專利名稱：一種高銻鉛陽極泥濕法處理的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種有色金屬濕法冶金方法。特別是一種高銻鉛陽極泥濕法處理的方法。
背景技術(shù)：
鉛陽極泥是提取金屬銀和金的主要原料之一，傳統(tǒng)的處理方法是火法。鉛陽極泥 經(jīng)還原熔煉得貴鉛、煙塵和稀渣，貴鉛氧化精煉除鉛分銀得粗銀，粗銀電解得產(chǎn)品銀?；鸱?的缺點(diǎn)是銀直收率較低，部分銀隨銅、銻、鉍、砷分散在煙塵及渣中，煙塵及爐渣難處理，綜 合回收困難。中國專利CN85106670提出了用控制電位從鉛、銻、鎳陽極泥提取貴金屬的方 法，是將物料置于4 6N HC1和1. 4N NaCl介質(zhì)中，在75 85。C溫度，加入NaClO使體系 的氧化還原電位控制在400 460mv進(jìn)行選擇性浸出，然后再進(jìn)行控電氯化浸出金。提出了 一個用于貴金屬冶金過程提取、富集、分離貴賤金屬的有效方法。但是該方法控電氯化須在 75 85t:溫度和NaCl的鹽酸介質(zhì)中進(jìn)行，加劇了氯化物介質(zhì)對設(shè)備的腐蝕性，對銀的提取 未深入，對銅、銻、鉍、鉛的綜合利用未涉及。中國專利CN 89103853. l提出了在鹽酸介質(zhì)中 控制溶液電位對鉛陽極泥進(jìn)行選擇性浸出的方法，系將物料置于鹽酸介質(zhì)中，在10 50°C 溫度內(nèi)，通氯氣使體系的氧化還原電位控制在400 450mv進(jìn)行選擇性浸出，浸出液采用水 解法回收銻，還原沉淀法回收砷，絡(luò)合法分離銅與鉍、銻。提出了一個用于貴金屬冶金過程 提取、富集、分離貴賤金屬的有效方法。但是該方法控電氯化浸出僅考慮分離貴賤金屬，未 涉及氯化浸出過程中銻離子價態(tài)的變化，對鉛陽極泥中所含硅氟酸和硅氟酸鹽的處理未深 入。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種高銻鉛陽極泥濕法處理的方法，能有效地分離貴賤金 屬，金、銀回收率高，直接制備高純?nèi)然R，銅、砷、鉍、鉛也能綜合回收，可連續(xù)操作，且閉 路循環(huán)，無廢棄污染物排放，有利于環(huán)境保護(hù)。 本發(fā)明通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)上述目的提供一種高銻鉛陽極泥濕法處理的方 法，是將鉛電解過程中所產(chǎn)的銻含量在40% _75%之間的高銻鉛陽極泥置于3. 5 12M鹽 酸介質(zhì)中，鹽酸濃度的選擇取決于高銻鉛陽極泥的氧化度，高銻鉛陽極泥的氧化度高則需 要鹽酸濃度高，反之則需要鹽酸濃度低，但氯化浸出液中需有一定濃度的游離鹽酸，以保證 高濃度三氯化銻不至于水解沉淀。 在室溫下通氯氣進(jìn)行選擇性一段氯化浸出，一段氯化浸出終點(diǎn)的氧化還原電位控
制在200 300mv，一段氯化浸出終點(diǎn)的氧化還原電位控制是以氯化浸出液中無五價銻離
子為標(biāo)準(zhǔn)，也即一段氯化浸出兼具浸出液還原過程，而氯化浸出終點(diǎn)的氧化還原電位的高
低則取決于氯化浸出液中三價銻離子濃度和其它金屬離子濃度，三價銻離子濃度和其它金
屬離子濃度子高則氯化浸出液的氧化還原電位也高，反之則其氧化還原電位低。 —段氯化浸出渣再置于2 4M鹽酸介質(zhì)中，在室溫下通氯氣進(jìn)行選擇性二段氯化
3浸出，二段氯化浸出過程中氯化浸出液中需有一定濃度的游離鹽酸，以保證高濃度三氯化 銻不至于水解沉淀。鹽酸濃度取決于氯化浸出液中三價銻離子濃度，三價銻離子濃度高則 二段氯化浸出液需要高的鹽酸濃度，反之則需要鹽酸濃度低。 在室溫下通氯氣進(jìn)行選擇性二段氯化浸出，二段氯化浸出終點(diǎn)的氧化還原電位控 制在400 450mv，使銻、鉍、銅、砷等轉(zhuǎn)入溶液，金、銀和鉛殘留在浸出渣中，避免金進(jìn)入溶 液。二段氯化浸出液返回一段氯化浸出，二段氯化浸出渣可以采用已知的濕法處理分別回 收金、銀和鉛。 氧化還原電位值采用鉑電極與飽和甘汞電極測定，氧化還原電位的控制是通過控
制氯氣的通入量來實(shí)現(xiàn)。通氯氧化浸出是一放熱過程，氯化浸出過程不需要加熱，也可避免
NaCl等鹽類氯化劑的加入，導(dǎo)致氯化浸出液氯離子濃度過高而增加銀的溶解損失。 將一段氯化浸出液蒸餾濃縮至120 135t:的主要目的是蒸發(fā)一段氯化浸出液
中的硅氟酸，以防止其在后續(xù)連續(xù)蒸餾過程中蒸發(fā)，在冷凝過程結(jié)晶，堵塞冷凝器管道，嚴(yán)
重影響蒸餾過程的進(jìn)行。高銻鉛陽極泥是鉛電解精煉過程中產(chǎn)生的副產(chǎn)物，鉛的電解精煉
是以硅氟酸和硅氟酸鉛的水溶液作電解液，所以鉛陽極泥不可避免地存在硅氟酸和硅氟酸
鉛，而且高銻鉛陽極泥是一種多孔狀物質(zhì)，容易吸附大量硅氟酸和硅氟酸鉛的鉛電解液，在
水溶液中難以浸泡除去，采用稀硫酸和稀鹽酸也難以去除。高銻鉛陽極泥在鹽酸溶液進(jìn)行
控電氯化浸出時，硅氟酸鉛可能與鹽酸發(fā)生反應(yīng)生成硅氟酸和氯化鉛。 浸出液在110 12(TC的溫度區(qū)間內(nèi)，蒸餾濃縮的餾出液冷卻時會產(chǎn)生大量的白
色片狀結(jié)晶物，而當(dāng)溫度超過12(TC時，餾出液冷卻時中不再出現(xiàn)這種結(jié)晶物。經(jīng)紅外光譜、
XRD以及能譜分析，冷卻結(jié)晶物的主要成分是無定形水合二氧化硅。 —段氯化浸出液蒸餾濃縮至12(TC后，蒸餾濃縮母液采用連續(xù)蒸餾方法制備高純 三氯化銻，三氯化銻溶液流入到蒸餾塔的上部，并使低沸點(diǎn)的物質(zhì)如HC1、 H20和AsCl3等 蒸發(fā)，所得的三氯化銻和其他高沸點(diǎn)物質(zhì)如PbCl2、 BiCl3、 CuCl2、 ZnCl2和FeCl2等熔鹽流 入蒸餾塔低部的蒸餾鍋，再導(dǎo)入三氯化銻蒸餾鍋中將三氯化銻蒸發(fā)，而其他高沸點(diǎn)物質(zhì)如 PbCl2、 BiCl3、 CuCl2、 ZnCl2和FeCl2等則殘留在三氯化銻蒸餾鍋內(nèi)，殘?jiān)e累到一定量后用 稀鹽酸浸泡除去，實(shí)現(xiàn)連續(xù)蒸餾；蒸餾所得到品位為99. 9%以上的三氯化銻，銻的直收率 在95%以上。 本發(fā)明所述高銻鉛陽極泥是指鉛電解過程中所產(chǎn)的銻含量較高的鉛陽極泥，銻的 含量在40% _75%之間。 本發(fā)明所述選擇性是高銻指鉛陽極泥在氯化浸出過程中選擇性地浸出賤金屬，而 貴金屬殘留在浸出渣中。 本發(fā)明所述液固比在濕法冶金中是一個常用詞語，是固體的質(zhì)量與液體的體積 比。 本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是 (1)、采用二段逆流控電氯化浸出體系，在保證高的浸出率的前提下，浸出液銻濃
度較高，從而大幅度降低酸耗和擴(kuò)大后續(xù)過程的設(shè)備生產(chǎn)能力。 (2)、制備得到純?nèi)然R工藝流程短，銻直收率高，生產(chǎn)成本低。 (3)、工藝過程可連續(xù)操作，且閉路循環(huán)，無廢棄污染物排放，有利于環(huán)境保護(hù)。
(4)伴生金屬金、銀主要富集在浸出渣，伴生金屬鉍、銅等僅富集在蒸餾殘?jiān)?，伴生金屬砷富集在連續(xù)蒸餾的低沸點(diǎn)冷卻液中，富集程度高，易于綜合回收利用。


圖1是本發(fā)明所述高銻鉛陽極泥濕法處理的方法的工藝流程圖。
具體實(shí)施方式

實(shí)施例1 將含量為(wt%) :Sb70.52，Ag0.722，Pbll.72，As1. 13，Bil.78，Cu1.02的高銻鉛 陽極泥，在8M鹽酸介質(zhì)中按高銻鉛陽極泥的氧化度和浸出液400g/l Sb濃度要求的液固比 進(jìn)行通氯一段氯化浸出，控制一段氯化浸出終點(diǎn)的氧化還原電位在200mv浸出3小時，以一 段氯化浸出液中無五價銻離子為標(biāo)準(zhǔn)；一段氯化浸出渣在2M鹽酸介質(zhì)中通氯進(jìn)行二段氯 化浸出，控制二段氯化浸出終點(diǎn)的氧化還原電位在400mv浸出3小時，二段氯化浸出液返回 下一批一段氯化浸出，99. 5%的金、99%的銀富集在二段氯化浸出渣中。
將成分為(g/1) :Sb410. 12， AgO. 341， Pbl. 23， As2. 93， Bi7. 83， Cu4. 48的一段 氯化浸出液進(jìn)行蒸餾濃縮，蒸餾濃縮溫度控制在12(TC，蒸餾濃縮母液進(jìn)入連續(xù)蒸餾可得 99. 94%純?nèi)然R。 本發(fā)明所述氯化浸出液中無五價銻離子是指分析滴定方法檢測氯化浸出液中無
五價銻離子濃度較少或微量，在濕法冶金中可以這樣認(rèn)為。 實(shí)施例2 將含量為(wt%) :Sb63.6，Agl.08，Pbl2.64，As4.04，Bi3.31，Cu1.47的高銻鉛陽 極泥，在12M鹽酸介質(zhì)中按高銻鉛陽極泥的氧化度和浸出液500g/lSb濃度要求的液固比進(jìn) 行通氯一段氯化浸出，控制一段氯化浸出終點(diǎn)的氧化還原電位在300mv浸出3小時，以一段 氯化浸出液中無五價銻離子為標(biāo)準(zhǔn)；一段氯化浸出渣在4M鹽酸介質(zhì)中通氯進(jìn)行二段氯化 浸出，控制二段氯化浸出終點(diǎn)的氧化還原電位在450mv浸出3小時，二段氯化浸出液返回下 一批一段氯化浸出，99. 1 %的金、98. 8%的銀富集在二段氯化浸出渣中。
將成分為(g/1) :Sb496. 32， AgO. 51， Pb2. 23， As32. 5， Bi24. 83， Cu9. 18的一段
氯化浸出液進(jìn)行蒸餾濃縮，蒸餾濃縮溫度控制在135t:，蒸餾濃縮母液進(jìn)入連續(xù)蒸餾可得
99. 91%純?nèi)然R。
實(shí)施例3 將實(shí)施例2所述的高銻鉛陽極泥，在IOM鹽酸介質(zhì)中按高銻鉛陽極泥的氧化度和 浸出液500g/L Sb濃度要求的液固比進(jìn)行通氯一段氯化浸出，控制一段氯化浸出終點(diǎn)的氧 化還原電位在280mv浸出3小時，以一段氯化浸出液中無五價銻離子為標(biāo)準(zhǔn)；一段氯化浸出 渣在3. 5M鹽酸介質(zhì)中通氯進(jìn)行二段氯化浸出，控制二段氯化浸出終點(diǎn)的氧化還原電位在 400mv浸出3小時，二段氯化浸出液返回下一批一段氯化浸出，99. 3%的金、99%的銀富集 在二段氯化浸出渣中。將成分為(g/1) :Sb492. 16， AgO. 43， Pb2. 76， As31. 55， Bi24. 63， Cu8. 98的一段
氯化浸出液進(jìn)行蒸餾濃縮，蒸餾濃縮溫度控制在12(TC，蒸餾濃縮母液進(jìn)入連續(xù)蒸餾可得 99. 93%純?nèi)然R。
權(quán)利要求
一種高銻鉛陽極泥濕法處理的方法，其特征在于，按下述順序的步驟進(jìn)行(1)、將鉛電解過程中所產(chǎn)的銻含量在40％-75％之間的高銻鉛陽極泥置于3.5～12M鹽酸介質(zhì)中，在室溫下通氯氣進(jìn)行選擇性一段氯化浸出，一段氯化浸出終點(diǎn)的氧化還原電位控制在200～300mv；(2)、一段氯化浸出渣再置于2～4M鹽酸介質(zhì)中，在室溫下通氯氣進(jìn)行選擇性二段氯化浸出，二段氯化浸出終點(diǎn)的氧化還原電位控制在400～450mv，二段氯化浸出液返回一段氯化浸出，二段氯化浸出渣采用已知的濕法處理分別回收金、銀和鉛；(3)、將一段氯化浸出液蒸餾濃縮至120～135℃，以蒸發(fā)一段氯化浸出液中的硅氟酸，蒸餾濃縮母液采用連續(xù)蒸餾方法制備高純?nèi)然R。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的高銻鉛陽極泥濕法處理的方法，其特征在于上述步驟(3)的一段氯化浸出液蒸餾濃縮母液采用二段連續(xù)蒸餾方法制備高純?nèi)然R。
全文摘要
一種高銻鉛陽極泥濕法處理的方法，是將鉛電解過程中所產(chǎn)的銻含量在40％-75％之間的高銻鉛陽極泥置于鹽酸介質(zhì)中，采用二段逆流控電氯化浸出，一段氯化浸出終點(diǎn)的氧化還原電位控制在200～300mv，二段氯化浸出終點(diǎn)的氧化還原電位控制在400～450mv，99.5％的金和99％的銀富集在二段氯化浸出渣中，可進(jìn)一步回收處理。一段氯化浸出液采用蒸餾濃縮蒸發(fā)其中的硅氟酸，蒸餾濃縮母液采用連續(xù)蒸餾方法制備高純?nèi)然R，金屬銻的直收率95％。
文檔編號C22B3/06GK101787440SQ201010134248
公開日2010年7月28日 申請日期2010年3月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月29日
發(fā)明者葉有明, 廖春圖, 曹華珍, 王學(xué)洪, 鄧崇進(jìn), 鄭國渠, 陳進(jìn)中 申請人:廣西華錫集團(tuán)股份有限公司;浙江工業(yè)大學(xué)