shè)置的第一柱狀和第二柱狀，第一柱狀和第二柱狀關(guān)于條狀主體11的中心軸線(xiàn) 對(duì)稱(chēng)。
[0065] 本實(shí)施例中光掩模板中柱狀部的形狀和結(jié)構(gòu)參數(shù)可參考實(shí)施例1中光掩模板中 柱狀部的形狀和結(jié)構(gòu)參數(shù)，這里不再詳述。
[0066] 本實(shí)施例的光掩模板中，通過(guò)在用于形成直線(xiàn)圖案的條狀主體兩側(cè)設(shè)置柱狀部， 提高曝光機(jī)對(duì)達(dá)到或超過(guò)曝光機(jī)極限解像力的微型圖案解析度，在利用現(xiàn)有設(shè)備不進(jìn)行設(shè) 備改造條件下，通過(guò)光掩模板設(shè)計(jì)輔助改善成像性能，充分發(fā)揮了曝光機(jī)高解析度（High PPI)特性，使得形成的圖案的精細(xì)度提高，進(jìn)一步改善像素開(kāi)口率及光透過(guò)率，從而使得制 造高解析度的顯示裝置產(chǎn)品成為可能。
[0067] 實(shí)施例1-實(shí)施例3中的光掩模板適用于所有采用構(gòu)圖工藝形成半導(dǎo)體的制造 過(guò)程中，特別適用于制備IXD(Liquid Crystal Display :液晶顯示裝置）、0LED(0rganic Light-Emitting Diode:有機(jī)發(fā)光二極管）顯示裝置的過(guò)程中，采用曝光工藝形成微型圖 案的場(chǎng)合。
[0068] 實(shí)施例4 :
[0069] 本實(shí)施例提供一種曝光系統(tǒng)，該曝光系統(tǒng)包括實(shí)施例1-實(shí)施例3中任意的光掩模 板。
[0070] 采用該曝光系統(tǒng)使得成圖圖案的精細(xì)度提高，從而提高形成的半導(dǎo)體器件的品 質(zhì)。
[0071] 可以理解的是，以上實(shí)施方式僅僅是為了說(shuō)明本發(fā)明的原理而采用的示例性實(shí)施 方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精 神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種光掩模板，設(shè)置有用于形成成圖圖案的構(gòu)圖圖形，所述構(gòu)圖圖形包括用于形成 直線(xiàn)圖案的條狀主體，其特征在于，所述構(gòu)圖圖形還包括在所述條狀主體的兩側(cè)設(shè)置的輔 助構(gòu)圖圖形單元，所述輔助構(gòu)圖圖形單元能對(duì)曝光過(guò)程中的光線(xiàn)方向和光強(qiáng)強(qiáng)度進(jìn)行調(diào)整 和補(bǔ)償。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光掩模板，其特征在于，所述輔助構(gòu)圖圖形單元包括齒狀翼 部和/或柱狀部，所述齒狀翼部與所述條狀主體相接設(shè)置，所述柱狀部與所述條狀主體相 咼設(shè)置。3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的光掩模板，其特征在于，所述齒狀翼部包括在所述條狀主體 的兩側(cè)、且沿所述條狀主體的延伸方向分別對(duì)稱(chēng)設(shè)置的第一翼部和第二翼部，所述第一翼 部和所述第二翼部關(guān)于所述條狀主體的中心軸線(xiàn)對(duì)稱(chēng)。4. 根據(jù)權(quán)利要3所述的光掩模板，其特征在于，所述第一翼部和所述第二翼部均分別 包括多個(gè)形狀相同且循環(huán)設(shè)置的凸起，每一所述凸起的至高點(diǎn)與所述條狀主體的側(cè)邊相 對(duì)，屬于所述第一翼部或所述第二翼部的所述凸起的底邊相連且分別與所述條狀主體的位 于同側(cè)的側(cè)邊重合。5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的光掩模板，其特征在于，所述凸起的形狀包括三角形、圓頂 倒角三角形、半圓形、橢圓形或扇形，所述三角形或所述圓頂?shù)菇侨切蔚捻斀墙嵌确秶鸀?30。 -120。 。6. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的光掩模板，其特征在于，所述柱狀部設(shè)置于所述齒狀翼部外 側(cè)、且與所述齒狀翼部相離，所述柱狀部包括對(duì)稱(chēng)設(shè)置的第一柱狀和第二柱狀，所述第一柱 狀和所述第二柱狀關(guān)于所述條狀主體的中心軸線(xiàn)對(duì)稱(chēng)。7. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的光掩模板，其特征在于，所述條狀主體的寬度與所述齒形翼 部的寬度的比值范圍為：（1-3) : 1。8. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的光掩模板，其特征在于，所述齒形翼部的寬度、所述齒形翼部 與所述第一柱狀之間的間隙寬度、所述第一柱狀的寬度的比值范圍為（1-3) :1:1。9. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的光掩模板，其特征在于，所述柱狀部設(shè)置于所述條狀主體外 側(cè)、且與所述條狀主體相離，所述柱狀部包括對(duì)稱(chēng)設(shè)置的第一柱狀和第二柱狀，所述第一柱 狀和所述第二柱狀關(guān)于所述條狀主體的中心軸線(xiàn)對(duì)稱(chēng)。10. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的光掩模板，其特征在于，所述構(gòu)圖圖形與所述齒狀翼部和/ 或所述柱狀部均為透光圖形或半透光圖形，或者，所述構(gòu)圖圖形與所述齒狀翼部和/或所 述柱狀部均為不透光圖形。11. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的光掩模板，其特征在于，相鄰的所述條狀主體之間共用位于 二者之間的所述柱狀部。12. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光掩模板，其特征在于，所述光掩模板中構(gòu)圖圖形包括用于 形成柵線(xiàn)的柵線(xiàn)條狀主體和用于形成數(shù)據(jù)線(xiàn)的數(shù)據(jù)線(xiàn)條狀主體，在所述柵線(xiàn)條狀主體的兩 側(cè)沿所述柵線(xiàn)條狀主體的延伸方向還分別設(shè)置有輔助構(gòu)圖圖形單元，和/或，在所述數(shù)據(jù) 線(xiàn)條狀主體的兩側(cè)沿所述數(shù)據(jù)線(xiàn)條狀主體的延伸方向還分別設(shè)置有輔助構(gòu)圖圖形單元。13. 根據(jù)權(quán)利要求1-12任一項(xiàng)所述的光掩模板，其特征在于，所述光掩模板還包括透 明襯底和保護(hù)層，所述構(gòu)圖圖形和所述輔助構(gòu)圖圖形單元同層形成在所述透明襯底與所述 保護(hù)層之間。14. 一種曝光系統(tǒng)，其特征在于，包括權(quán)利要求1-13任一項(xiàng)所述的光掩模板。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明屬于半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種光掩模板和曝光系統(tǒng)。該光掩模板設(shè)置有用于形成成圖圖案的構(gòu)圖圖形，所述構(gòu)圖圖形包括用于形成直線(xiàn)圖案的條狀主體，其中，所述構(gòu)圖圖形還包括在所述條狀主體的兩側(cè)設(shè)置的輔助構(gòu)圖圖形單元，所述輔助構(gòu)圖圖形單元能對(duì)曝光過(guò)程中的光線(xiàn)方向和光強(qiáng)強(qiáng)度進(jìn)行調(diào)整和補(bǔ)償。該光掩模板使得采用其曝光形成的成圖圖案的精細(xì)度提高，從而提高形成的直線(xiàn)圖案的精度。
【IPC分類(lèi)】G03F7/20, G03F1/38
【公開(kāi)號(hào)】CN105093813
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510580628
【發(fā)明人】李承敃, 范真瑞, 張文軒
【申請(qǐng)人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 成都京東方光電科技有限公司
【公開(kāi)日】2015年11月25日
【申請(qǐng)日】2015年9月11日