專利名稱：一種表面薄膜沉積裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種表面處理裝置，尤其是一種表面薄膜沉積裝置。
背景技術：
進行表面鍍膜的處理(例如表面光學薄膜的鍍膜)，通常是采用如圖1的裝置完成的其中1是蒸鍍材料，2是裝有蒸鍍材料的坩堝，3是用于加熱產生電子束的加熱絲，4是蒸鍍材料的蒸汽，5是使蒸汽部分離子化的離子化絲，6是用于阻擋加熱絲及離子化絲熱量外溢的隔熱板，7是被蒸鍍表面，8是真空容器。然而上述裝置存在下述問題，即由于加熱絲和離子化絲產生高溫往往會導致加熱絲和離子化絲構成材料的一部分蒸發(fā)，并混入蒸鍍材料的蒸汽中成為雜質，從而最終造成功能薄膜純度降低，影響成膜質量。
發(fā)明內容本實用新型的目的即在于提供一種能夠有效防止蒸鍍材料的蒸汽中混入雜質的表面薄膜沉積裝置。本實用新型所采用的技術方案如下一種表面薄膜沉積裝置，其具有真空容器，內置于真空容器中的用于容納蒸鍍材料的坩堝，用于產生照射并加熱蒸鍍材料的激光束的激光輻照器，在坩堝與被沉積的基板之間設置用于施加加速離子化蒸汽的直流電壓的電源。本實用新型的有益效果是，由于采用了激光輻照器作為加熱源，從而避免了現(xiàn)有的以加熱絲作為加熱源產生的加熱源材料蒸發(fā)進入蒸鍍材料蒸汽中成為雜質的問題；同時，由于激光束必然會輻照到蒸鍍材料的蒸汽，從而使部分蒸汽離子化，也即激光輻照器同時發(fā)揮了加熱蒸鍍材料和離子化蒸鍍材料蒸汽的雙重作用；此外，設置了加速電源能夠提高沉積效率。

圖1是現(xiàn)有表面鍍膜裝置的結構示意圖；圖2是本實用新型的結構示意圖。
具體實施方式
以下結合附圖2，詳細描述本實用新型的表面薄膜沉積裝置，其具有真空容器9， 內置于真空容器9中的用于容納蒸鍍材料10的坩堝11，用于產生照射并加熱蒸鍍材料10 的激光束12的激光輻照器13，激光輻照器13與真空容器9外的激光發(fā)生器14連接，在坩堝11與被沉積的基板15之間設置用于施加加速離子化蒸汽的直流電壓的電源16。
權利要求1. 一種表面薄膜沉積裝置，其具有真空容器，內置于真空容器中的用于容納蒸鍍材料的坩堝，用于產生照射并加熱蒸鍍材料的激光束的激光輻照器，在坩堝與被沉積的基板之間設置用于施加加速離子化蒸汽的直流電壓的電源。
專利摘要一種表面薄膜沉積裝置，其具有真空容器，內置于真空容器中的用于容納蒸鍍材料的坩堝，用于產生照射并加熱蒸鍍材料的激光束的激光輻照器，在坩堝與被沉積的基板之間設置用于施加加速離子化蒸汽的直流電壓的電源；由于采用了激光輻照器作為加熱源，從而避免了現(xiàn)有的以加熱絲作為加熱源產生的加熱源材料蒸發(fā)進入蒸鍍材料蒸汽中成為雜質的問題；同時，由于激光束必然會輻照到蒸鍍材料的蒸汽，從而使部分蒸汽離子化，也即激光輻照器同時發(fā)揮了加熱蒸鍍材料和離子化蒸鍍材料蒸汽的雙重作用；此外，設置了加速電源能夠提高沉積效率。
文檔編號C23C14/28GK202099376SQ201120144750
公開日2012年1月4日 申請日期2011年5月6日 優(yōu)先權日2011年5月6日
發(fā)明者倪楊 申請人:寧波表面工程研究中心