金屬板、金屬板的制造方法、和使用金屬板制造蒸鍍掩模的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及通過形成2個(gè)以上貫通孔而用于制造蒸鍍掩模的金屬板。另外，本發(fā)明 還涉及金屬板的制造方法。此外，本發(fā)明還涉及使用金屬板來制造形成有2個(gè)以上貫通孔的 掩模的方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 近年來，對(duì)于智能手機(jī)和平板電腦等可攜帶器件中使用的顯示裝置，要求高精細(xì)、 例如像素密度為300ppi以上。另外，可攜帶器件中，在對(duì)應(yīng)全高清上的需要正在提高，這種 情況下，顯示裝置的像素密度要求為例如450ppi以上。
[0003] 由于響應(yīng)性好、耗電低，有機(jī)EL顯示裝置受到矚目。作為有機(jī)EL顯示裝置的像素形 成方法，已知的方法是，使用包含以所期望的圖案排列的貫通孔的蒸鍍掩模，以所期望的圖 案形成像素。具體地說，首先，使蒸鍍掩模密合于有機(jī)EL顯示裝置用的基板，接著，將密合的 蒸鍍掩模和基板一同投入蒸鍍裝置，進(jìn)行有機(jī)材料等的蒸鍍。蒸鍍掩模一般如下制造得到： 通過利用了照相平版印刷技術(shù)的蝕刻而在金屬板上形成貫通孔，從而制造上述蒸鍍掩膜 (例如專利文獻(xiàn)1)。例如，首先，在金屬板上形成抗蝕劑膜，接著在使曝光掩模密合于抗蝕劑 膜的狀態(tài)下將抗蝕劑膜曝光以形成抗蝕劑圖案，其后，對(duì)金屬板中的未被抗蝕劑圖案覆蓋 的區(qū)域進(jìn)行蝕刻，從而形成貫通孔。
[0004] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0005] 專利文獻(xiàn)
[0006] 專利文獻(xiàn)1:日本特開2004-39319號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007] 使用蒸鍍掩模在基板上進(jìn)行蒸鍍材料的成膜的情況下，不僅基板，蒸鍍掩模也附 著有蒸鍍材料。例如，蒸鍍材料中也存在沿著相對(duì)于蒸鍍掩模的法線方向大幅傾斜的方向 而飛向基板的蒸鍍材料，這樣的蒸鍍材料在到達(dá)基板前會(huì)到達(dá)蒸鍍掩模的貫通孔的壁面從 而附著。這種情況下，可以認(rèn)為，蒸鍍材料難以附著在基板中的位于蒸鍍掩模的貫通孔的壁 面附近的區(qū)域，其結(jié)果，附著的蒸鍍材料的厚度比其他部分小、或者產(chǎn)生未附著蒸鍍材料的 部分。即，可以認(rèn)為，蒸鍍掩模的貫通孔的壁面附近的蒸鍍不穩(wěn)定。因此，在為了形成有機(jī)EL 顯示裝置的像素而使用蒸鍍掩模的情況下，像素的尺寸精度和位置精度降低，其結(jié)果，導(dǎo)致 有機(jī)EL顯示裝置的發(fā)光效率降低。
[0008] 為了解決這樣的問題，考慮將用于制造蒸鍍掩模的金屬板的厚度減薄。這是因?yàn)椋?通過減小金屬板的厚度，可使蒸鍍掩模的貫通孔的壁面的高度變小，由此，可降低蒸鍍材料 中的附著于貫通孔壁面上的蒸鍍材料的比例。但是，為了得到厚度小的金屬板，在乳制母材 來制造金屬板時(shí)需要加大乳制率。在此，乳制率是指利用(母材的厚度-金屬板的厚度)/(母 材的厚度)算出的值。乳制金屬的情況下，金屬的內(nèi)部會(huì)產(chǎn)生應(yīng)變。即便是乳制后實(shí)施了退 火等熱處理的情況下，也不容易在短時(shí)間內(nèi)完全除去這樣的應(yīng)變。因此，為了制作蒸鍍掩模 而使用的金屬板中通常會(huì)存在殘留于金屬板內(nèi)部的應(yīng)變、即殘余應(yīng)變。
[0009] 另外，使用金屬板制造蒸鍍掩模的工序、及使用蒸鍍掩模的蒸鍍工序包括對(duì)構(gòu)成 蒸鍍掩模的金屬板施加熱的工序。此時(shí)，由于熱，有時(shí)金屬板中的殘余應(yīng)力被除去，或者結(jié) 晶的排列發(fā)生變化。若殘余應(yīng)力被除去或結(jié)晶的排列發(fā)生變化，則金屬板的尺寸有時(shí)會(huì)變 短。例如殘余應(yīng)力被除去的情況下，被殘余應(yīng)力保持的材料形狀變化成應(yīng)變盡可能消失，因 而金屬板的尺寸有時(shí)會(huì)變短。另外在結(jié)晶的排列發(fā)生了變化的情況下，結(jié)晶密度變化成密 度更高，因而金屬板的尺寸有時(shí)會(huì)變短。
[0010] 構(gòu)成蒸鍍掩模的金屬板的尺寸可因熱而變化意味著，形成于蒸鍍掩模的貫通孔的 位置可因熱而變化。另外，也可認(rèn)為金屬板的內(nèi)部的殘余應(yīng)變的程度在金屬板的寬度方向 上不同。該情況下，貫通孔的位置因熱而變化的程度根據(jù)在作為基礎(chǔ)的長(zhǎng)金屬板中構(gòu)成蒸 鍍掩模的金屬板所占的寬度方向上的位置而不同。這意味著，不僅僅是形成于蒸鍍掩模的 貫通孔的位置因熱而變化，而且其變化的程度也因蒸鍍掩模的各個(gè)個(gè)體而不同。因此，為了 精密地設(shè)定各蒸鍍掩模的貫通孔的位置，作為基礎(chǔ)的長(zhǎng)金屬板使用殘余應(yīng)變的程度及其偏 差小的長(zhǎng)金屬板很重要。在上述專利文獻(xiàn)1中并未認(rèn)識(shí)到這樣的課題。
[0011]本發(fā)明是考慮到這種課題而進(jìn)行的，其目的在于提供用于制造蒸鍍掩模的金屬 板，該蒸鍍掩模具備以高位置精度形成的貫通孔。并且，本發(fā)明的目的在于提供金屬板的制 造方法和掩模的制造方法。
[0012] 本發(fā)明涉及一種金屬板的制造方法，其為通過形成2個(gè)以上的貫通孔而用于制造 蒸鍍掩模的金屬板的制造方法，其中，
[0013] 所述蒸鍍掩模的所述貫通孔是通過對(duì)所述金屬板進(jìn)行蝕刻而形成的，
[0014] 所述金屬板的制造方法具備下述工序：
[0015] 乳制工序，在該工序中，對(duì)母材進(jìn)行乳制而得到所述金屬板;和
[0016] 退火工序，在該工序中，將通過所述乳制工序得到的所述金屬板退火，
[0017] 在對(duì)由所述金屬板取出的2個(gè)以上的樣品實(shí)施熱處理前后進(jìn)行測(cè)定，將所述各樣 品上的2個(gè)測(cè)定點(diǎn)間的距離分別設(shè)為L(zhǎng)1和L2,將各樣品的熱復(fù)原率F用下式
[0018] F={(L1-L2)/L1} X106(ppm)
[0019] 定義的情況下，滿足以下的條件(1)、（2)，
[0020] (1)所述各樣品中的熱復(fù)原率的平均值為-lOppm以上且+10ppm以下；和
[0021] (2)所述各樣品中的熱復(fù)原率的偏差為20ppm以下；
[0022] 所述樣品是通過下述方式得到的:沿著所述金屬板的寬度方向切斷所述金屬板而 得到至少1個(gè)樣品金屬板，將該至少1個(gè)樣品金屬板沿著所述金屬板的長(zhǎng)度方向切斷成2個(gè) 以上，由此得到所述樣品，
[0023] 所述樣品上的所述2個(gè)測(cè)定點(diǎn)沿著所述金屬板的長(zhǎng)度方向排列，
[0024]所述熱處理包括：用30分鐘將所述各樣品的溫度從25°C升溫至300°C的第1工序； 將所述各樣品的溫度在300 °C保持5分鐘的第2工序;和用60分鐘將所述各樣品的溫度從300 。(:降溫至25 °C的第3工序，
[0025]所述熱復(fù)原率的偏差是通過將所述各樣品中的熱復(fù)原率的標(biāo)準(zhǔn)偏差乘以3而計(jì)算 出的值。
[0026] 本發(fā)明的金屬板的制造方法中，可以一邊在長(zhǎng)度方向拉伸所述乳制后的母材一邊 實(shí)施所述退火工序?；蛘?，可以對(duì)卷取于芯材上的狀態(tài)的所述金屬板實(shí)施所述退火工序。
[0027] 本發(fā)明的金屬板的制造方法中，所述母材可以由因瓦合金材料構(gòu)成。
[0028] 本發(fā)明涉及一種金屬板，其為通過形成2個(gè)以上的貫通孔而用于制造蒸鍍掩模的 金屬板，其中，
[0029] 所述掩模的所述貫通孔是通過對(duì)所述金屬板進(jìn)行蝕刻而形成的，
[0030] 在對(duì)由所述金屬板取出的2個(gè)以上的樣品實(shí)施熱處理前后進(jìn)行測(cè)定，將所述各樣 品上的2個(gè)測(cè)定點(diǎn)間的距離分別設(shè)為L(zhǎng)1和L2,將各樣品的熱復(fù)原率F用下式
[0031] F={(L1-L2)/L1} X106
[0032] 定義的情況下，滿足以下的條件(1)、（2)，
[0033] (1)所述各樣品中的熱復(fù)原率的平均值為-lOppm以上且+10ppm以下；和
[0034] (2)所述各樣品中的熱復(fù)原率的偏差為20ppm以下；
[0035] 所述樣品是通過下述方式得到的:沿著所述金屬板的寬度方向切斷所述金屬板而 得到至少1個(gè)樣品金屬板，將該至少1個(gè)樣品金屬板沿著所述金屬板的長(zhǎng)度方向切斷成2個(gè) 以上，由此得到所述樣品，
[0036] 所述樣品上的所述2個(gè)測(cè)定點(diǎn)沿著所述金屬板的長(zhǎng)度方向排列，
[0037] 所述熱處理包括：用30分鐘將所述各樣品的溫度從25°C升溫至300°C的第1工序； 將所述各樣品的溫度在300 °C保持5分鐘的第2工序;和用60分鐘將所述各樣品的溫度從300 。(:降溫至25 °C的第3工序，
[0038] 所述熱復(fù)原率的偏差是通過將所述各樣品中的熱復(fù)原率的標(biāo)準(zhǔn)偏差乘以3而計(jì)算 出的值。
[0039] 本發(fā)明的金屬板可以由因瓦合金材料構(gòu)成。
[0040] 本發(fā)明涉及一種蒸鍍掩模的制造方法，其為制造形成有2個(gè)以上貫通孔的蒸鍍掩 模的方法，其中，
[0041 ]該制造方法具備下述工序：
[0042]準(zhǔn)備金屬板的工序；
[0043] 抗蝕劑圖案形成工序，該工序中，在所述金屬板上形成抗蝕劑圖案;和
[0044] 蝕刻工序，該工序中，對(duì)所述金屬板中的未被所述抗蝕劑圖案覆蓋的區(qū)域進(jìn)行蝕 亥IJ，在所述金屬板形成用于劃出所述貫通孔的凹部，
[0045] 在對(duì)由所述金屬板取出的2個(gè)以上的樣品實(shí)施熱處理前后進(jìn)行測(cè)定，將所述各樣 品上的2個(gè)測(cè)定點(diǎn)間的距離分別設(shè)為L(zhǎng)1和L2,將各樣品的熱復(fù)原率F用下式
[0046] F={(L1-L2)/L1} X106
[0047] 定義的情況下，滿足以下的條件(1)、（2)，
[0048] (1)所述各樣品中的熱復(fù)原率的平均值為-lOppm以上且+10ppm以下；和
[0049] (2)所述各樣品中的熱復(fù)原率的偏差為20ppm以下；
[0050] 所述樣品是通過下述方式得到的:沿著所述金屬板的寬度方向切斷所述金屬板而 得到至少1個(gè)樣品金屬板，將該至少1個(gè)樣品金屬板沿著所述金屬板的長(zhǎng)度方向切斷成2個(gè) 以上，由此得到所述樣品，
[0051 ]所述樣品上的所述2個(gè)測(cè)定點(diǎn)沿著所述金屬板的長(zhǎng)度方向排列，
[0052] 所述熱處理包括：用30分鐘將所述各樣品的溫度從25°C升溫至300°C的第1工序； 將所述各樣品的溫度在300 °C保持5分鐘的第2工序;和用60分鐘將所述各樣品的溫度從300 。(:降溫至25 °C的第3工序，
[0053] 所述熱復(fù)原率的偏差是通過將所述各樣品中的熱復(fù)原率的標(biāo)準(zhǔn)偏差乘以3而計(jì)算 出的值。
[0054] 本發(fā)明的蒸鍍掩模的制造方法中，所述抗蝕劑圖案形成工序可以具有:在所述金 屬板上形成抗蝕劑膜的工序;使曝光掩模與所述抗蝕劑膜真空密合的工序；隔著所述曝光 掩模將所述抗蝕劑膜以預(yù)定的圖案曝光的工序;和用于在所曝光的所述抗蝕劑膜形成圖像 的顯影工序，所述顯影工序包括用于提高所述抗蝕劑膜的硬度的抗蝕劑熱處理工序。
[0055] 本發(fā)明的蒸鍍掩模的制造方法中，所述金屬板可以由因瓦合金材料構(gòu)成。
[0056] 根據(jù)本發(fā)明，可以得到抑制了貫通孔位置的偏差的蒸鍍掩模。因此，可以提高附著 于基板上的蒸鍍材料的位置精度。
【附圖說明】
[0057] 圖1為用于說明本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的圖，為示出包含蒸鍍掩模的蒸鍍掩模裝 置的一例的示意性俯視圖。
[0058] 圖2為用于說明使用圖1所示的蒸鍍掩模裝置進(jìn)行蒸鍍的方法的圖。
[0059]圖3為示出圖1所示的蒸鍍掩模的部分俯視圖。
[0060]圖4為沿著圖3的IV-IV線的截面圖。
[0061]圖5為沿著圖3的V-V線的截面圖。
[0062]圖6為沿著圖3的VI-VI線的截面圖。
[0063] 圖7(a)為示出通過乳制母材而得到具有所期望的厚度的金屬板的工序的圖，圖7 (b)為示出對(duì)通過乳制而得到的金屬板進(jìn)行退火的工序的圖。
[0064] 圖8(a)為示出長(zhǎng)金