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      半導(dǎo)體硅片腐蝕液的制作方法

      文檔序號:3349572閱讀:318來源:國知局
      專利名稱:半導(dǎo)體硅片腐蝕液的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及微機械加工,具體說是一種半導(dǎo)體硅片腐蝕液。
      背景技術(shù)
      我們知道,現(xiàn)有的半導(dǎo)體硅片腐蝕液,是氫氧化鉀(KOH)腐 蝕液,腐蝕(100)硅片時,晶向線方向和垂直于晶向線方向的腐蝕 速度相同,晶向線非正交方向與晶向線方向、晶向線非正交方向與垂 直于晶向線方向的腐蝕速度不同,晶向線非正交方向腐蝕速度慢,晶 向線方向和垂直于晶向線方向的腐蝕速度快。這種氫氧化鉀腐蝕液, 只適用于腐蝕加工晶向線方向和垂直于晶向線方向的微機械結(jié)構(gòu),如 正方形微機械結(jié)構(gòu)、正交長方形微機械結(jié)構(gòu),腐蝕加工晶向線非正交 方向的微機械結(jié)構(gòu),如正六邊形微機械結(jié)構(gòu)、正八邊形微機械結(jié)構(gòu)等, 存在晶向線非正交方向與晶向線方向,晶向線非正交方向與垂直于晶 向線方向的腐蝕速度不同,晶向線非正交方向腐蝕速度慢,晶向線方 向和垂直于晶向線方向腐蝕速度快,造成腐蝕變形,腐蝕后的正六邊 形微機械結(jié)構(gòu)、正八邊形微機械結(jié)構(gòu)不等于原正六邊形、正八邊形, 不適用于腐蝕加工晶向線非正交方向的微機械結(jié)構(gòu),如正六邊形微機 械結(jié)構(gòu)、正八邊形微機械結(jié)構(gòu)等。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明解決的技術(shù)問題是,解決晶向線非正交方向與晶向線方 向,晶向線非正交方向與垂直于晶向線方向的腐蝕速度不同,晶向線非正交方向腐蝕速度慢,晶向線方向和垂直于晶向線方向腐蝕速度 快,造成腐蝕如正六邊形微機械結(jié)構(gòu)、正八邊形微機械結(jié)構(gòu)變形的問 題,提供一種晶向線非正交方向與晶向線方向,晶向線非正交方向與 垂直于晶向線方向的腐蝕速度相同,腐蝕如正六邊形微機械結(jié)構(gòu)、正 八邊形微機械結(jié)構(gòu)不變形的半導(dǎo)體硅片腐蝕液。
      本發(fā)明的技術(shù)方案是,按重量百分比,氫氧化鉀20-30%,異丙 醇10-15%,其余為水。
      本發(fā)明的有益效果是,由于異丙醇在(100)硅片的腐蝕過程中, 對(100)硅片的晶向線方向和垂直于晶向線方向的腐蝕速度起到干 擾作用,而對非晶向線方向和非垂直于晶向線方向的腐蝕速度影響 小,腐蝕如正六邊形微機械結(jié)構(gòu)、正八邊形微機械結(jié)構(gòu)時,在晶向線 方向、垂直于晶向線方向和非垂直于晶向線方向的腐蝕速度相同,腐 蝕的正六邊形微機械結(jié)構(gòu)、正八邊形微機械結(jié)構(gòu)不變形,本發(fā)明適用 于腐蝕加工晶向線方向、垂直于晶向線方向和非垂直于晶向線方向, 如正六邊形、正八邊形等半導(dǎo)體(100)硅片的微機械結(jié)構(gòu)。 實施方式
      實施例1:
      按重量百分比,氫氧化鉀20%,異丙醇15%,其余為水,攪拌 均勻制成品。腐蝕形狀為正六邊形的檢波器質(zhì)量塊,異丙醇對(100) 硅片的晶向線方向和垂直于晶向線方向的腐蝕速度起到干擾作用,而 對非晶向線方向和非垂直于晶向線方向的腐蝕速度影響小,在晶向線 方向、垂直于晶向線方向和非垂直于晶向線方向的腐蝕速度相同,腐蝕后的形狀為正六邊形的檢波器質(zhì)量塊的微機械結(jié)構(gòu)不變形,符合設(shè) 計要求。
      實施例2:
      按重量百分比,氫氧化鉀30%,異丙醇10%,其余為水,攪拌
      均勻制成品。腐蝕形狀為正八邊形的檢波器質(zhì)量塊,異丙醇對(100)
      硅片的晶向線方向和垂直于晶向線方向的腐蝕速度起到干擾作用,而 對非晶向線方向和非垂直于晶向線方向的腐蝕速度影響小,在晶向線 方向、垂直于晶向線方向和非垂直于晶向線方向的腐蝕速度相同,腐 蝕后的正八邊形的檢波器質(zhì)量塊的微機械結(jié)構(gòu)不變形,符合設(shè)計要 求。
      實施例3:
      按重量百分比,氫氧化鉀25%,異丙醇12%,其余為水,攪拌 均勻制成品。腐蝕形狀為正五邊形的檢波器質(zhì)量塊,異丙醇對(100) 硅片的晶向線方向和垂直于晶向線方向的腐蝕速度起到干擾作用,而 對非晶向線方向和非垂直于晶向線方向的腐蝕速度影響小,在晶向線 方向、垂直于晶向線方向和非垂直于晶向線方向的腐蝕速度相同,腐 蝕后的正五邊形檢波器質(zhì)量塊的微機械結(jié)構(gòu)不變形,符合設(shè)計要求。
      權(quán)利要求
      1、一種半導(dǎo)體硅片腐蝕液,其特征是按重量百分比,氫氧化鉀20-30%,異丙醇10-15%,其余為水。
      全文摘要
      一種半導(dǎo)體硅片腐蝕液,涉及微機械加工,按重量百分比,氫氧化鉀20-30%,異丙醇10-15%,其余為水,攪拌均勻制成品,異丙醇對(100)硅片的晶向線方向和垂直于晶向線方向的腐蝕速度起到干擾作用,而對非晶向線方向和非垂直于晶向線方向的腐蝕速度影響小,腐蝕如正六邊形微機械結(jié)構(gòu)、正八邊形微機械結(jié)構(gòu)時,在晶向線方向、垂直于晶向線方向和非垂直于晶向線方向的腐蝕速度相同,腐蝕如正六邊形微機械結(jié)構(gòu)、正八邊形微機械結(jié)構(gòu)不變形,適用于腐蝕加工晶向線方向、垂直于晶向線方向和非垂直于晶向線方向,如正六邊形、正八邊形等半導(dǎo)體(100)硅片的微機械結(jié)構(gòu)。
      文檔編號C23F1/40GK101608308SQ20091001721
      公開日2009年12月23日 申請日期2009年7月11日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月11日
      發(fā)明者靜 劉, 唐曉剛, 張桂仙, 楊仲華 申請人:威海雙豐物探設(shè)備股份有限公司
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