數(shù)據(jù)修正裝置及方法、描畫裝置及方法、檢查裝置及方法和存儲有程序的記錄介質(zhì)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及對通過蝕刻而形成在對象物上的圖案的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)進(jìn)行修正的技術(shù)。
【背景技術(shù)】
[0002]以往，在半導(dǎo)體基板或印刷基板、或者等離子體顯示裝置或液晶顯示裝置用的玻璃基板等(以下稱為“基板”)的制造工序中，對基板施加各種各樣的處理。例如，通過對表面上形成有抗蝕劑的圖案的基板施加蝕刻，在基板上形成布線圖案。在該蝕刻中，根據(jù)圖案配置的疏密或圖案的大小等，有時(shí)會出現(xiàn)在基板上形成的圖案的形狀與設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)不同的情況。
[0003]在日本特許第3074675號公報(bào)(文獻(xiàn)1)中，公開有使用電子束直寫裝置在基板上形成抗蝕劑圖案，通過使用等離子體蝕刻裝置進(jìn)行蝕刻來形成圖案的技術(shù)。此外，提出了在根據(jù)圖案的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)生成電子束直寫用數(shù)據(jù)的處理中包括對基于微負(fù)載效應(yīng)的蝕刻后的圖案尺寸的變化進(jìn)行修正的處理。
[0004]在日本特許第4274784號公報(bào)(文獻(xiàn)2)中，提出了使用蝕刻后的基板的圖像數(shù)據(jù)與設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)來生成尺寸調(diào)整規(guī)則，所述尺寸調(diào)整規(guī)則示出了為了獲得所期望的蝕刻后基板，如何需要修正設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)。
[0005]在日本特開2008-134512號公報(bào)(文獻(xiàn)3)中，公開有在制造光掩模時(shí)，在圖案間每隔一段空間(距離)，指定用于修正過蝕刻的修正值的方法。此外，提出了在直線圖案與圓弧圖案對置的情況下對該對置的部位追加進(jìn)一步修正。
[0006]在日本特開2013-12562號公報(bào)(文獻(xiàn)4)中，公開有在考慮根據(jù)導(dǎo)體圖案的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)進(jìn)行側(cè)面蝕刻的同時(shí)生成輪廓形狀(導(dǎo)體圖案的外形形狀)時(shí)，基于鄰接的輪廓形狀間的距離來設(shè)定修正值的技術(shù)。
[0007]日本特開2013-250101號公報(bào)(文獻(xiàn)5)涉及通過蝕刻形成的布線圖案的缺陷檢查。在該缺陷檢查中，根據(jù)在基板的表面形成的測量用圖案測量出蝕刻信息(蝕刻曲線)，通過使用該蝕刻曲線對設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)進(jìn)行蝕刻模擬來生成檢查數(shù)據(jù)。而且，通過對照基板上的布線圖案的圖像數(shù)據(jù)與檢查數(shù)據(jù)，檢測出布線圖案的缺陷。在文獻(xiàn)5中，提出了在印刷基板的上表面設(shè)定的多個(gè)檢查區(qū)域中分別配置一個(gè)測量用圖案來獲取各檢查區(qū)域用的蝕刻曲線。檢查區(qū)域包括多個(gè)相同的片段圖案，基于該檢查區(qū)域用的蝕刻曲線以同樣的方式修正這些多個(gè)片段圖案。
[0008]近年，在對基板進(jìn)行蝕刻的裝置中，為了提高生產(chǎn)率，對配置有許多相同的片段(圖案)的大型基板進(jìn)行蝕刻。因此，根據(jù)基板上的位置的不同而蝕刻特性不同，即使對相同的片段進(jìn)行蝕刻，有時(shí)也會出現(xiàn)蝕刻結(jié)果不同的情況。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]本發(fā)明涉及對通過蝕刻而形成在對象物上的圖案的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)進(jìn)行修正的數(shù)據(jù)修正裝置，目的在于考慮根據(jù)對象物上的位置不同導(dǎo)致的蝕刻特性的差異，以良好的精度進(jìn)行蝕刻修正。此外，本發(fā)明還涉及對通過蝕刻而形成在對象物上的圖案的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)進(jìn)行修正的數(shù)據(jù)修正方法。進(jìn)而，本發(fā)明還涉及記錄介質(zhì)，存儲對通過蝕刻而形成在對象物上的圖案的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)進(jìn)行修正的程序。
[0010]本發(fā)明的數(shù)據(jù)修正裝置具有:設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)存儲部，存儲通過蝕刻而形成在對象物上的圖案的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)；蝕刻特性存儲部，存儲與所述對象物上的多個(gè)基準(zhǔn)位置分別對應(yīng)的多個(gè)蝕刻特性；區(qū)域蝕刻特性獲取部，針對在所述對象物上設(shè)定的多個(gè)分割區(qū)域中的每一個(gè)，在基于各分割區(qū)域與所述多個(gè)基準(zhǔn)位置的分別的位置關(guān)系對所述多個(gè)蝕刻特性進(jìn)行加權(quán)處理后，基于進(jìn)行了加權(quán)處理的所述多個(gè)蝕刻特性，求出所述各分割區(qū)域的蝕刻特性即區(qū)域蝕刻特性；以及分割數(shù)據(jù)修正部，將所述設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)分割成與所述多個(gè)分割區(qū)域?qū)?yīng)的多個(gè)分割數(shù)據(jù)，基于與各分割數(shù)據(jù)對應(yīng)的所述各分割區(qū)域的所述區(qū)域蝕刻特性來修正所述各分割數(shù)據(jù)。根據(jù)該數(shù)據(jù)修正裝置，能夠考慮根據(jù)對象物上的位置的蝕刻特性的差異，以良好的精度進(jìn)行蝕刻修正。
[0011]在本發(fā)明的一優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)的所述多個(gè)分割數(shù)據(jù)分別表示的分割圖案是相同的。
[0012]優(yōu)選地，在所述多個(gè)分割數(shù)據(jù)包括對應(yīng)的所述區(qū)域蝕刻特性相同的兩個(gè)以上的分割數(shù)據(jù)的情況下，針對所述兩個(gè)以上的分割數(shù)據(jù)，通過所述分割數(shù)據(jù)修正部進(jìn)行一個(gè)分割數(shù)據(jù)的修正，所述一個(gè)分割數(shù)據(jù)的修正結(jié)果也作為所述分割數(shù)據(jù)修正部的其他的分割數(shù)據(jù)的修正結(jié)果來使用。
[0013]在本發(fā)明的另一優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述區(qū)域蝕刻特性獲取部所執(zhí)行的對所述多個(gè)蝕刻特性的加權(quán)處理，是將基于與各蝕刻特性對應(yīng)的基準(zhǔn)位置和分割區(qū)域之間的距離的權(quán)重系數(shù)與各蝕刻特性相乘的處理；與所述多個(gè)蝕刻特性中的一個(gè)蝕刻特性相乘的權(quán)重系數(shù)是1，與除了所述一個(gè)蝕刻特性以外的蝕刻特性相乘的權(quán)重系數(shù)是0。
[0014]本發(fā)明還涉及在對象物上描畫圖案的描畫裝置。該描畫裝置具有:上述的數(shù)據(jù)修正裝置；光源；光調(diào)制部，基于由所述數(shù)據(jù)修正裝置修正后的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)對來自所述光源的光進(jìn)行調(diào)制；以及掃描機(jī)構(gòu)，在對象物上掃描由所述光調(diào)制部調(diào)制后的光。本發(fā)明還涉及在對象物上描畫圖案的描畫方法。
[0015]本發(fā)明還涉及檢查通過蝕刻而形成在對象物上的圖案的檢查裝置。該檢查裝置具有:上述的數(shù)據(jù)修正裝置；實(shí)際圖像存儲部，存儲通過蝕刻而形成在對象物上的圖案的圖像數(shù)據(jù)即檢查圖像數(shù)據(jù)；以及缺陷檢測部，通過比較由所述數(shù)據(jù)修正裝置修正的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)與所述檢查圖像數(shù)據(jù)，來檢測在所述對象物上形成的所述圖案的缺陷。本發(fā)明還涉及檢查通過蝕刻而形成在對象物上的圖案的檢查方法。
[0016]參照附圖，通過下面進(jìn)行的本發(fā)明的詳細(xì)說明來體現(xiàn)上述的目的及其他的目的、特征、方式及優(yōu)點(diǎn)。
【附圖說明】
[0017]圖1是示出第一實(shí)施方式的描畫裝置的結(jié)構(gòu)的圖。
[0018]圖2是示出數(shù)據(jù)處理裝置的結(jié)構(gòu)的圖。
[0019]圖3是示出數(shù)據(jù)處理裝置的功能的框圖。
[0020]圖4是基板的俯視圖。
[0021]圖5是將特性獲取用圖案的一部分放大表示的圖。
[0022]圖6是將測量圖案的一部分放大表不的圖。
[0023]圖7是示出蝕刻曲線的圖。
[0024]圖8是示出描畫裝置的描畫流程的圖。
[0025]圖9是示出第二實(shí)施方式的檢查裝置的功能的框圖。
[0026]圖10是示出檢查裝置的檢查流程的圖。
[0027]其中，附圖標(biāo)記說明如下:
[0028]1描畫裝置
[0029]la檢查裝置
[0030]9 基板
[0031]21、21a數(shù)據(jù)修正部
[0032]25實(shí)際圖像存儲部
[0033]26缺陷檢測部
[0034]80 程序
[0035]93 圖案
[0036]94 片段
[0037]211設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)存儲部
[0038]212蝕刻特性存儲部
[0039]213區(qū)域蝕刻特性獲取部
[0040]214分割數(shù)據(jù)修正部
[0041]331 光源
[0042]332光調(diào)制部
[0043]S11 至 S16、S21 至 S26 步驟
【具體實(shí)施方式】
[0044]圖1是示出本發(fā)明的第一實(shí)施方式的描畫裝置1的結(jié)構(gòu)的圖。描畫裝置1是直寫裝置，通過對設(shè)置在印刷基板、半導(dǎo)體基板、液晶基板等(以下，僅稱為“基板9”。)的表面的感光材料即抗蝕劑膜照射光，在抗蝕劑膜上直接描畫電路圖案等的圖像。在基板處理裝置等(省略圖示)上對通過描畫裝置1描畫有圖案的基板9施加蝕刻。由此，在基板9上形成圖案。例如，對基板9的蝕刻是通過對基板9賦予蝕刻液而進(jìn)行的濕法蝕刻。并且，例如，也可以進(jìn)行利用了等離子體等的干法蝕刻來作為對基板9的蝕刻。
[0045]描畫裝置1具有數(shù)據(jù)處理裝置2與曝光裝置3。數(shù)據(jù)處理裝置2修正在基板9上描畫的圖案的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)，生成描畫數(shù)據(jù)。曝光裝置3基于從數(shù)據(jù)處理裝置2發(fā)送的描畫數(shù)據(jù)對基板9進(jìn)行描畫(即，曝光)。只要數(shù)據(jù)處理裝置2與曝光裝置3這兩裝置間的數(shù)據(jù)能夠交換，則所述數(shù)據(jù)處理裝置2與曝光裝置3既可以設(shè)置成一體的，也可以設(shè)置成物理上分離的。
[0046]圖2是示出數(shù)據(jù)處理裝置2的結(jié)構(gòu)的圖。數(shù)據(jù)處理裝置2具有一般的計(jì)算機(jī)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)，包括CPU (Central Processing Unit:中央處理單元)201，進(jìn)行各種計(jì)算處理；ROM (Read Only Memory:只讀型存儲器)202，存儲基本程序；以及 RAM203 (Random AccessMemory:隨機(jī)存取存儲器)，存儲各種信息。數(shù)據(jù)處理裝置2