專利名稱：一種掩膜版倒邊磨邊機(jī)的掩膜版支撐平臺(tái)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種為在對(duì)掩膜版進(jìn)行倒邊和磨邊加工過(guò)程中支撐掩模版，并在
加工前對(duì)其進(jìn)行調(diào)整定位的掩膜版支撐平臺(tái)裝置。
背景技術(shù)：
掩膜版是廣泛應(yīng)用在電子行業(yè)的重要加工工具之一，掩膜版的倒邊和磨邊是掩膜版加工制造過(guò)程中的重要加工環(huán)節(jié)，其加工質(zhì)量好壞，直接影響到掩膜版的質(zhì)量。目前，掩膜版的倒邊和磨邊工序都是靠人工手動(dòng)完成，這種加工方式不僅勞動(dòng)強(qiáng)度大、生產(chǎn)效率低，更重要的是倒邊和磨邊的質(zhì)量難以保證，并且加工精度都比較低，很難將經(jīng)手動(dòng)倒邊和磨邊的掩膜版應(yīng)用到高端產(chǎn)品中，特別是大尺寸掩膜版的倒邊和磨邊，其加工質(zhì)量就更難保證。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的一個(gè)目的是針對(duì)現(xiàn)有的對(duì)掩膜版進(jìn)行倒邊和磨邊加工的現(xiàn)狀，提供一種在對(duì)掩膜版進(jìn)行倒邊和磨邊加工過(guò)程中支撐掩模版，并在加工前對(duì)其進(jìn)行調(diào)整定位的掩膜版支撐平臺(tái)裝置。 為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案一種掩膜版倒邊磨邊機(jī)的掩膜版支撐平臺(tái)裝置，包括掩膜版支撐板，和對(duì)放置在所述掩膜版支撐板上的掩膜版進(jìn)行調(diào)整定位的定位調(diào)整組件；所述定位調(diào)整組件包括一定位調(diào)整擋邊，所述定位調(diào)整擋邊的左端安裝有左定位塊，定位調(diào)整擋邊上設(shè)置有可在其上滑動(dòng)的右定位塊，所述右定位塊通過(guò)一鎖緊手柄進(jìn)行鎖緊定位。 優(yōu)選地，還包括一蓋在所述掩膜版支撐板上的防靜電膠皮墊；所述掩膜版支撐板
的正面開(kāi)有若干組非穿透性的溝槽，每組溝槽以所述掩膜版支撐板的一個(gè)端點(diǎn)為基準(zhǔn)，將
其劃分為占據(jù)不同面積的方形支撐區(qū)域，以適應(yīng)不同規(guī)格的掩膜版；所述掩膜版支撐板的
背面開(kāi)有若干組與所述若干組溝槽一一對(duì)應(yīng)的沉槽，每組沉槽中的每個(gè)沉槽的中心線均與
位于其上方的一組溝槽相對(duì)應(yīng)，每個(gè)沉槽內(nèi)設(shè)置有與位于其上方的一組溝槽相通的真空通
氣孔，每個(gè)沉槽中均安裝有一真空氣路塊；每個(gè)真空氣路塊均通過(guò)一真空氣接頭與一真空
室連通；所述防靜電膠皮墊通過(guò)真空氣路塊的作用吸附在所述掩膜版支撐板上。 優(yōu)選地，所述定位調(diào)整擋邊的兩端分別固定安裝有滾輪安裝架，兩端的滾輪安裝
架上均安裝有使定位調(diào)整組件在掩膜版支撐板上前后滑動(dòng)的支撐滾，所述滾輪安裝架上還
安裝有在掩膜版支撐板上滾動(dòng)的側(cè)滾；所述定位調(diào)整擋邊的兩側(cè)設(shè)置有用于定位的鎖緊螺釘。 優(yōu)選地，還包括大理石支撐架，其上固定安裝有大理石，所述掩膜版支撐板安裝在大理石上；在所述掩膜版支撐板的兩側(cè)設(shè)置有容置所述支撐滾的直角槽，支撐滾支撐在所述大理石上，所述直角槽的外邊緣為支撐所述側(cè)滾的側(cè)滾支撐面。[0008] 優(yōu)選地，所述大理石的厚度大于等于10cm。[0009] 優(yōu)選地，所述掩膜版支撐板的正面開(kāi)有四組非穿透性的溝槽；所述掩膜版支撐板 的背面開(kāi)有四組與所述四組溝槽一一對(duì)應(yīng)的沉槽，每組沉槽包括彼此垂直設(shè)置的兩個(gè)沉 槽。 本實(shí)用新型的有益之處是通過(guò)設(shè)置定位調(diào)整組件，可以調(diào)整掩膜版的位置，并在 位置調(diào)整后，對(duì)掩膜版進(jìn)行定位，以保證在對(duì)掩膜版進(jìn)行倒邊和磨邊加工過(guò)程中，掩膜版不 會(huì)發(fā)生偏移，即可以保證加工質(zhì)量。通過(guò)在掩膜版支撐板的上面開(kāi)有若干組非穿透性溝槽， 在掩膜版支承板的背面開(kāi)有若干組沉槽，可以使一防靜電膠皮墊吸附在掩膜版支撐板上， 可以避免在調(diào)整掩膜版的過(guò)程中損壞掩膜版，另外，還可以針對(duì)不同規(guī)格的掩膜版，開(kāi)啟相 對(duì)應(yīng)的真空氣路塊，避免浪費(fèi)能源。大理石選擇10cm厚，約占整個(gè)支承平臺(tái)厚度的三分之 二，可以保證置于其上方的掩膜版不會(huì)有任何變形。

圖1為本實(shí)用新型所述掩膜版支撐平臺(tái)裝置的透視圖； 圖2為圖1所示掩膜版支撐平臺(tái)裝置的爆炸圖； 圖3為圖1所示掩膜版支撐板的正面結(jié)構(gòu)示意圖； 圖4為圖1所示掩膜版支撐板的背面結(jié)構(gòu)示意圖； 圖5為圖1所示定位調(diào)整組件的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式—種掩膜版倒邊磨邊機(jī)，包括支撐掩膜版，并對(duì)其進(jìn)行調(diào)整定位的掩模版支撐平 臺(tái)裝置。 如圖1至5所示，所述掩膜版支撐平臺(tái)裝置1包括大理石支撐架11，其上固定安裝 有大理石12。所述掩膜版支撐板16，優(yōu)選為鋁合金材質(zhì)，其正面開(kāi)有若干組非穿透性的溝 槽161，每組溝槽161以掩膜版支撐板16的一個(gè)端點(diǎn)為基準(zhǔn)，將其劃分為占據(jù)不同面積的方 形支撐區(qū)域，以適應(yīng)不同規(guī)格的掩膜版，本實(shí)施例中設(shè)置有四組溝槽161。 所述掩膜版支撐板16的背面開(kāi)有若干組與所述若干組溝槽161 —一對(duì)應(yīng)的沉槽， 每組沉槽可以包括兩個(gè)彼此垂直設(shè)置的沉槽18，其中，每個(gè)沉槽18的中心線與位于其上方 的一組溝槽161相對(duì)應(yīng)，每個(gè)沉槽18內(nèi)設(shè)置有與位于其上方的一組溝槽161相通的真空通 氣孔(圖中未示出)，其中，真空通氣孔優(yōu)選為沿著沉槽18的中心線設(shè)置。所述沉槽18，在 其兩側(cè)邊上設(shè)置有連接螺孔19，每個(gè)沉槽18中均安裝有一個(gè)真空氣路塊14，所述真空氣路 塊14優(yōu)選在其四周墊上密封片后通過(guò)螺栓與所述連接螺孔19的配合將各個(gè)真空氣路塊14 固定在與各自相對(duì)應(yīng)的沉槽18中。與真空室連通的每個(gè)真空氣接頭17可以從掩膜版支撐 板16的側(cè)邊旋入與各自相對(duì)應(yīng)的真空氣路塊14，使其與真空氣路塊14連通。只有當(dāng)各個(gè) 沉槽18均安裝好真空氣路塊14后，掩膜版支撐板16才能固定安裝在大理石12上。 所述掩膜版支撐板16上可以蓋有一張防靜電膠皮墊13，以防止對(duì)掩膜版調(diào)整找 正時(shí)損傷掩膜版。所述大理石12的厚度優(yōu)選為大于等于10cm，約占整個(gè)掩膜版支撐平臺(tái)裝 置1的厚度的2/3，以保證置于其上方的掩膜版不會(huì)有任何變形。所述掩膜版支撐平臺(tái)裝 置1工作時(shí)，電控系統(tǒng)控制真空氣路接通，由于各個(gè)真空氣路塊14通過(guò)真空通氣孔與各組 溝槽161連通，因此可以將膠皮墊13緊緊地吸附在掩膜版支撐板16上。[0020] 待加工的掩膜版由人工放置在所述膠皮墊13上，通過(guò)定位調(diào)整組件15調(diào)整掩膜版在掩膜版支撐板16上的位置，并在調(diào)整好后進(jìn)行定位，所述定位調(diào)整組件15包括定位調(diào)整擋邊155，其兩端分別固定安裝有滾輪安裝架，兩端的滾輪安裝架上均安裝有使定位調(diào)整組件15在掩膜版支撐板16上前后滑動(dòng)的支撐滾156，支撐滾156在大理石12的支撐滾支撐面121上滾動(dòng)，所述滾輪安裝架上還安裝有在掩膜版支撐板16的側(cè)滾支撐面162上滾動(dòng)的側(cè)滾153，所述掩膜版支撐板16，在兩側(cè)設(shè)置有容置支撐滾156的直角槽，直角槽的外邊緣即為所述的側(cè)滾支撐面162 ;所述定位調(diào)整擋邊155的兩側(cè)設(shè)置有用于定位的鎖緊螺釘154 ;在定位調(diào)整擋邊155的左端安裝有左定位塊151，定位調(diào)整擋邊155上設(shè)置有可在其上滑動(dòng)的右定位塊152，右定位塊152可以通過(guò)在機(jī)械領(lǐng)域內(nèi)慣常使用的鎖緊手柄158進(jìn)行鎖緊定位。因此，可以通過(guò)定位調(diào)整組件15的定位調(diào)整擋邊155、左定位塊151和右定位塊152，推動(dòng)掩膜版找正定位，并借助于鎖緊螺釘154和鎖緊手柄158對(duì)掩膜版進(jìn)行定位，以在下一步對(duì)其進(jìn)行倒邊和磨邊加工。 綜上所述僅為本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例，并非用來(lái)限定本實(shí)用新型的實(shí)施范圍。即凡依本實(shí)用新型申請(qǐng)專利范圍的內(nèi)容所作的等效變化及修飾，皆應(yīng)屬于本實(shí)用新型的技術(shù)范疇。
權(quán)利要求一種掩膜版倒邊磨邊機(jī)的掩膜版支撐平臺(tái)裝置，其特征在于包括掩膜版支撐板，和對(duì)放置在所述掩膜版支撐板上的掩膜版進(jìn)行調(diào)整定位的定位調(diào)整組件；所述定位調(diào)整組件包括一定位調(diào)整擋邊，所述定位調(diào)整擋邊的左端安裝有左定位塊，定位調(diào)整擋邊上設(shè)置有可在其上滑動(dòng)的右定位塊，所述右定位塊通過(guò)一鎖緊手柄進(jìn)行鎖緊定位。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種掩膜版倒邊磨邊機(jī)的掩膜版支撐平臺(tái)裝置，其特征在 于還包括一蓋在所述掩膜版支撐板上的防靜電膠皮墊；所述掩膜版支撐板的正面開(kāi)有若 干組非穿透性的溝槽，每組溝槽以所述掩膜版支撐板的一個(gè)端點(diǎn)為基準(zhǔn)，將其劃分為占據(jù) 不同面積的方形支撐區(qū)域，以適應(yīng)不同規(guī)格的掩膜版；所述掩膜版支撐板的背面開(kāi)有若干 組與所述若干組溝槽一一對(duì)應(yīng)的沉槽，每組沉槽中的每個(gè)沉槽的中心線均與位于其上方的 一組溝槽相對(duì)應(yīng)，每個(gè)沉槽內(nèi)設(shè)置有與位于其上方的一組溝槽相通的真空通氣孔，每個(gè)沉 槽中均安裝有一真空氣路塊；每個(gè)真空氣路塊均通過(guò)一真空氣接頭與一真空室連通；所述 防靜電膠皮墊通過(guò)真空氣路塊的作用吸附在所述掩膜版支撐板上。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種掩膜版倒邊磨邊機(jī)的掩膜版支撐平臺(tái)裝置，其特征 在于所述定位調(diào)整擋邊的兩端分別固定安裝有滾輪安裝架，兩端的滾輪安裝架上均安裝 有使定位調(diào)整組件在掩膜版支撐板上前后滑動(dòng)的支撐滾，所述滾輪安裝架上還安裝有在掩 膜版支撐板上滾動(dòng)的側(cè)滾；所述定位調(diào)整擋邊的兩側(cè)設(shè)置有用于定位的鎖緊螺釘。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種掩膜版倒邊磨邊機(jī)的掩膜版支撐平臺(tái)裝置，其特征在 于還包括大理石支撐架，其上固定安裝有大理石，所述掩膜版支撐板安裝在大理石上；在 所述掩膜版支撐板的兩側(cè)設(shè)置有容置所述支撐滾的直角槽，支撐滾支撐在所述大理石上， 所述直角槽的外邊緣為支撐所述側(cè)滾的側(cè)滾支撐面。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種掩膜版倒邊磨邊機(jī)的掩膜版支撐平臺(tái)裝置，其特征在 于所述大理石的厚度大于等于10cm。
6. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種掩膜版倒邊磨邊機(jī)的掩膜版支撐平臺(tái)裝置，其特征在 于所述掩膜版支撐板的正面開(kāi)有四組非穿透性的溝槽；所述掩膜版支撐板的背面開(kāi)有四 組與所述四組溝槽一一對(duì)應(yīng)的沉槽，每組沉槽包括彼此垂直設(shè)置的兩個(gè)沉槽。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種掩膜版倒邊磨邊機(jī)的掩膜版支撐平臺(tái)裝置，屬于對(duì)掩膜版進(jìn)行倒邊和磨邊加工的領(lǐng)域；包括掩膜版支撐板，和對(duì)放置在所述掩膜版支撐板上的掩膜版進(jìn)行調(diào)整定位的定位調(diào)整組件；所述定位調(diào)整組件包括一定位調(diào)整擋邊，所述定位調(diào)整擋邊的左端安裝有左定位塊，定位調(diào)整擋邊上設(shè)置有可在其上滑動(dòng)的右定位塊，所述右定位塊通過(guò)一鎖緊手柄進(jìn)行鎖緊定位；本實(shí)用新型所述掩膜版支撐平臺(tái)裝置可在倒邊裝置和磨邊裝置對(duì)掩膜版進(jìn)行倒邊和磨邊加工過(guò)程中支撐掩模版，并在加工前對(duì)其進(jìn)行調(diào)整定位。
文檔編號(hào)B24B9/02GK201439178SQ20092016683
公開(kāi)日2010年4月21日 申請(qǐng)日期2009年7月20日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月20日
發(fā)明者周冠彬, 唐召來(lái), 張松嶺, 林宜龍, 林建昌, 田亮 申請(qǐng)人:格蘭達(dá)技術(shù)(深圳)有限公司