專利名稱：：鎂合金對象的表面處理方法及其結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明是關(guān)于一種表面處理方法，特別是一種鎂合金對象的表面處理方法及其結(jié)構(gòu)，適用于拉絲處理工藝。
背景技術(shù)：
：目前像是筆記本計算機(jī)、手機(jī)、個人數(shù)字助理(personaldigitalassistant,PDA)等電子產(chǎn)品的外殼大多是以塑料材料制造而成，然而塑料材料于視覺美觀性以及觸摸質(zhì)感上較差。因此，遂有廠商業(yè)者將電子裝置的外殼材質(zhì)改采用金屬材料，使得產(chǎn)品外觀產(chǎn)生金屬質(zhì)感，以增進(jìn)美觀性與觸摸手感。以筆記本計算機(jī)為例，目前的筆記本計算機(jī)外殼為求輕薄、高強(qiáng)度、及散熱性佳等需求，現(xiàn)多采用像是鎂合金(Mgalloy)、鋁合金(Alalloy)、鎂鋁合金(Mg-Alalloy)、鈦合金(Tialloy)、鎂鋰合金(Mg-Lialloy)等輕金屬材料。以上述輕金屬作為計算機(jī)外殼的成型方式大致有壓鑄成型及射出成型，再配合后續(xù)的涂裝烤漆、電鍍或陽極處理等表面處理工藝，以制造出外觀質(zhì)感符合要求的金屬外殼。其中，上述的輕金屬材料中又以鎂合金具備有諸多優(yōu)異的材料性質(zhì)，而被公認(rèn)是最具潛力的輕量化材料，并且已經(jīng)廣泛地使用于3C電子產(chǎn)品。由于鎂合金熔湯的材料特性限制，導(dǎo)致成型的鎂合金工件的表面質(zhì)量不佳，致使電子裝置的機(jī)殼的外觀質(zhì)感與觸摸手感不彰。因此于鎂合金工件成型后，還需要施以孔洞補(bǔ)土、研磨、拋光等后續(xù)工藝，不但既耗時又耗工，且亦難以直接呈現(xiàn)最原始的金屬色澤質(zhì)感。為了解決上述鎂合金材料的限制，目前發(fā)展出一種改善工藝。已知的改善工藝于鎂合金工件成型后，必須先進(jìn)行補(bǔ)土，并于鎂合金工件的表面噴涂一層底漆。經(jīng)過上述修補(bǔ)工藝步驟后，方可對披覆有底漆的鎂合金工件表面施以拉絲(hairline)處理(或稱做拉發(fā)絲處理)，接著還要再于完成拉絲處理的鎂合金工件表面涂覆像是納米漆等具有金屬成分的材料涂層，如此才能使鎂合金工件的表面呈現(xiàn)金屬質(zhì)感與色澤。雖然上述的已知表面處理工藝解決了鎂合金工件的外觀必須具備金屬質(zhì)感的問題，但因為鎂合金工件的表面已先行披覆一層底漆，因此實際上是針對底漆進(jìn)行拉絲處理，并非是針對鎂合金工件本身。再者，于拉絲處理后，必須還要進(jìn)行像是涂覆納米漆等多道美化處理工序，導(dǎo)致鎂合金表面處理的工序過于繁復(fù)，以及制造成本過高等限制。
發(fā)明內(nèi)容鑒于以上的問題，本發(fā)明提供一種鎂合金對象的表面處理方法及其結(jié)構(gòu)，借以改良已知鎂合金表面處理程序?qū)嶋H上并非是針對鎂合金對象本身進(jìn)行表面處理的限制，以及改善已知鎂合金對象的表面處理工序過于繁復(fù)與制造成本過高等問題。本發(fā)明所揭露鎂合金對象的表面處理方法，其步驟首先對鎂合金基材施以拉絲工藝，以形成至少一拉絲微結(jié)構(gòu)于鎂合金基材的表面上。最后，對鎂合金基材施以第一化學(xué)氧化工藝(chemicaloxidationprocess)，以形成一光澤膜于鎂合金基材的表面上，且光澤膜覆蓋住拉絲微結(jié)構(gòu)。本發(fā)明所揭露鎂合金對象的表面處理方法，其中于拉絲工藝的步驟之前更可包括有對鎂合金基材施以第二化學(xué)氧化工藝，以形成一氧化膜于鎂合金基材的表面上，而拉絲微結(jié)構(gòu)貫穿氧化膜而于鎂合金基材的表面上成形。本發(fā)明所揭露的鎂合金對象結(jié)構(gòu)包括有一鎂合金基材、至少一拉絲微結(jié)構(gòu)及一光澤膜。其中，拉絲微結(jié)構(gòu)是成形于鎂合金基材的表面上，光澤膜是設(shè)置于鎂合金基材的表面上，且光澤膜覆蓋住拉絲微結(jié)構(gòu)。本發(fā)明的鎂合金對象結(jié)構(gòu)更可包括有一氧化膜，是設(shè)置于鎂合金基材的表面上，且氧化膜介于鎂合金基材與光澤膜之間，拉絲微結(jié)構(gòu)是貫穿氧化膜，并且成形于鎂合金基材的表面。本發(fā)明的表面處理方法是直接于鎂合金對象的表面上形成拉絲微結(jié)構(gòu)，借以簡化表面處理的工序工藝，同時降低表面處理程序的制造成本。另外，本發(fā)明的表面處理方法更形成有一光澤膜覆蓋住拉絲微結(jié)構(gòu)，除了提供抗氧化效果之外，更大幅提高了鎂合金對象的表面光澤度，有效消除了視覺上對于鎂合金對象的表面缺陷問題，提升出廠測試時的信賴度，讓鎂合金對象具備符合市場所要求的美觀造型。為讓本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能更明顯易懂，以下結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實施方式作詳細(xì)說明，其中圖1為本發(fā)明的鎂合金物件的立體示意圖。圖2A為本發(fā)明第一實施例的步驟流程圖。圖2B為本發(fā)明第一實施例的拉絲工藝的步驟流程圖。圖3為本發(fā)明第一實施例的鎂合金對象的平面剖視圖。圖4A為本發(fā)明第二實施例的步驟流程圖。圖4B為本發(fā)明第二實施例的鎂合金對象的平面剖視圖。圖5A為本發(fā)明第三實施例的步驟流程圖。圖5B為本發(fā)明第三實施例的鎂合金對象的平面剖視圖。圖6A為本發(fā)明第四實施例的步驟流程圖。圖6B為本發(fā)明第四實施例的第二化學(xué)氧化工藝的步驟流程圖。圖6C為本發(fā)明第四實施例的鎂合金對象的平面剖視圖。圖7A為本發(fā)明第五實施例的步驟流程圖。圖7B為本發(fā)明第五實施例的鎂合金對象的平面剖視圖。圖8A為本發(fā)明第六實施例的步驟流程圖。圖8B為本發(fā)明第六實施例的鎂合金對象的平面剖視圖。主要組件符號說明步驟100對鎂合金基材施以拉絲工藝步驟101對鎂合金基材施以拋光程序步驟102對完成拋光程序的鎂合金基材施以第一研磨程序步驟103對完成第一研磨程序的鎂合金基材施以第二研磨程序步驟110對鎂合金基材施以第一化學(xué)氧化工藝步驟120對鎂合金基材施以第二化學(xué)氧化工藝步驟121對鎂合金基材施以第一水洗程序步驟122對完成第一水洗程序的鎂合金基材施以脫酸/脫酯程序步驟123對完成脫酸/脫酯程序的鎂合金基材施以第二水洗程序步驟IM對完成第二水洗程序的鎂合金基材施以中和程序步驟125對完成中和程序的鎂合金基材施以第三水洗程序步驟1對完成第三水洗程序的鎂合金基材施以化學(xué)氧化程序步驟127對完成化學(xué)氧化程序的鎂合金基材施以第四水洗程序步驟1對完成第四水洗程序的鎂合金基材施以烘烤程序步驟130對鎂合金基材施以上漆工藝步驟140對鎂合金基材施以消光工藝200鎂合金物件210鎂合金基材211表面220拉絲微結(jié)構(gòu)230光澤膜240氧化膜250漆層260消光膜具體實施例方式本發(fā)明所揭露的鎂合金對象，用以作為各類電子裝置的殼體，而此類電子裝置包括但不局限于筆記本計算機(jī)、智能型移動電話(PDAPhone,SmartPhone)、可攜式導(dǎo)航裝置(PortableNavigationDevice，PND)、個人數(shù)字助理(PersonalDigitalAssistant,PDA)等講究外觀造型美感的電子裝置。以下本發(fā)明的詳細(xì)說明中，將以筆記本計算機(jī)作為本發(fā)明的最佳實施例。然而所附圖式僅提供參考與說明用，并非用以限制本發(fā)明。圖1為本發(fā)明的鎂合金物件的立體示意圖，而圖2A及圖2B為本發(fā)明第一實施例的步驟流程圖，圖3分別為本發(fā)明第一實施例的鎂合金對象的平面剖視圖。如圖所示，本發(fā)明第一實施例的鎂合金對象200的表面處理方法，首先提供一鎂合金基材210，且鎂合金基材210具有一表面211，例如為外表面。本發(fā)明所述的鎂合金基材210可借由壓鑄成型或是射出成型等方式制造生產(chǎn)，接著再對鎂合金基材210進(jìn)行沖切加工程序，以及計算機(jī)數(shù)值控制(computernumericcontrol,CNC)加工程序，以形成預(yù)設(shè)尺寸形狀的鎂合金基材210。接著，對完成前置加工作業(yè)的鎂合金基材210施以拉絲工藝(步驟100)，以在鎂合金基材210的表面211形成至少一拉絲微結(jié)構(gòu)220，而此一拉絲微結(jié)構(gòu)220是直接成形于鎂合金基材210本身上。進(jìn)一步說明鎂合金基材的拉絲工藝(步驟100)的詳細(xì)工藝步驟首先，對鎂合金基材210施以拋光程序(步驟101)，先對鎂合金基材210的棱角等不規(guī)則部位進(jìn)行拋光程序，以于鎂合金基材210的不規(guī)則部位形成拉絲微結(jié)構(gòu)220。本實施例的拋光程序可選用羊毛輪或是尼龍輪對鎂合金基材210的不規(guī)則部位進(jìn)行拋光，但并不以此為限。接著，對完成拋光程序的鎂合金基材210施以第一研磨程序(步驟10，最后對完成第一研磨程序的鎂合金基材210施以第二研磨程序(步驟103)。本實施例所揭示的第一研磨程序與第二研磨程序是以一砂帶機(jī)對鎂合金基材210的大面積部位，例如鎂合金基材210的表面211進(jìn)行二階段的拉絲處理，操作人員可采用手動方式或是自動方式對鎂合金基材210進(jìn)行拉絲處理，并不以此為限。并且，第一研磨程序所使用的砂帶粒度是相對大于第二研磨工藝所使用的砂帶粒度，使得鎂合金基材210的表面拉絲處理工藝先進(jìn)行粗拉絲處理，將鎂合金基材210表面的流紋痕跡去除之后，再進(jìn)行細(xì)拉絲處理，以構(gòu)成規(guī)則的拉絲微結(jié)構(gòu)220，而無存在其它不必要的痕跡或圖樣，借以提升鎂合金基材210的表面211的拉絲質(zhì)量。以本實施例為例，第一研磨程序所采用的砂帶粒度為180號(180#)，而第二研磨程序所采用的砂帶粒度為100號(100#)。但是，熟悉此項技術(shù)者，可依據(jù)實際需求而對應(yīng)改變第一研磨工藝與第二研磨工藝的砂帶粒度，并不局限于本發(fā)明所描述的實施例。請繼續(xù)參閱圖2A、圖2B及圖3，鎂合金基材210完成拉絲工藝(步驟100)之后，接著再對鎂合金基材210施以第一化學(xué)氧化工藝(chemicaloxidationprocess)(步驟110)，以形成一光澤膜230于鎂合金基材210的表面211上，且光澤膜230完全覆蓋住拉絲微結(jié)構(gòu)220，以構(gòu)成具有拉絲表面的鎂合金對象200。本實施例的光澤膜230可為有色的化學(xué)皮膜或是無色透明的化學(xué)皮膜，并不以此為限。并且，光澤膜230是由鎂合金基材210透過多道化學(xué)程序而形成于鎂合金基材210的表面211上。本發(fā)明的鎂合金對象200具有覆蓋住拉絲微結(jié)構(gòu)220的光澤膜230，除了可提供抗氧化效果之外，更大幅提高了鎂合金對象200的表面光澤度，有效消除在視覺上對于鎂合金基材210的表面缺陷問題。同時，光澤膜230更令鎂合金對象200具備良好的導(dǎo)電特性。本發(fā)明于執(zhí)行第一化學(xué)氧化工藝的過程中，是選用上海尚品公司的GT-003型號的鋁皮膜劑進(jìn)行光澤膜230的化成；或者是選用樺京公司的超微乳化樹脂作為第一化學(xué)氧化工藝所使用的藥劑；或者是選用日本帕卡瀨精公司的MG-15SX型號或MC-1620型號的藥劑使用于本發(fā)明的第一化學(xué)氧化工藝中；或者是選用上海比可士筌公司的N6020R型號或N7111型號的藥劑使用于本發(fā)明的第一化學(xué)氧化工藝中。然而，熟悉此項技術(shù)者可依據(jù)不同的參數(shù)條件及工藝工序而對應(yīng)調(diào)整化學(xué)氧化工藝所使用的藥劑，并不局限于本實施例所描述的藥劑種類。圖4A為本發(fā)明第二實施例的步驟流程圖，圖4B為本發(fā)明第二實施例的鎂合金對象的平面剖視圖。由于第二實施例與前述第一實施例的工藝步驟與結(jié)構(gòu)大致相同，因此只針對差異處加以說明。如圖4A及圖4B所示，于完成鎂合金基材210的第一化學(xué)氧化工藝(步驟110)之后，本發(fā)明第二實施例更包括有對鎂合金基材210施以至少一道的上漆工藝(步驟130)的工藝步驟，借以形成至少一漆層250于光澤膜230上，進(jìn)一步地提供鎂合金對象200的外觀美化效果。7本實施例的上漆工藝(步驟130)可以只進(jìn)行一道工序，選擇將例如樹脂材料以噴涂、刮刀涂布、網(wǎng)版印刷等方式于光澤膜230上形成一層底漆層，而此一漆層250可為無色透明或是白色的膜層；或者是，本實施例的上漆工藝(步驟130)可以只進(jìn)行二道工序，先將例如樹脂材料以噴涂、刮刀涂布、網(wǎng)版印刷等方式于光澤膜230上形成一層透明無色或是白色的底漆層，接著再于底漆層上重復(fù)上漆工藝，以于底漆層上再疊加一層有色的面漆層，以增進(jìn)鎂合金對象200的外觀美化效果。本實施例的上漆工藝可依據(jù)實際使用需求而改變漆層250的層數(shù)，并不以此為限。圖5A為本發(fā)明第三實施例的步驟流程圖，圖5B為本發(fā)明第三實施例的鎂合金對象的平面剖視圖。由于第三實施例與前述第二實施例的工藝步驟與結(jié)構(gòu)大致相同，因此只針對差異處加以說明。如圖5A及圖5B所示，于完成鎂合金基材210的上漆工藝(步驟130)之后，本發(fā)明第三實施例更包括有對鎂合金基材210施以消光工藝(步驟140)的工藝步驟，借以形成一消光膜260于漆層250上。本實施例的消光膜260可為無色透明的膜層，或者是依據(jù)實際使用需求而改變消光膜260的顏色為紅色、黑色等各種色澤，并不以此為限。本實施例的消光膜260進(jìn)一步地提供鎂合金對象200的外觀美化效果，同時提供鎂合金基材210更完善的氧化保護(hù)效果，將鎂合金基材210本身與外界大氣環(huán)境相互隔絕。詳細(xì)而言，第三實施例所揭示的消光工藝(步驟140)是將例如消光金油、紫外光(ultraviolet,UV)漆等消光劑(mattingagent)以噴涂、刮刀涂布、網(wǎng)版印刷等方式涂覆于漆層250上，以形成消光膜沈0。本發(fā)明的光澤膜230除了提供抗氧化效果、增加鎂合金對象的表面光澤度、提高導(dǎo)電性質(zhì)之外，對于本實施例的消光工藝來說，光澤膜230使得后續(xù)的消光工藝所涂覆的消光劑具備良好的附著性，進(jìn)而令消光膜260平整的披覆于光澤膜230上。圖6A及圖6B為本發(fā)明第四實施例的步驟流程圖，圖6C分別為本發(fā)明第四實施例的鎂合金對象的平面剖視圖。如圖所示，本發(fā)明第四實施例的鎂合金對象200的表面處理方法，首先提供一鎂合金基材210，且鎂合金基材210具有一表面211，例如為外表面。本發(fā)明所述的鎂合金基材210可借由壓鑄成型或是射出成型等方式制造生產(chǎn)，接著再對鎂合金基材210進(jìn)行沖切加工程序，以及計算機(jī)數(shù)值控制(computernumericcontrol,CNC)加工程序，以形成預(yù)設(shè)尺寸形狀的鎂合金基材210。接著，對完成前置加工作業(yè)的鎂合金基材210施以第二化學(xué)氧化工藝(chemicaloxidationprocess)，以形成一氧化膜240并披覆于鎂合金基材210的表面211上(步驟120)，借此有效保護(hù)鎂合金基材210，避免鎂合金基材210產(chǎn)生氧化作用。其中，請參閱圖6B，并搭配圖6A及圖6C所示，舉例而言，本發(fā)明所揭露的第二化學(xué)氧化工藝(步驟120)是將鎂合金基材210依序浸泡于多個化學(xué)槽內(nèi)進(jìn)行化學(xué)氧化處理。詳細(xì)來說，本實施例的第二化學(xué)氧化工藝(步驟120)的步驟可包括先對鎂合金基材210施以第一水洗程序(步驟121)，并對完成第一水洗程序的鎂合金基材210施以脫酸/脫酯程序(步驟12，將鎂合金基材210的表面211所殘留的酸酯類物質(zhì)(例如切削液、離型劑等化學(xué)物質(zhì))予以清除，避免后續(xù)化學(xué)處理程序受到酸酯類物質(zhì)的影響。接著，對完成脫酸/脫酯程序的鎂合金基材210施以第二水洗程序(步驟12，并對完成第二水洗程序的鎂合金基材210施以中和程序(步驟1)，使得鎂合金基材210的表面保持酸堿值中性的特性。接著，對完成中和程序的鎂合金基材210施以第三水洗程序(步驟12。對完成第三水洗程序的鎂合金基材210施以化學(xué)氧化程序(步驟126)，以于鎂合金基材210的表面211上形成完整的氧化膜220，借此避免鎂合金對象本身與外界大氣之間產(chǎn)生氧化反應(yīng)。接著對完成化學(xué)氧化程序的鎂合金基材210施以第四水洗程序(步驟127)，以純水(purewater)清潔形成于鎂合金基材210的表面211的氧化膜220，最后對完成第四水洗程序的鎂合金基材210施以烘烤程序(步驟128)，確保無任何水分存在于氧化膜220上，以利進(jìn)行后續(xù)的工藝步驟。須注意的是，熟悉此項技術(shù)者，可依據(jù)實際的工藝工序需求，而對應(yīng)調(diào)整第一化學(xué)氧化工藝的步驟順序，或者是對應(yīng)增減第一化學(xué)氧化工藝的工序道數(shù)，并不局限于本發(fā)明所揭露的實施例。另外，于第一化學(xué)氧化工藝中所形成的氧化膜240可為有色或是無色透明的化學(xué)皮膜，并不以此為限。如圖6A及圖6C所示，鎂合金基材210于完成第二化學(xué)氧化工藝(步驟120)之后，再對鎂合金基材210施以拉絲工藝(步驟100)，以在鎂合金基材210的表面211形成至少一拉絲微結(jié)構(gòu)220，而此一拉絲微結(jié)構(gòu)220貫穿過氧化膜240而于鎂合金基材210的表面211上成形。也就是說，拉絲微結(jié)構(gòu)220是先破壞氧化膜240的結(jié)構(gòu)而直接成形于鎂合金基材210本身上。本實施例所述的鎂合金基材的拉絲工藝(步驟100)與第一實施例的拉絲工藝相同(請參閱圖2B)，故申請人不在此多加贅述。請繼續(xù)參閱圖6A及圖6C，鎂合金基材210完成拉絲工藝(步驟100)之后，接著再對鎂合金基材210施以第一化學(xué)氧化工藝(步驟110)，以形成一光澤膜230于氧化膜M0，且光澤膜230完全覆蓋住拉絲微結(jié)構(gòu)220，以構(gòu)成具有拉絲表面的鎂合金對象200。本實施例的光澤膜230為無色透明的化學(xué)皮膜，且光澤膜230是由鎂合金基材210透過多道化學(xué)程序而形成于氧化膜240上。本發(fā)明的鎂合金對象200具有覆蓋住拉絲微結(jié)構(gòu)220的光澤膜230，除了可提供抗氧化效果之外，更大幅提高了鎂合金對象的表面光澤度，有效消除在視覺上對于鎂合金基材210的表面缺陷問題。同時，光澤膜230更令鎂合金對象200具備良好的導(dǎo)電特性。本發(fā)明于執(zhí)行第一化學(xué)氧化工藝的過程中，是選用上海尚品公司的GT-003型號的鋁皮膜劑進(jìn)行光澤膜230的化學(xué)氧化；或者是選用樺京公司的超微乳化樹脂作為第一化學(xué)氧化工藝所使用的藥劑；或者是選用日本帕卡瀨精公司的MG-15SX型號或MC-1620型號的藥劑使用于本發(fā)明的第一化學(xué)氧化工藝中；或者是選用上海比可士筌公司的N6020R型號或N7111型號的藥劑使用于本發(fā)明的第一化學(xué)氧化工藝中。然而，熟悉此項技術(shù)者可依據(jù)不同的參數(shù)條件及工藝工序而對應(yīng)調(diào)整化學(xué)氧化工藝所使用的藥劑，并不局限于本實施例所描述的藥劑種類。圖7A為本發(fā)明第五實施例的步驟流程圖，圖7B為本發(fā)明第五實施例的鎂合金對象的平面剖視圖。由于第五實施例與前述第四實施例的工藝步驟與結(jié)構(gòu)大致相同，因此只針對差異處加以說明。如圖7A圖及圖7B圖所示，于完成鎂合金基材210的第一化學(xué)氧化工藝(步驟110)之后，本發(fā)明第五實施例更包括有對鎂合金基材210施以至少一道的上漆工藝(步驟130)的工藝步驟，借以形成至少一漆層250于光澤膜230上，進(jìn)一步地提供鎂合金對象200的外觀美化效果。本實施例的上漆工藝(步驟130)可以只進(jìn)行一道工序，選擇將例如樹脂材料以噴涂、刮刀涂布、網(wǎng)版印刷等方式于光澤膜230上形成一層底漆層，而此一漆層250可為無色透明或是白色的膜層；或者是，本實施例的上漆工藝(步驟130)可以只進(jìn)行二道工序，先將例如樹脂材料以噴涂、刮刀涂布、網(wǎng)版印刷等方式于光澤膜230上形成一層透明無色或是白色的底漆層，接著再于底漆層上重復(fù)上漆工藝，以于底漆層上再疊加一層有色的面漆層，以增進(jìn)鎂合金對象200的外觀美化效果。本實施例的上漆工藝可依據(jù)實際使用需求而改變漆層250的層數(shù)，并不以此為限。圖8A為本發(fā)明第二實施例的步驟流程圖，圖8B為本發(fā)明第六實施例的鎂合金對象的平面剖視圖。由于第二實施例與前述第五實施例的工藝步驟與結(jié)構(gòu)大致相同，因此只針對差異處加以說明。如圖8A及圖8B所示，于完成鎂合金基材210的上漆工藝(步驟130)之后，本發(fā)明第六實施例更包括有對鎂合金基材210施以消光工藝(步驟140)的工藝步驟，借以形成一消光膜260于于漆層250上。本實施例的消光膜260可為無色透明的膜層，或者是依據(jù)實際使用需求而改變消光膜260的顏色為紅色、黑色等各種色澤，并不以此為限。本實施例的消光膜260進(jìn)一步地提供鎂合金對象200的外觀美化效果，同時提供鎂合金基材210更完善的氧化保護(hù)效果，將鎂合金基材210本身與外界大氣環(huán)境相互隔絕。詳細(xì)而言，第六實施例所揭示的消光工藝(步驟140)是將例如消光金油、紫外光(ultraviolet,UV)漆等消光劑(mattingagent)以噴涂、刮刀涂布、網(wǎng)版印刷等方式涂覆于漆層250上，以形成消光膜沈0。本發(fā)明的光澤膜230除了提供抗氧化效果、增加鎂合金對象的表面光澤度、提高導(dǎo)電性質(zhì)之外，對于本實施例的消光工藝來說，光澤膜230使得后續(xù)的消光工藝所涂覆的消光劑具備良好的附著性，進(jìn)而令消光膜260平整的披覆于光澤膜230上。本發(fā)明的鎂合金對象的表面處理方法是直接對鎂合金對象的裸件進(jìn)行拉絲工藝，以于鎂合金基材的表面上形成拉絲微結(jié)構(gòu)。如此可大幅簡化鎂合金對象表面處理的工藝工序，并可節(jié)省制造成本。本發(fā)明的表面處理方法更透過化學(xué)氧化工藝而形成一光澤膜，此一光澤膜除了提供抗氧化效果之外，更大幅提高鎂合金對象的表面光澤度，有效消除了視覺上對于鎂合金對象的表面缺陷問題，讓鎂合金對象具備符合市場所要求的美觀造型，信賴度更佳，光澤膜更令鎂合金對象具備有良好的導(dǎo)電特性。并且，光澤膜亦提高后續(xù)上漆工藝所形成的漆層與消光工藝所形成的消光膜的披覆性。雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭示如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何本領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作些許的修改和完善，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)以權(quán)利要求書所界定的為準(zhǔn)。權(quán)利要求1.一種鎂合金對象的表面處理方法，包括以下步驟對一鎂合金基材施以一拉絲工藝，以形成至少一拉絲微結(jié)構(gòu)于該鎂合金基材的一表面上；以及對該鎂合金基材施以一第一化學(xué)氧化工藝，以形成一光澤膜于該鎂合金基材的該表面上，并且該光澤膜覆蓋住該拉絲微結(jié)構(gòu)。2.如權(quán)利要求1所述的鎂合金對象的表面處理方法，其特征在于，于該拉絲工藝的步驟之前，更包括有對該鎂合金基材施以一第二化學(xué)氧化工藝，以形成一氧化膜于該鎂合金基材的該表面上，該拉絲微結(jié)構(gòu)貫穿該氧化膜而于該鎂合金基材的該表面上成形。3.如權(quán)利要求2所述的鎂合金對象的表面處理方法，其特征在于，對該鎂合金基材施以該第二化學(xué)氧化工藝的步驟更包括對該鎂合金基材施以一第一水洗程序；對完成該第一水洗程序的該鎂合金基材施以一脫酸/脫酯程序；對完成該脫酸/脫酯程序的該鎂合金基材施以一第二水洗程序；對完成該第二水洗程序的該鎂合金基材施以一中和程序；對完成該中和程序的該鎂合金基材施以一第三水洗程序；對完成該第三水洗程序的該鎂合金基材施以一化學(xué)氧化程序；對完成該化學(xué)氧化程序的該鎂合金基材施以一第四水洗程序；以及對完成該第四水洗程序的該鎂合金基材施以一烘烤程序，以形成該氧化膜。4.如權(quán)利要求1所述的鎂合金對象的表面處理方法，其特征在于，對該鎂合金基材施以該拉絲工藝的步驟更包括對該鎂合金基材施以一拋光程序；對完成該拋光程序的該鎂合金基材施以一第一研磨程序；以及對完成該第一研磨程序的該鎂合金基材施以一第二研磨程序，以形成該拉絲微結(jié)構(gòu)。5.如權(quán)利要求4所述的鎂合金對象的表面處理方法，其特征在于，該拋光程序是以一羊毛輪或是一尼龍輪對該鎂合金基材進(jìn)行拋光。6.如權(quán)利要求4所述的鎂合金對象的表面處理方法，其特征在于，該第一研磨程序與該第二研磨程序是以一砂帶機(jī)對該鎂合金基材進(jìn)行研磨。7.如權(quán)利要求4所述的鎂合金對象的表面處理方法，其特征在于，該第一研磨程序所使用的砂帶粒度是相對大于該第二研磨程序所使用的砂帶粒度。8.如權(quán)利要求1所述的鎂合金對象的表面處理方法，其特征在于，于該第一化學(xué)氧化工藝的步驟之后，更包括有對該鎂合金基材施以至少一道上漆工藝，以形成至少一漆層于該光澤膜上。9.如權(quán)利要求8所述的鎂合金對象的表面處理方法，其特征在于，于該上漆工藝的步驟之后，更包括有對該鎂合金基材施以一消光工藝的步驟，以形成一消光膜于該漆層上。10.如權(quán)利要求9所述的鎂合金對象的表面處理方法，其特征在于，該消光工藝是以一消光劑涂覆于該漆層上，以形成該消光膜。11.如權(quán)利要求1所述的鎂合金對象的表面處理方法，其特征在于，該光澤膜是以一透明材料制成。12.—種鎂合金對象結(jié)構(gòu)，包括一鎂合金基材，具有一表面；至少一拉絲微結(jié)構(gòu)，成形于該鎂合金基材的該表面上；以及一光澤膜，設(shè)置于該鎂合金基材的該表面上，且該光澤膜覆蓋住該拉絲微結(jié)構(gòu)。13.如權(quán)利要求12所述的鎂合金對象結(jié)構(gòu)，其特征在于，更包括一氧化膜，設(shè)置于該鎂合金基材的該表面上，且該氧化膜介于該鎂合金基材與該光澤膜之間，該拉絲微結(jié)構(gòu)貫穿該氧化膜，并且成形于該鎂合金基材的該表面。14.如權(quán)利要求12所述的鎂合金對象結(jié)構(gòu)，其特征在于，更包括有至少一漆層，設(shè)置于該光澤膜上。15.如權(quán)利要求14所述的鎂合金對象結(jié)構(gòu)，其特征在于，更包括有一消光膜，設(shè)置于該漆層上。16.如權(quán)利要求15所述的鎂合金對象結(jié)構(gòu)，其特征在于，該消光膜的材質(zhì)為一消光劑。17.如權(quán)利要求12所述的鎂合金對象結(jié)構(gòu)，其特征在于，該光澤膜的材質(zhì)為一透明材料。全文摘要本發(fā)明公開一種鎂合金對象的表面處理方法及其結(jié)構(gòu)，以改良已知鎂合金表面處理程序?qū)嶋H上并非是針對鎂合金對象本身進(jìn)行表面處理的限制，以及改善已知鎂合金對象的表面處理工序過于繁復(fù)與制造成本過高等問題。該方法是直接對鎂合金基材施以拉絲工藝，以于鎂合金基材的表面上形成拉絲微結(jié)構(gòu)，接著對鎂合金基材施以化學(xué)氧化工藝，以于鎂合金基材的表面上形成光澤膜，且光澤膜覆蓋住拉絲微結(jié)構(gòu)，以構(gòu)成一鎂合金對象結(jié)構(gòu)?；蛘呤牵诶z工藝的步驟之前可先執(zhí)行另一化學(xué)氧化工藝，以于鎂合金基材的表面上形成氧化膜。文檔編號B24B1/00GK102463501SQ20101056593公開日2012年5月23日申請日期2010年11月18日優(yōu)先權(quán)日2010年11月18日發(fā)明者陳雋翔申請人:神基科技股份有限公司