一種用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，包括真空泵和平臺，所述真空泵設置在平臺的下方，其中，所述平臺包括裝配在一起的POM板和金屬底板，所述POM板上設置有多個吸附孔，所述金屬底板上設置有與所述吸附孔相對應的溝槽，所述溝槽位于吸附孔的下方。本實用新型提供的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，通過在POM板和金屬底板上分別設置吸附孔和溝槽，以便真空泵抽取平臺內(nèi)部氣體后形成一個負壓空間，從而加大吸附力，大幅降低了因平臺吸力不足造成加工材料浪費過多、加工偏位以及產(chǎn)品不良等缺陷。此外，本實用新型通過縮小吸附孔孔徑、增加吸附孔數(shù)量，更好地將待加工材料牢牢地吸附在真空平臺上。
【專利說明】 一種用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種真空吸附平臺，尤其涉及一種用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，屬于激光微加工【技術領域】。
【背景技術】
[0002]在PET薄膜導電膜層放置固定并加工的放料平臺中，現(xiàn)有技術是利用“潮汐原理”通過采用真空發(fā)生器排空平臺內(nèi)的氣體，從而使平臺內(nèi)部形成負壓來吸附待加工材料。所謂真空發(fā)生器足利用噴管高速噴射壓縮空氣，在噴管出口形成射流，產(chǎn)生卷吸流動.在卷吸作用下，使得噴管出口周圍的空氣不斷地被抽吸走，使吸附腔內(nèi)的壓力降至大氣壓以下，形成一定真空度。由于真空發(fā)生器一般流量均比較小，這就導致工作過程中，平臺吸附反應慢、吸附力小等缺陷，造成生產(chǎn)效率及成品率均比較低。因此，針對現(xiàn)有的不足，有必要提供一種新的技術以提局生廣效率和成品率。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型所要解決的技術問題是提供一種用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，加大吸附力，提局生廣效率。
[0004]本實用新型為解決上述技術問題而采用的技術方案是提供一種用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，包括真空栗和平臺，所述真空栗設置在平臺的下方，其中，所述平臺包括裝配在一起的POM板和金屬底板，所述POM板上設置有多個吸附孔，所述金屬底板上設置有與所述吸附孔相對應的溝槽，所述溝槽位于吸附孔的下方。
[0005]上述的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，其中，所述吸附孔按陣列方式均勻排列。
[0006]上述的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，其中，所述吸附孔是孔徑為0.5mm?4mm的圓孔，相鄰兩個吸附孔之間的間距為5mm?20mm。
[0007]上述的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，其中，所述平臺的平面度為0.05mm以內(nèi)。
[0008]本實用新型對比現(xiàn)有技術有如下的有益效果:本實用新型提供的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，通過在POM板和金屬底板上分別設置吸附孔和溝槽，以便真空栗抽取平臺內(nèi)部氣體后形成一個負壓空間，從而加大吸附力，大幅降低了因平臺吸力不足造成加工材料浪費過多、加工偏位以及產(chǎn)品不良等缺陷。此外，本實用新型通過縮小吸附孔孔徑、增加吸附孔數(shù)量、增大平臺底板內(nèi)部氣路的截面面積，并且利用真空栗的流量及壓力均較大的優(yōu)點，從而更好地將待加工材料牢牢地吸附在真空平臺上，進一步提高了生產(chǎn)效率。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1為本實用新型的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺整體結構示意圖；
[0010]圖2為本實用新型的吸附平臺結構示意圖。[0011]圖中:
[0012]I真空栗2平臺 3 POM板
[0013]4金屬底板 5吸附孔
【具體實施方式】
[0014]下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步的描述。
[0015]圖1為本實用新型的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺整體結構示意圖；圖2為本實用新型的吸附平臺結構示意圖。
[0016]請參見圖1和圖2，本實用新型提供的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺包括真空栗I和平臺2，所述真空栗I設置在平臺2的下方，其中，所述平臺2包括裝配在一起的POM板3和金屬底板4，所述POM板3上設置有多個吸附孔5，所述金屬底板4上設置有與所述吸附孔5相對應的溝槽，所述溝槽位于吸附孔5的下方。
[0017]本實用新型提供的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，通過在POM板3和金屬底板4上分別設置吸附孔5和溝槽，以便真空栗抽取平臺內(nèi)部氣體后形成一個負壓空間，從而吸附待加工物料。POM板(聚甲醛板):英文名稱Polyoxymethylene，俗稱賽鋼板，是用POM塑料粒子通過擠出機高溫擠出，經(jīng)過相應的模具口擠出得到不同厚度的板材，是一種高熔點、高結晶性的熱塑性工程塑料。因POM板所具有的良好特性，非常適合在脈沖激光刻蝕中作為加工平臺，用來進行精密定位。
[0018]本實用新型提供的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，所述吸附孔5優(yōu)選按陣列方式均勻排列；比如所述吸附孔5優(yōu)選孔徑為0.5mm~4mm的圓孔，相鄰兩個吸附孔5之間的間距為5mm~20mm ;所述平臺2的表面盡量光滑，如平面度為0.05mm以內(nèi)。通過縮小吸附孔5孔徑、增加吸附孔5數(shù)量、增大平臺金屬底板4內(nèi)部氣路的截面面積，并且利用真空栗的流量及壓力均較大的優(yōu)點，從而更好地將待加工材料牢牢地吸附在真空平臺上。
[0019]雖然本實用新型已以較佳實施案例揭示如上，然其并非用以限定本實用新型，任何本領域技術人員，在不脫離本實用新型的精神和范圍內(nèi)，當可作些許的修改和完善，因此本實用新型的保護范圍當以權利要求書所界定的為準。
【權利要求】
1.一種用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，包括真空栗(I)和平臺(2)，所述真空栗(I)設置在平臺(2)的下方，其特征在于，所述平臺(2)包括裝配在一起的POM板(3)和金屬底板(4)，所述POM板(3)上設置有多個吸附孔(5)，所述金屬底板(4)上設置有與所述吸附孔(5)相對應的溝槽，所述溝槽位于吸附孔(5)的下方。
2.如權利要求1所述的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，其特征在于，所述吸附孔(5)按陣列方式均勻排列。
3.如權利要求2所述的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，其特征在于，所述吸附孔(5)是孔徑為0.5mm?4mm的圓孔，相鄰兩個吸附孔(5)之間的間距為2mm?20mm。
4.如權利要求2所述的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，其特征在于，所述平臺(2)的平面度為0.05皿1以內(nèi)。
【文檔編號】B23K26/70GK203599718SQ201320825096
【公開日】2014年5月21日 申請日期:2013年12月3日 優(yōu)先權日:2013年12月3日
【發(fā)明者】龔楷峰, 劉俊輝, 施心星 申請人:蘇州鐳明激光科技有限公司