專利名稱：等離子體顯示面板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于顯示設(shè)備等的等離子體顯示面板。
技術(shù)背景由于等離子體顯示面板(以下也稱作PDP)能夠?qū)崿F(xiàn)高精度、大屏幕化， 因此65英寸的電視機(jī)等已被產(chǎn)品化。近年來，PDP正在向掃描線數(shù)是現(xiàn)有 NTSC方式的顯示設(shè)備的兩倍以上的全規(guī)格高清晰度方向發(fā)展。并且考慮到 環(huán)境問題，還要求PDP不包含鉛成分。PDP主要由前部面板和背部面板構(gòu)成。前部面板具有利用浮法工藝制成的鈉硼硅酸類玻璃的玻璃基板。并且， 前部面板具有在玻璃基板一側(cè)的主面上形成的顯示電極、電介質(zhì)層以及保護(hù) 層。顯示電極由條狀的透明電極以及匯流電極構(gòu)成。電介質(zhì)層覆蓋顯示電極 且作為電容器工作。保護(hù)層由氧化鎂(MgO)構(gòu)成，并形成在電介質(zhì)層上。 并且，匯流電極由用于減少接線電阻的第1電極以及用于遮光的第2電極構(gòu) 成。背部面板具有玻璃基板、形成在玻璃基板一側(cè)的主面上的尋址電極、基 礎(chǔ)電介質(zhì)層、障壁以及熒光體層。尋址電極具有條狀的形狀。基礎(chǔ)電介質(zhì)層 覆蓋尋址電極。障壁形成在基礎(chǔ)電介質(zhì)層上。熒光體層形成在各障壁間，且 由分別發(fā)出紅色、綠色和藍(lán)色光的紅色熒光體層、綠色熒光體層和藍(lán)色熒光 體層構(gòu)成。將前部面板和背部面板的形成有電極的一面相對(duì)配置并氣密密封。并 且，以400Torr 600Torr壓力向由障壁分隔出的放電空間封入Ne-Xe的放電氣體。PDP通過向顯示電極選擇性地施加圖像信號(hào)電壓來進(jìn)行放電。由放電產(chǎn) 生的紫外線激勵(lì)各色熒光體層。由此，PDP發(fā)出紅色、綠色、藍(lán)色三種光， 從而進(jìn)行彩色圖像的顯示。匯流電極使用用于保證導(dǎo)電性的銀。此外，作為電介質(zhì)層，目前使用以 氧化鉛為主成分的低熔點(diǎn)玻璃料。但是，出于對(duì)近年環(huán)境問題的考慮，例如3在特開2003-128430號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)1)、特開2002-053342號(hào)公報(bào)(專利 文獻(xiàn)2)、特開平9-050769號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)3)等中公開有電介質(zhì)層使用 不含鉛成分的玻璃料的PDP。此外，關(guān)于形成匯流電極時(shí)使用的玻璃料，例如在特開2000-048645號(hào) 公報(bào)(專利文獻(xiàn)4)等中公開了含有氧化鉍以取代鉛成分的PDP。專利文獻(xiàn)l:(日本)特開2003-128430號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2:(日本)特開2002-053342號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3:(日本)特開平9-050769號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)4:(日本)特開2000-048645號(hào)公報(bào)發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明提供一種抑制電介質(zhì)層與基板的著色現(xiàn)象，并且具有高亮度的等 離子體顯示面板。本發(fā)明的等離子體顯示面板具有前部面板和形成有尋址電極的背部面 板。前部面板具有顯示電極以及覆蓋顯示電極的電介質(zhì)層，所述顯示電極具 有在前面玻璃基板上形成的第1電極和第2電極。并且，第1電極和第2電 極含有軟化點(diǎn)溫度超過55(TC的玻璃料，該玻璃料包含氧化鉬、氧化鎂和氧 化鈰中的至少一種以及氧化鉍。通過上述結(jié)構(gòu)，能夠?qū)崿F(xiàn)一種抑制電介質(zhì)層 與基板的著色現(xiàn)象，且具有高亮度的等離子體顯示面板。


圖1是表示本發(fā)明的實(shí)施方式中的等離子體顯示面板結(jié)構(gòu)的立體圖。 圖2是表示圖1所示的等離子體顯示面板所使用的前部面板的結(jié)構(gòu)的剖 面圖。圖3是表示圖1所示的等離子體顯示面板制造方法的流程圖。圖4是表示圖1所示的等離子體顯示面板制造方法的一部分的流程圖。附圖標(biāo)記說明1 等離子體顯示面板2 前部面板3 前面玻璃基板4 掃描電極4a， 5a 透明電極4b， 5b 匯流電極5 維持電極6 顯示電極7 黑條8 電介質(zhì)層9 保護(hù)層10 背部面板11 背面玻璃基板12 尋址電極13 基礎(chǔ)電介質(zhì)層14 障壁15 熒光體層16 放電空間41b， 51b 第2電極 42b， 52b 第1電極81 第1電介質(zhì)層82 第2電介質(zhì)層具體實(shí)施方式
下面，使用附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式中的等離子體顯示面板進(jìn)行說明。 (實(shí)施方式)圖1是表示本發(fā)明的實(shí)施方式中的等離子體顯示面板結(jié)構(gòu)的立體圖。等 離子體顯示面板的基本結(jié)構(gòu)使用一般的交流面放電型PDP。如圖l所示，等 離子體顯示面板l (以下稱作PDP1)中，前部面板2和背部面板10相對(duì)配 置，且前部面板2的外周部和背部面板10的外周部由玻璃料等組成的密封 材料(未圖示)氣密密封。由此，PDP1內(nèi)部形成有放電空間16。并且，放 電空間16中，以400Torr 600Torr的壓力封入氖氣(Ne)或氙氣(Xe)等 放電氣體。前部面板2具有前面玻璃基板3和分別形成于前面玻璃基板3上的顯示 電極6、作為遮光層的黑條7、電介質(zhì)層8以及保護(hù)層9。顯示電極6具有由一對(duì)相互平行配置的掃描電極4和維持電極5形成的帶狀形狀。并且，分 別平行配置多列顯示電極6和黑條7。以覆蓋顯示電極6和黑條7的方式形 成電介質(zhì)層8，該電介質(zhì)層8作為電容器工作。保護(hù)層9使用氧化鎂(MgO) 等材料，形成于電介質(zhì)層8的表面。背部面板10具有背面玻璃基板11和分別形成于背面玻璃基板11上的 尋址電極12、基礎(chǔ)電介質(zhì)層13、障壁14以及熒光體層15。多個(gè)帶狀尋址 電極12形成在與掃描電極4和維持電極5正交的方向上，且分別平行配置。 基礎(chǔ)電介質(zhì)層13覆蓋尋址電極12。障壁14具有規(guī)定高度，且為了劃分放 電空間16，形成在尋址電極12間的基礎(chǔ)電介質(zhì)層13上。熒光體層15分別 形成在與各尋址電極12對(duì)應(yīng)的障壁14間的槽中。另外，熒光體層15是通 過依次涂敷由紫外線引起發(fā)出紅色、藍(lán)色、綠色光的各色熒光體層15而形 成的。此外，在掃描電極4、維持電極5以及尋址電極12交叉的位置形成 放電單元，具有在顯示電極6方向排列的紅色、藍(lán)色、綠色熒光體層15的 放電單元構(gòu)成用于彩色顯示的象素。圖2是表示圖1所示的PDP1所使用的前部面板2的結(jié)構(gòu)的剖面圖。另 外，圖2顯示的是使圖l上下顛倒的狀態(tài)。如圖2所示，在通過浮法工藝等 制造的前面玻璃基板3上圖案形成顯示電極6和黑條7。掃描電極4和維持電極5分別由透明電極4a、 5a以及形成于透明電極 4a、 5a上的匯流電極4b、 5b構(gòu)成。另夕卜，透明電極4a、 5a由氧化銦(ITO)、 或氧化錫(Sn02)等材料形成。匯流電極4b、 5b為了在透明電極4a、 5a的 長(zhǎng)度方向上賦予導(dǎo)電性而形成，且分別由用于降低電阻值的白色第1電極 42b、 52b和用于遮擋外部光的黑色第2電極41b、 51b構(gòu)成。電介質(zhì)層8覆蓋透明電極4a、 5a、匯流電極4b、 5b以及黑條7而設(shè)置。 并且，電介質(zhì)層8至少具有第1電介質(zhì)層81和在第1電介質(zhì)層81上形成的 第2電介質(zhì)層82的兩層結(jié)構(gòu)。并且，在第2電介質(zhì)層82上形成有保護(hù)層9。接著，使用圖3和圖4對(duì)PDP1的制造方法進(jìn)行說明。圖3是表示圖1所示的等離子體顯示面板制造方法的流程圖。圖4是表 示圖1所示的等離子體顯示面板制造方法的匯流電極形成步驟的詳細(xì)情況 的流程圖。如下所述制成前部面板2。首先，在前面玻璃基板3上形成掃描電極4、 維持電極5和黑條7。使用光刻法等圖案化形成透明電極4a、 5a和匯流電極4b、 5b。艮口，使用薄膜工藝等，在前面玻璃基板3上形成氧化銦(ITO)或者氧 化錫(Sn02)等透明導(dǎo)電薄膜。使用光刻法等對(duì)在前面玻璃基板3上形成的 透明導(dǎo)電薄膜進(jìn)行圖案化，從而形成構(gòu)成掃描電極4和維持電極5的一部分 的透明電極4a、 5a (S01透明電極形成步驟)。接著，通過絲網(wǎng)印刷等分別成膜用以形成黑條7的膏體層和用以形成匯 流電極4b、 5b的膏體層，并通過光刻法等進(jìn)行圖案化。另外，用以形成匯 流電極4b、 5b的膏體層形成在透明電極4a、 5a之上。此外，用以形成匯流 電極4b、 5b的膏體層包含含有銀材料的第1電極膏體層和含有導(dǎo)電性黑色 粒子的第2電極膏體層。同樣地，用以形成黑條7的膏體層也由含有黑色顏 料的膏體材料組成。并且，在期望溫度下焙燒硬化用以形成黑條7的膏體層 和用以形成匯流電極4b、 5b的膏體層(S02匯流電極形成歩驟)。通過透明 電極形成步驟(S01)和匯流電極形成步驟(S02)，形成掃描電極4、維持 電極5和黑條7。接著，通過狹縫涂敷法等，以分別覆蓋掃描電極4、維持電極5和黑條 7的方式，涂敷第1電介質(zhì)膏體。由此，形成用以制備第1電介質(zhì)層81的 第1電介質(zhì)膏體層(S03第1電介質(zhì)膏體層形成步驟)。并且，涂敷第1電 介質(zhì)膏體后，通過放置規(guī)定時(shí)間，取平涂敷后的第l電介質(zhì)膏體層表面，成 為平坦的表面。另外，第1電介質(zhì)膏體是含有粉末狀的第1電介質(zhì)玻璃料、 粘合劑和溶劑的涂料。接著，通過焙燒硬化第1電介質(zhì)膏體層，制備第1電介質(zhì)層81 (S04 第l電介質(zhì)膏體層焙燒步驟)。接著，通過狹縫涂敷法等，以覆蓋第l電介質(zhì)膏體層的方式，涂敷第2 電介質(zhì)膏體。由此，形成用以制備第2電介質(zhì)層82的第2電介質(zhì)膏體層(S05 第2電介質(zhì)膏體層形成步驟)。并且，涂敷第2電介質(zhì)膏體后，通過放置規(guī) 定時(shí)間，取平涂敷后的第2電介質(zhì)膏體層表面，成為平坦的表面。另外，第 2電介質(zhì)膏體是含有粉末狀的第2電介質(zhì)玻璃料、粘合劑和溶劑的涂料。接著，通過焙燒硬化第2電介質(zhì)膏體層，制備第2電介質(zhì)層82 (S06 第2電介質(zhì)膏體層焙燒步驟)。如上所述，通過第1電介質(zhì)膏體層形成步驟 (S03)、第1電介質(zhì)膏體層焙燒步驟(S04)、第2電介質(zhì)膏體層形成步驟(S05) 和第2電介質(zhì)膏體層焙燒歩驟(S06)，形成覆蓋掃描電極4、維持電極5和黑條7的電介質(zhì)層8。接著，通過真空蒸鍍法，在電介質(zhì)層8上形成氧化鎂組成的保護(hù)層9(S07 保護(hù)層形成步驟)。通過上述各步驟，在前面玻璃基板3上形成規(guī)定的構(gòu)成部件，從而制成 前部面板2。另一方面，如下所述制成背部面板10。首先，在背面玻璃基板ll上形 成尋址電極12 (S11尋址電極形成步驟)。另外，在背面玻璃基板11上形成 用以制備尋址電極12的材料層，通過在規(guī)定溫度下焙燒形成的材料層，制 備尋址電極12。此外，用以制備尋址電極12的材料層，是通過絲網(wǎng)印刷含 有銀材料的膏體的方法、或者在背面玻璃基板11上的整面上形成金屬膜后， 使用光刻法進(jìn)行圖案化的方法等來形成的。接著，通過狹縫涂敷法等，以覆蓋尋址電極12的方式，涂敷基礎(chǔ)電介 質(zhì)膏體，形成用以制備基礎(chǔ)電介質(zhì)層13的基礎(chǔ)電介質(zhì)膏體層(S12基礎(chǔ)電 介質(zhì)膏體層形成步驟)。另外，涂敷基礎(chǔ)電介質(zhì)膏體后，通過放置規(guī)定時(shí)間， 取平涂敷后的基礎(chǔ)電介質(zhì)膏體表面，成為平坦的表面。此外，基礎(chǔ)電介質(zhì)膏 體是含有粉末狀的基礎(chǔ)電介質(zhì)玻璃料、粘合劑和溶劑的涂料。接著，通過焙燒基礎(chǔ)電介質(zhì)膏體層，制備基礎(chǔ)電介質(zhì)層13 (S13基礎(chǔ)電 介質(zhì)膏體層焙燒歩驟)。接著，在基礎(chǔ)電介質(zhì)層13上涂敷含有障壁材料的障壁形成用膏體，并 圖案化成規(guī)定形狀，由此形成障壁材料層。之后，通過焙燒障壁材料層，形 成障壁14 (S14障壁形成步驟)。此處，對(duì)涂敷在基礎(chǔ)電介質(zhì)層13上的障壁 形成用膏體進(jìn)行圖案化的方法，可以使用例如光刻法、或者噴砂法等。接著，在相鄰障壁14間的基礎(chǔ)電介質(zhì)層13上以及障壁14的側(cè)面涂敷 含有熒光體材料的熒光體膏體。并且，通過焙燒熒光體膏體，形成熒光體層 15 (S15熒光體層形成步驟)。經(jīng)由上述各步驟，制得在背面玻璃基板11上形成規(guī)定構(gòu)成部件的背部 面板10。如上所述，分別制得的前部面板2和背部面板10以使顯示電極6和尋 址電極12正交的方式相對(duì)配置，前部面板2的周圍和背部面板10的周圍由 密封材料密封(S21密封步驟)。由此，在相對(duì)的前部面板2和背部面板10 之間的空間中，形成由障壁14劃分的放電空間16。200780000614.8 接著，通過向放電空間16封入含有氖氣或氙氣等氣化氣體的放電氣體，制成PDP1 (S22氣體封入步驟)。接著，對(duì)設(shè)置在前部面板2上的顯示電極6和電介質(zhì)層8進(jìn)行詳細(xì)敘述。顯示電極6通過在前面玻璃基板3上依次疊層透明電極4a、 5a、第2 電極41b、 51b以及第l電極42b、 52b而形成。首先，通過濺鍍法在前面玻 璃基板3上整面形成厚度為0.12/mi左右的氧化銦，之后，通過光刻法形成 寬度為150//m的條狀透明電極4a、 5a (S01透明電極形成步驟)。接著，通過印刷法等在前面玻璃基板3上整面涂敷用以制備第2電極 41b、 51b的第2電極膏體，從而形成第2電極膏體層(S021第2電極膏體 層形成步驟)。另外，通過圖案化以及焙燒第2電極膏體層，制備第2電極 41b、 51b以及黑條7。另外，第2電極膏體含有70重量％ 90重量％的導(dǎo)電性黑色粒子、1 重量％ 15重量％的第2玻璃料以及8重量％ 15重量％的光敏有機(jī)粘合劑 成分。導(dǎo)電性黑色粒子是從Fe、 Co、 Ni、 Mn、 Ru、 Rh中選出的至少--種 黑色金屬微粒、或者是含有該些黑色金屬的金屬氧化物微粒。光敏有機(jī)粘合 劑成分含有光敏聚合物、光敏單體、光聚合引發(fā)劑、溶劑等。第2玻璃料含 有至少20重量％ 50重量％的氧化鉍(Bi203)，并且，第2玻璃料含有氧化鉬(Mo03)、氧化鎂(MgO)和氧化鈰(Ce02)中的至少一種材料。并且， 第2玻璃料的軟化點(diǎn)溫度超過550°C 。另外，用以制備黑條7的膏體層可以使用不同于用以制備第2電極41b、 51b的第2電極膏體層的材料和方法而形成。但是，通過利用第2電極膏體 層作為用以制備黑條7的膏體層，從而不需要單獨(dú)設(shè)置黑條7的步驟，提高 了生產(chǎn)效率。接著，通過印刷法等在第2電極膏體層上涂敷第1電極膏體，形成第l 電極膏體層(S022第1電極膏體層形成步驟)。另外，第1電極膏體至少含有70重量％ 90重量％的銀粒子、1重量％ 15重量％的玻璃料和8重量％ 15重量％的光敏有機(jī)粘合劑成分。光敏有機(jī) 粘合劑成分含有光敏聚合物、光敏單體、光聚合引發(fā)劑和溶劑等。第l玻璃 料至少含有20重量％ 50重量％的氧化鉍(Bi203)。并且，第1玻璃料含 有氧化鉬(Mo03)、氧化鎂(MgO)和氧化鈰(Ce02)中的至少一種材料。 并且，第1玻璃料的軟化點(diǎn)溫度超過55CTC 。接著，使用光刻法等，對(duì)整面涂敷在這些前面玻璃基板3上的第2電極膏體層和第1電極膏體層進(jìn)行圖案化(S023圖案化歩驟)。通過在55CTC 60(TC溫度下焙燒圖案化后的第2電極膏體層和第1電 極膏體層，在透明電極4a、 5a上形成線寬為左右的第2電極41b、 51b 和第1電極42b、 52b (S024電極層焙燒步驟)。同樣地，在電極層焙燒步驟 (S024)，黑條7也通過焙燒而形成。另外，如上所述，第1電極42b、 52b使用的第1玻璃料和第2電極41b、 51b使用的第2玻璃料中的氧化鉍(Bi203)含量為20重量％ 50重量％。 并且，第1玻璃料和第2玻璃料是除了氧化鉍還包含15重量％ 35重量％ 的氧化硼(B203)、 2重量％ 15重量％的氧化硅(Si02)和0.3重量％ 4.4 重量％的氧化鋁(A1203)等的玻璃材料。并且，第1玻璃料和第2玻璃料至 少包含氧化鉬(Mo03)、氧化鎂(MgO)和氧化鈰(Ce02)中的一種材料。 另外，第1玻璃料和第2玻璃料可以是具有完全相同的組成的玻璃料，也可 以是具有所含各種材料的含量不同的材料組成?，F(xiàn)有PDP使用軟化點(diǎn)溫度為45(TC 55CTC的低軟化點(diǎn)溫度的玻璃料， 焙燒溫度為550°C 600°C。即，焙燒溫度比玻璃料的軟化點(diǎn)溫度高約IO(TC。 因此，玻璃料所含的反應(yīng)性高的氧化鉍自身會(huì)與銀、黑色金屬微?；蛘吒囿w 中含有的有機(jī)粘合劑成分劇烈反應(yīng)，在匯流電極4b、 5b中和電介質(zhì)層8中 產(chǎn)生氣泡，從而導(dǎo)致電介質(zhì)層8的絕緣耐壓性惡化。但是，本發(fā)明的PDP1中，第1玻璃料和第2玻璃料的軟化點(diǎn)溫度超過 550°C，焙燒溫度為55CrC 60(TC。即，第1玻璃料和第2玻璃料的軟化點(diǎn) 溫度與焙燒溫度接近。由此，銀、黑色金屬微粒或者有機(jī)成分與氧化鉍的反 應(yīng)下降。因此，匯流電極4b、 5b中與電介質(zhì)層8中的氣泡產(chǎn)生變少。另夕卜， 玻璃料的軟化點(diǎn)溫度在60(TC以上時(shí)，與匯流電極4b、 5b、透明電極4a、 5a、前面玻璃基板3、或者電介質(zhì)層8的粘合性有下降的趨勢(shì)。因此，第l 玻璃料和第2玻璃料的軟化點(diǎn)溫度優(yōu)選為超過55(TC且不足600°C 。接著，對(duì)構(gòu)成前部面板2的電介質(zhì)層8的第1電介質(zhì)層81和第2電介 質(zhì)層82進(jìn)行詳細(xì)說明。首先，以覆蓋第2電極膏體層和第1電極膏體層的方式，通過狹縫涂敷 法或者絲網(wǎng)印刷法在前面玻璃基板3上涂敷第1電介質(zhì)膏體。涂敷后，干燥 焙燒第1電介質(zhì)膏體，形成第1電介質(zhì)膏體層(S03第1電介質(zhì)膏體層形成10步驟)。第1電介質(zhì)層81所含第1電介質(zhì)玻璃材料由下述材料組成構(gòu)成。艮口， 第1電介質(zhì)玻璃材料包含25重量％ 40重量％的氧化鉍(Bi203)、 27.5重 量％ 34重量％的氧化鋅(ZnO)、 17重量％ 36重量％的氧化硼(B203)、 1.4重量％ 4.2重量％的氧化硅(Si02)禾n 0.5重量％ 4.4重量％的氧化鋁(A1203)。并且，第1電介質(zhì)玻璃材料包含5重量％ 13重量％的選自氧化 鈣(CaO)、氧化鍶(SrO)和氧化鋇(BaO)中的至少一種材料。并且，第 1電介質(zhì)玻璃材料包含O.l重量％ 7重量％的選自氧化鉬(Mo03)和氧化 鴇(W03)中的至少一種材料。另外，也可以取代氧化鉬(Mo03)或者氧 化鴇(W03)而含有0.1重量％ 7重量％的選自氧化鈰(Ce02)、氧化銅(CuO)、 二氧化錳(Mn02)、氧化鉻(Cr203)、氧化鈷(Co203)、氧化釩(V207)和氧化銻(Sb203)中的至少一種材料。使用濕式噴射研磨機(jī)或者球磨機(jī)，將由該些成分組成的第1電介質(zhì)玻璃 材料粉碎成平均粒徑為0.5/rni 2.5/mi，制得第1電介質(zhì)玻璃料。接著，使 用三個(gè)輥混合55重量％ 70重量％的第1電介質(zhì)玻璃料和30重量％ 45重 量％的粘合劑成分，制得狹縫涂敷用或者印刷用第1電介質(zhì)膏體。另夕卜，第 1電介質(zhì)膏體所含的粘合劑成分為松油醇或者丁基卡必醇醋酸酯，含有1重 量％ 20重量％的乙基纖維素或者丙烯酸樹脂。此外，為了提高印刷性，可 以根據(jù)需要在第1電介質(zhì)膏體中添加增塑劑或者分散劑等。添加的增塑劑例 如是鄰苯二甲酸二辛酯、鄰苯二甲酸二丁酯、磷酸三苯酯、磷酸三丁酯等。 此外，添加的分散劑例如是甘油單油酸酯、山梨糖醇酐倍半油酸酯、 HOMOGENOL (花王股份有限公司的注冊(cè)商標(biāo))、垸基烯丙基磷酸酯等。接著，在稍高于第1電介質(zhì)玻璃料的軟化點(diǎn)溫度的575。C 59(TC溫度 下焙燒第1電介質(zhì)層膏體層(S04第1電介質(zhì)膏體層焙燒步驟)。由此，形 成覆蓋第2電極膏體層、第1電極膏體層和黑條7的第1電介質(zhì)層81。接著，通過絲網(wǎng)印刷法或者狹縫涂敷法，在第1電介質(zhì)膏體層上涂敷第 2電介質(zhì)膏體。涂敷后，干燥第2電介質(zhì)膏體，形成第2電介質(zhì)膏體層(S05 第2電介質(zhì)膏體層形成步驟)。第2電介質(zhì)層82所含第2電介質(zhì)玻璃材料由下述材料組成構(gòu)成。艮P， 第2電介質(zhì)玻璃材料包含11重量％ 20重量％的氧化鉍(Bi203)、 26.1重 量％ 39.3重量呢的氧化鐸(Zn0)、23重量％ 32.2重量％的氧化硼(B203)、1重量％ 3.8重量％的氧化硅(Si02)禾n 0.1重量％ 10.2重量％的氧化鋁 (A1203)。并且，第2電介質(zhì)玻璃材料包含9.7重量％ 29.4重量％的選自 氧化鈣(CaO)、氧化鍶(SrO)和氧化鋇(BaO)中的至少一種材料。并且， 第2電介質(zhì)玻璃材料包含0.1重量％ 5重量％的氧化鈰(Ce02)。使用濕式噴射研磨機(jī)或者球磨機(jī)，將由這些成分組成的第2電介質(zhì)玻璃 材料粉碎成平均粒徑為0.5/mi 2.5/mi，制得第2電介質(zhì)玻璃料。接著，使 用三個(gè)輥混合55重量％ 70重量％的第2電介質(zhì)玻璃料和30重量％ 45重 量％的粘合劑成分，制得狹縫涂敷用或者印刷用的第2電介質(zhì)膏體。另外， 第2電介質(zhì)膏體所含的粘合劑成分為松油醇或者丁基卡必醇醋酸酯，含有1 重量％ 20重量％的乙基纖維素或者丙烯酸樹脂。此外，為了提高印刷性， 可以根據(jù)需要在第2電介質(zhì)膏體中添加增塑劑或者分散劑等。添加的增塑劑 例如是鄰苯二甲酸二辛酯、鄰苯二甲酸二丁酯、磷酸三苯酯、磷酸三丁酯等。 此外，添加的分散劑例如是甘油單油酸酯、山梨糖醇酐倍半油酸酯、 HOMOGENOL (花王股份有限公司的注冊(cè)商標(biāo))、烷基烯丙基磷酸酯等。接著，在稍高于第2電介質(zhì)玻璃料的軟化點(diǎn)溫度的55(TC 59(TC下焙 燒第2電介質(zhì)層膏體層(S06第2電介質(zhì)膏體層焙燒步驟)。由此，形成覆 蓋第1電介質(zhì)層81的第2電介質(zhì)層82，且由第1電介質(zhì)層81和第2電介 質(zhì)層82形成電介質(zhì)層8。另外，為了保證可見光的透射率，由第1電介質(zhì)層81和第2電介質(zhì)層 82組成的電介質(zhì)層8的膜厚優(yōu)選為41//m以下。為了抑制與匯流電極4b、 5b所含銀的反應(yīng)，第1電介質(zhì)層81中的氧化鉍含量比第2電介質(zhì)層82所 含氧化鉍的含量多，為25重量％ 40重量％。因此，第1電介質(zhì)層81的可 見光透射率也比第2電介質(zhì)層82的可見光透射率低。因此，第1電介質(zhì)層 81的膜厚比第2電介質(zhì)層82的膜厚薄。由此，保證了透過電介質(zhì)層8的可 見光透射率。另外，氧化鉍含有率少于11重量％時(shí)，第2電介質(zhì)層82難以產(chǎn)生著色 現(xiàn)象，但是第2電介質(zhì)層82中容易產(chǎn)生氣泡。此外，氧化鉍含有率超過20 重量％時(shí)，容易產(chǎn)生著色現(xiàn)象，透射率難以提高。因此，第2電介質(zhì)膏體所 含氧化鉍的含有率優(yōu)選為11重量％ 20重量％。此外，電介質(zhì)層8的膜厚越薄，面板亮度的提高和放電電壓降低的效果 越明顯。因此，只要是在絕緣耐壓不下降的范圍內(nèi)，優(yōu)選盡可能地使電介質(zhì)層8的膜厚變薄?？紤]到該點(diǎn)，本發(fā)明的實(shí)施方式中，電介質(zhì)層8的膜厚設(shè) 定為41;mi以下，第l電介質(zhì)層81的膜厚設(shè)定為5^m 15/mi，第2電介質(zhì) 層82的膜厚設(shè)定為2(^m 36/mi。如上所述，PDP1中，即使顯示電極6使用銀材料，也很少有前面玻璃 基板3黃變等著色現(xiàn)象。并且，能夠?qū)崿F(xiàn)電介質(zhì)層8中不會(huì)產(chǎn)生氣泡且絕緣 耐壓性高的電介質(zhì)層8。接著，對(duì)抑制本發(fā)明的PDP1中前面玻璃基板3的著色現(xiàn)象、以及第l 電介質(zhì)層81的著色現(xiàn)象和第1電介質(zhì)層81中氣泡的產(chǎn)生被抑制的理由進(jìn)行 研究。現(xiàn)有PDP中，由于PDP的高清化，掃描線數(shù)增多。即，顯示電極的數(shù) 量增加，且顯示電極間隔變小。因此，從構(gòu)成顯示電極的銀電極擴(kuò)散到電介 質(zhì)層或者玻璃基板的銀離子變多。銀離子(Ag+)擴(kuò)散到電介質(zhì)層或者玻 璃基板后，由于電介質(zhì)層中的堿金屬離子或者玻璃基板中所含的二價(jià)錫離 子，銀離子(Ag+)受到還原作用。其結(jié)果是生成膠狀的銀，電介質(zhì)層或玻璃基板被著色成黃色或者褐色。對(duì)此，本發(fā)明的PDP1中，向第1玻璃料和第2玻璃料添加氧化鉬、氧 化鎂和氧化鈰中的至少一種材料。這些材料與銀離子(Ag+)反應(yīng)，從而 在580。C以下的低溫下生成Ag2Mo04、 Ag2Mo207、 Ag2Mo4013、 AgMgO、 Ag2CeOs等含銀的化合物。本發(fā)明中，電介質(zhì)層8的焙燒溫度為550°C 590°C。由此，在焙燒電 介質(zhì)層8時(shí)，擴(kuò)散到電介質(zhì)層8中的銀離子(Ag+)與第1電極42b、 52b 和第2電極41b、 51b中所含的氧化鉬、或者氧化鎂、氧化鈰反應(yīng)，生成穩(wěn) 定的化合物，從而銀離子(Ag+)被穩(wěn)定化。B卩，銀離子(Ag+)被穩(wěn)定 而不會(huì)被還原。因此，銀離子(Ag+)不會(huì)凝集成膠狀。通過穩(wěn)定銀離子 (Ag+)，伴隨銀的膠狀化而產(chǎn)生的氧也變少。其結(jié)果是電介質(zhì)層8中的氣 泡產(chǎn)生也變少。本發(fā)明的PDP1使用的電介質(zhì)層8中，在與含有銀材料的第1電極42b、 52b接觸的第1電介質(zhì)層81中，著色現(xiàn)象與氣泡的產(chǎn)生被抑制。并且，通 過設(shè)置在第1電介質(zhì)層81上的第2電介質(zhì)層82，能夠?qū)崿F(xiàn)高的可見光透射 率。并且，第1電極42b、 52b使用的第1玻璃料和第2電極41b、 51b使用 的第2玻璃料中，至少包含20重量％ 50重量％的氧化鉍(Bi203)。并且，第1玻璃料和第2玻璃料中至少包含氧化鉬(Mo03)、氧化鎂(MgO)和氧 化鈰(Ce02)中的一種材料，軟化點(diǎn)溫度超過55CTC。由此，由匯流電極4b、 5b產(chǎn)生的氣泡得到進(jìn)一步抑制。其結(jié)果是實(shí)現(xiàn)一種前面玻璃基板3的黃變 等著色現(xiàn)象少、電介質(zhì)層8整體中的氣泡產(chǎn)生和著色現(xiàn)象的產(chǎn)生極少、且透 射率高的PDP1。此外，本發(fā)明的PDH中，在背面玻璃基板11上形成尋址電極12時(shí)， 尋址電極12至少含有銀和第3玻璃料。并且，第3玻璃料至少含有氧化鉍 (Bi203)。并且，第3玻璃料具有超過55(TC的軟化點(diǎn)溫度。由此，與上述 匯流電極4b、 5b和電介質(zhì)層8的關(guān)系相同，從尋址電極12產(chǎn)生的氣泡得到 抑制，基礎(chǔ)電介質(zhì)層13的絕緣耐壓性得到提高。其結(jié)果是背部面板10的可 靠性得到提高。此外，優(yōu)選的是，用以形成基礎(chǔ)電介質(zhì)層13的基礎(chǔ)電介質(zhì)膏體具有與第1電介質(zhì)膏體相同的材料組成。即，基礎(chǔ)電介質(zhì)膏體所含基礎(chǔ)電介質(zhì)玻璃 料具有與第i電介質(zhì)玻璃料相同的材料組成。由此，與上述匯流電極4b、5b和電介質(zhì)層8的關(guān)系相同，從尋址電極12產(chǎn)生的氣泡得到抑制。因此， 實(shí)現(xiàn)一種第2基板11的黃變等著色現(xiàn)象少、基礎(chǔ)電介質(zhì)層13整體中的氣泡 產(chǎn)生和著色現(xiàn)象的產(chǎn)生極少的PDP1。其結(jié)果是基礎(chǔ)電介質(zhì)層13的絕緣耐壓 性得到提高、背部面板10的可靠性得到提高。如上所述，本發(fā)明的PDP1具有可見光透射率高、絕緣耐壓性高的前部 面板2，并且，具有絕緣耐壓性高的背部面板10。因此，能夠?qū)崿F(xiàn)可靠性高、 且不含鉛成分的環(huán)保PDP1。工業(yè)利用可能性如上所述，本發(fā)明的等離子體顯示面板抑制了電介質(zhì)層的著色現(xiàn)象和絕 緣耐壓性的惡化，實(shí)現(xiàn)了環(huán)保且顯示質(zhì)量高的等離子體顯示面板，能夠用于 大畫面的顯示設(shè)備等。1權(quán)利要求
1、一種等離子體顯示面板，其具有前部面板和背部面板，且將所述前部面板和所述背部面板相對(duì)配置，形成放電空間，所述前部面板具有顯示電極和覆蓋所述顯示電極的電介質(zhì)層，其中所述顯示電極具有形成在前面玻璃基板上且含有銀的第1電極以及形成在所述第1電極之下的第2電極；所述背部面板具有形成在背面玻璃基板上的尋址電極，所述等離子體顯示面板的特征在于，所述第1電極和所述第2電極含有軟化點(diǎn)溫度超過550℃的玻璃料，該玻璃料包含氧化鉬、氧化鎂和氧化鈰中的至少一種以及氧化鉍。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的等離子體顯示面板，其特征在于， 所述玻璃料含有20重量％以上、50重量％以下的所述氧化鉍。
3、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的等離子體顯示面板，其特征在于， 所述尋址電極至少含有銀和玻璃料；所述尋址電極所含所述玻璃料至少含有氧化鉍，且軟化點(diǎn)溫度超過 55CTC。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1或2任一項(xiàng)所述等離子體顯示面板，其特征在于， 所述電介質(zhì)層至少含有25重量％以上、40重量％以下的氧化鉍。
全文摘要
一種等離子體顯示面板，其具有前部面板(2)和形成有尋址電極的背部面板。前部面板(2)具有顯示電極(6)，其具有在前面玻璃基板(3)上形成的第1電極(42b、52b)和第2電極(41b、51b)；電介質(zhì)層(8)，其覆蓋顯示電極(6)。并且，第1電極(42b、52b)和第2電極(41b、51b)含有軟化點(diǎn)溫度超過550℃的玻璃料，該玻璃料含有氧化鉬、氧化鎂和氧化鈰中的至少一種以及氧化鉍。根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，可以實(shí)現(xiàn)一種抑制電介質(zhì)層(8)與前面玻璃基板(3)的著色現(xiàn)象，且具有高亮度的等離子體顯示面板。
文檔編號(hào)H01J11/12GK101326612SQ20078000061
公開日2008年12月17日 申請(qǐng)日期2007年2月26日 優(yōu)先權(quán)日2006年2月28日
發(fā)明者三舩達(dá)雄, 古牧初美, 河瀬覺, 瓜生英一, 高木伸悟 申請(qǐng)人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社