進一步包括固定盤204，存儲信息；顯示器205，顯示圖像等的各種信息；鍵盤206a及鼠標(biāo)206b，接收來自操作者的輸入；讀取/寫入裝置207，對光盤、磁盤、光磁盤等的計算機能夠讀取的記錄介質(zhì)8進行信息的讀取及寫入；以及通信部208，在其與描畫裝置1的其他的結(jié)構(gòu)等之間發(fā)送及接收信號。
[0047]在數(shù)據(jù)處理裝置2上，事前通過讀取/寫入裝置207從記錄介質(zhì)8讀出程序80并存儲在固定盤204。CPU201根據(jù)程序80，在利用RAM203或固定盤204的同時執(zhí)行計算處理。數(shù)據(jù)處理裝置2的功能既可以通過專用的電路來實現(xiàn)，也可以部分使用專用的電路來實現(xiàn)。
[0048]圖3是示出數(shù)據(jù)處理裝置2的功能的框圖。在圖3中，同時示出與數(shù)據(jù)處理裝置2連接的曝光裝置3的結(jié)構(gòu)的一部分。數(shù)據(jù)處理裝置2具有數(shù)據(jù)修正部21與數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換部22。數(shù)據(jù)修正部21修正通過蝕刻而形成在基板9上的圖案的設(shè)計數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)修正部21具有設(shè)計數(shù)據(jù)存儲部211、蝕刻特性存儲部212、區(qū)域蝕刻特性獲取部213以及分割數(shù)據(jù)修正部214。對數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換部22輸入通過數(shù)據(jù)修正部21修正后的設(shè)計數(shù)據(jù)(以下稱為“已修正數(shù)據(jù)”。)。通常，已修正數(shù)據(jù)是多邊形等的矢量數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換部22將作為矢量數(shù)據(jù)的已修正數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成柵格數(shù)據(jù)即描畫數(shù)據(jù)。
[0049]如圖1所示，曝光裝置3具有描畫控制器31、工作臺32、發(fā)光部33以及掃描機構(gòu)35。描畫控制器31控制發(fā)光部33及掃描機構(gòu)35。工作臺32在發(fā)光部33的下方保持基板9。發(fā)光部33具有光源331與光調(diào)制部332。光源331向光調(diào)制部332發(fā)出激光。光調(diào)制部332調(diào)制來自光源331的光。通過光調(diào)制部332調(diào)制后的光照射在工作臺32上的基板9上。例如，利用DMD (Digital Mirror Device:數(shù)字微鏡裝置)作為光調(diào)制部332。
[0050]掃描機構(gòu)35將工作臺32在水平方向上移動。具體而言，通過掃描機構(gòu)35，將工作臺32在主掃描方向及與主掃描方向垂直的副掃描方向上移動。由此，通過光調(diào)制部332調(diào)制的光，在基板9上在主掃描方向及副掃描方向上掃描。在曝光裝置3上，也可以設(shè)置將工作臺32水平旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機構(gòu)。此外，也可以設(shè)置將發(fā)光部33在上下方向移動的升降機構(gòu)。掃描機構(gòu)35只要能將來自發(fā)光部33的光在基板9上掃描，則不一定需要移動工作臺32的機構(gòu)。例如，也可以通過掃描機構(gòu)35，使發(fā)光部33在工作臺32的上方在主掃描方向及副掃描方向上移動。
[0051]圖4是示出通過曝光裝置3描畫有圖案93的基板9的俯視圖?；?呈大致矩形狀。圖案93具有配置成矩陣狀(即，多面安裝)的多個片段94。多個片段94是分別構(gòu)成圖案93的圖案構(gòu)件，圖案93是多個圖案構(gòu)件的集合即圖案構(gòu)件群。在圖4中，使用矩形表示片段94。
[0052]實際上，多個片段94分別是經(jīng)過蝕刻等的各種各樣的處理，最終變成一個獨立的布線圖案的預(yù)定的描畫圖案。在圖4中表示片段94的矩形是包括與片段94對應(yīng)的實際的描畫圖案整體的大致最小的矩形。在圖4所示的例子中，在基板9上配置有六十四個片段94。具體而言，沿著基板9的鄰接的兩條邊(即，沿著圖中的X方向及y方向)，每行每列各配置有八個片段94。六十四個片段94是彼此相同的描畫圖案。
[0053]基板9上除了多個片段94，還描畫有多個特性獲取用圖案95。在圖4中，使用比片段94更小的矩形來表示特性獲取用圖案95。實際上，多個特性獲取用圖案95的每一個是經(jīng)過蝕刻等的各種各樣的處理，最終變成用于測量蝕刻特性的測量圖案的預(yù)定的描畫圖案。在圖4中表示特性獲取用圖案95的矩形是包括與特性獲取用圖案95對應(yīng)的實際的描畫圖案整體的大致最小的矩形。在圖4所示的例子中，四個特性獲取用圖案95配置在基板9的四個角隅部附近。各特性獲取用圖案95配置在連接六十四個片段94的最外緣的大致矩形區(qū)域(即，將六十四個片段94全部包括在內(nèi)的最小的大致矩形區(qū)域)的外側(cè)。
[0054]在以下的說明中，將在基板9上配置有多個特性獲取用圖案95的多個位置分別稱為“基準(zhǔn)位置”。此外，將在基板9上配置有多個片段94的多個位置分別稱為“圖案構(gòu)件位置”。例如，基準(zhǔn)位置及圖案構(gòu)件位置分別是特性獲取用圖案95及片段94的中央坐標(biāo)。例如，基準(zhǔn)位置及圖案構(gòu)件位置也可以分別是特性獲取用圖案95及片段94的一個角隅部。
[0055]圖5是將特性獲取用圖案95的一部分放大表示的圖。在如圖5所示的例子中，特性獲取用圖案95包括多個第一圖形構(gòu)件群951。各第一圖形構(gòu)件群951包括以互相平行的方式大致在1方向上延伸的兩條大致直線狀的第一圖形構(gòu)件952。位于各第一圖形構(gòu)件群951的兩條第一圖形構(gòu)件952之間的間隙G(即，在與兩條第一圖形構(gòu)件952的長度方向垂直的X方向上的間隔)與位于其他的第一圖形構(gòu)件群951的兩條第一圖形構(gòu)件952之間的間隙G不同。
[0056]在基板9上，通過蝕刻及蝕刻后的除去抗蝕劑等的處理，與多個特性獲取用圖案95對應(yīng)的多個測量圖案以及與多個片段94對應(yīng)的多個布線圖案大致同時形成。
[0057]圖6是將與特性獲取用圖案95對應(yīng)的測量圖案96的一部分放大表示的圖。測量圖案96包括與多個第一圖形構(gòu)件群951對應(yīng)的多個第二圖形構(gòu)件群953。在圖6中將一個第二圖形構(gòu)件群953放大表示。各第二圖形構(gòu)件群953包括與兩條第一圖形構(gòu)件952對應(yīng)的大致直線狀的兩條第二圖形構(gòu)件954。第二圖形構(gòu)件954是蝕刻后的第一圖形構(gòu)件952。在圖6中，使用雙點劃線同時示出第一圖形構(gòu)件952的輪廓線。
[0058]如圖6所示，第一圖形構(gòu)件952的輪廓線與第二圖形構(gòu)件954的輪廓線的差分即蝕刻量Et (即，在與第一圖形構(gòu)件952之間的間隙G平行的X方向上的兩輪廓線之間的距離)伴隨著間隙G的變化而發(fā)生變化。間隙G與蝕刻量Et的關(guān)系是通過在由曝光裝置3描畫有圖案93及多個特性獲取用圖案95的試驗用基板上，進行了蝕刻及除去抗蝕劑膜等的處理后，比較測量圖案96的圖像與特性獲取用圖案95的設(shè)計數(shù)據(jù)而獲取的。
[0059]圖7是示出表示間隙G與蝕刻量Et的關(guān)系的蝕刻曲線Ec的圖。如圖7所示，在蝕刻曲線Ec上隨著間隙G變小蝕刻量Et也逐漸變小。雖然在間隙G處于某種程度大小的范圍內(nèi)，蝕刻量Et與間隙G大致成正比，但是若間隙G變小，則相對于間隙G的減少，蝕刻量Et急劇地減少。換言之，若間隙G變小，則蝕刻曲線Ec的傾斜度變大。
[0060]在多個特性獲取用圖案95上，因為位于基板9上的位置(S卩，基準(zhǔn)位置)不同，所以各自的蝕刻曲線Ec有互相不同的可能性。因此，獲取到與多個特性獲取用圖案95分別對應(yīng)的(即，與多個基準(zhǔn)位置分別對應(yīng)的)多條蝕刻曲線Ec。
[0061]特性獲取用圖案95也可以包括除了多個第一圖形構(gòu)件群951以外的各種各樣的形狀的圖形構(gòu)件及各種各樣的組合的圖形構(gòu)件群。例如，也可以將直徑不同的多個圓形圖形構(gòu)件包括在特性獲取用圖案95內(nèi)，獲取表示圓形圖形構(gòu)件的直徑與蝕刻量的關(guān)系的蝕刻曲線。針對該蝕刻曲線，也獲取與多個基準(zhǔn)位置分別對應(yīng)的多條蝕刻曲線。
[0062]在描畫裝置1上，將與各基準(zhǔn)位置對應(yīng)的一條或多條蝕刻曲線存儲在上述的蝕刻特性存儲部212。若將與一個基準(zhǔn)位置對應(yīng)的一條或多條蝕刻曲線統(tǒng)稱為“蝕刻特性”，則蝕刻特性存儲部212存儲與基板9上的多個基準(zhǔn)位置分別對應(yīng)的多個蝕刻特性。
[0063]接著，在參照圖8的同時說明描畫裝置1的描畫流程。首先，在如圖1所示的描畫裝置1上，通過將由在基板9上蝕刻形成的預(yù)定的圖案93(參照圖4)的設(shè)計數(shù)據(jù)，輸入如如圖3所示的數(shù)據(jù)處理裝置2的數(shù)據(jù)修正部21，存儲至設(shè)計數(shù)據(jù)存儲部211來準(zhǔn)備所述設(shè)計數(shù)據(jù)(步驟S11)。
[0064]接著，如上述所示，通過將分別與基板9上的多個基準(zhǔn)位置(在圖4所示的例子中，四個基準(zhǔn)位置)對應(yīng)的多個蝕刻特性，輸入數(shù)據(jù)處理裝置2的數(shù)據(jù)修正部21，存儲至蝕刻特性存儲部212來準(zhǔn)備所述多個蝕刻特性(步驟S12)。既可以在除了描畫裝置1以外的裝置獲取該多個蝕刻特性，也可以在描畫裝置1獲取該多個蝕刻特性。在描畫裝置1獲取蝕刻特性的情況下，在描畫裝置1上設(shè)置有拍攝部，獲取測量圖案96(參照圖6)的圖像；以及蝕刻特性獲取部，基于測量圖案96的圖像與特性獲取用圖案95 (參照圖5)的設(shè)計數(shù)據(jù)，獲取在各基準(zhǔn)位置的蝕刻特性。
[0065]接著，根據(jù)如圖3所示的區(qū)域蝕刻特性獲取部213，針對多個片段94中的每一個，基于分別與多個基準(zhǔn)位置對應(yīng)的多個蝕刻特性，求出在各片段94的蝕刻特性即區(qū)域蝕刻特性(步驟S13)?；诟髌?4的圖案構(gòu)件位置與多個基準(zhǔn)位置分別的位置關(guān)