本發(fā)明涉及分別如權(quán)利要求1和12的前序部分中所述的用于涂覆工件的組件以及方法。借助于這樣的組件，工件－基體－能夠在限定氣氛中被涂覆。這種組件的一種示例作為真空等離子噴涂（VPS）系統(tǒng)被引用。在這樣的系統(tǒng)中，借助于等離子噴涂器在實際上抽空的處理腔室“真空腔室”中涂覆工件。當必要時，適于涂覆過程的氣體（比如惰性氣體或者反應氣體）在處理腔室抽空之后排入該處理腔室內(nèi)。

背景技術(shù)：

為了除去在由涂覆射流（coating jet）涂覆工件期間引入處理腔室內(nèi)的氣體，已知組件中的氣體從處理腔室的一端虹吸去除。這種種類的組件具有如下缺點，即在設置于處理腔室中的操縱器上構(gòu)成非常高的熱應力的熱氣體導致處理腔室被未施加的涂覆粒子額外地臟污，即過噴涂。

為了阻止和/或疏導這種過噴涂物，公知的是在處理腔室中設置排氣罩。一個這樣的排氣罩通常設置在托盤（pallet）上方或后方。當排氣罩設置成靠近被涂覆工件或者甚至部分地包圍工件時，排氣罩尤其有效。然而，當組裝托盤時，能夠證明固定地設置在處理腔室中的排氣罩是妨礙。

從EP 1 013 791 A已知的是用于等離子噴涂系統(tǒng)的通用組件，其設有處理腔室和設置于其中的等離子噴涂器。收集軸豎直地設置在處理腔室下方。在從處理腔室到收集軸的過渡區(qū)域中，設置有包括多個流動偏轉(zhuǎn)擋板的偏轉(zhuǎn)器器件。等離子噴涂器設置在腔室中，使得其涂覆射流被引導向下朝向偏轉(zhuǎn)器器件。在這種組件中，氣體經(jīng)由收集腔室從處理腔室向下排放，同時清潔的氣體能夠經(jīng)由處理腔室頂部的另一導管返回。

從DE 600 03 558 T2已知的是用石英砂外包覆預制件的裝置，在后續(xù)步驟中，由該預制件產(chǎn)生光纖。裝置包括包含等離子腔室的外包覆設備。等離子腔室的特征在于用于去除熱空氣和硅酸蒸汽的排氣罩。兩個等離子炬設置在等離子腔室中。等離子炬用于使石英砂熔融，其經(jīng)由管狀噴射器引入等離子焰并熔化在其中。熔化的石英砂被施加到旋轉(zhuǎn)的預制件，直到獲得規(guī)定直徑。排氣罩在等離子腔室的頂部以便排出空氣和硅酸蒸汽。

DE 693 07 796 T2公開了用于借助于等離子噴涂涂覆基體的方法和裝置。圖2中明顯可見，裝置包括噴涂腔室，在噴涂腔室中等離子槍被固定到機器人臂。待涂覆的基體設置在轉(zhuǎn)臺上。為了應對（catch）過度涂覆，提供連接到集塵器的噴涂罩。噴涂罩設置在轉(zhuǎn)臺后方。

US 2,461,657A示出了帶有可旋轉(zhuǎn)臺和設置在臺后方的排氣罩的涂覆設備。能夠?qū)⒍鄠€工件安放在臺上。

DE 10 2004 037 808 A1中公開了一種抽吸組件，其罩螺栓連接至凸緣。

總之，DE 35 20 924 A1示出了一種等離子系統(tǒng)，其帶有真空罐和能夠行進進入和離開該罐的承載件裝置。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于產(chǎn)生一種通用于開始處所引用的領(lǐng)域的用于涂覆工件的組件，該組件中，一方面現(xiàn)在維持操縱器上的熱應力以及操縱器和真空罐的臟污最小化，同時另一方面，現(xiàn)在使得裝載和卸載托盤變得簡單。

權(quán)利要求1所述的特征限定實現(xiàn)該目標。根據(jù)本發(fā)明，用于引導氣體沿排氣端口的方向排出的排氣罩設置在處理腔室的內(nèi)部中，其中，至少排氣罩與托盤一起設置在可移動平臺上，借助于該平臺， 排氣罩與托盤一起能夠縮回罐中和從罐伸出，并且其中，排氣罩設置在平臺上，當平臺定位成縮回時，排氣罩連接到排氣端口。

排氣罩具有如下效果，即現(xiàn)在熱氣體與過噴涂物一起被直接導向排氣端口，同時可移動平臺促進組成和拆卸托盤。

因為現(xiàn)在借助于排氣罩引導氣體并且將氣體導至排氣端口，所以操縱器上的熱應力以及罐的臟污被最小化，從而導致在節(jié)省成本的情況下實現(xiàn)了高的涂覆性能?，F(xiàn)在排氣罩與托盤一起設置在可移動平臺上，借助于該平臺，排氣罩與托盤一起能夠從罐伸出和縮回罐內(nèi)，由于與工件處于罐內(nèi)的情況相比，托盤更易于在工件處于罐外側(cè)的情況下組裝，所以簡化了組裝和拆卸托盤。在一種優(yōu)選實施例中，排氣端口設置在處理腔室的頂部上。熱氣體現(xiàn)在能夠從處理腔室的頂部排放，以實現(xiàn)使操縱器上的熱應力最小化的優(yōu)點，尤其是因為在任意情況中熱氣體均傾向于上升。

優(yōu)選地，排氣罩設有面向涂覆裝置的端口。經(jīng)由該端口實現(xiàn)了氣體流入至排氣罩內(nèi)。

在另一優(yōu)選實施例中，用于聯(lián)接到排氣端口的連接凸緣在排氣罩的頂部。這種構(gòu)造使得將排氣罩聯(lián)接到排氣端口容易且簡單。

在特別優(yōu)選的實施例中，托盤被設計為設有用于固定地定位一個或多個工件的器件的轉(zhuǎn)臺，排氣罩設置成部能夠在平臺上旋轉(zhuǎn)?，F(xiàn)在這使得使附連到臺的工件相對于涂覆裝置旋轉(zhuǎn)成為可能，排氣罩的不能夠旋轉(zhuǎn)的設置確保排氣端口不相對于涂覆裝置改變。

在又一優(yōu)選實施例中，排氣罩相對于罐設置成使得待涂覆的工件可固定地放置在涂覆裝置和排氣罩的入口端口之間或者在托盤的臺上的入口端口后方的排氣罩中。這種設置實現(xiàn)了在工件涂覆期間涂覆射流指向排氣罩內(nèi)部的方向。

在進一步優(yōu)選的實施例中，提供了托盤的臺，其被構(gòu)造成安裝多個工件，所述工件沿圓環(huán)形的外部固定在恰當位置中，并且排氣罩設置成不可旋轉(zhuǎn)地且居中地在相應地圓環(huán)形外部內(nèi)的上方。這種構(gòu)造使得多個工件能夠在臺上固定在恰當位置，并且通過臺的旋轉(zhuǎn)一個接一個被涂覆，同時由于其端口不相對于涂覆裝置改變，因此確保了腔室指向排氣罩的內(nèi)部。

在另一特別優(yōu)選的實施例中，處理腔室由能夠借助于真空泵被抽空的罐形成。罐的生產(chǎn)是相對成本有效的，并且罐能夠容易地適應于任意特定要求。

在又一優(yōu)選實施例中，罐的一端被設計成門，平臺能夠經(jīng)由該門從罐伸出和縮回罐中。這樣的門形成大開口，能夠使平臺與排氣罩和托盤一起經(jīng)由該開口運動進出罐。

優(yōu)選地，平臺被可移動地安裝在軌道上以便行進，因此使平臺沿規(guī)定距離行進成為可能，從而提供構(gòu)成相對簡單和成本有效的技術(shù)方案的軌道。

在又一進一步的特別優(yōu)選的實施例中，軌道設置在處理腔室內(nèi)和外側(cè)，后一設置涉及軌道在處理腔室內(nèi)延伸的軌道豎直下方延伸，并且平臺的特征在于轉(zhuǎn)動機構(gòu)，該轉(zhuǎn)動機構(gòu)設有在從處理腔室伸出的平臺的延伸部上的輥，該轉(zhuǎn)動機構(gòu)向下轉(zhuǎn)動使得輥安置在設置在處理腔室外側(cè)的軌道上。由于處理腔室通常通過直立例如在支腳上而相對于車間地面稍微抬升，因此處理腔室的底部處于比車間地面更高的水平。在處理腔室內(nèi)和車間地面上設置有軌道以支撐或者引導平臺的情況中，軌道在不同水平延伸。借助于所要求的轉(zhuǎn)動機構(gòu)，能夠補償這種水平的差異，并且平臺也能夠?qū)⑵渥陨碇卧谔幚砬皇彝鈧?cè)延伸的軌道上。這種構(gòu)造現(xiàn)在使得不論水平的差異如何，平臺與設置在其上的元件都能一起延伸出罐外并且支撐在處理腔室外側(cè)成為可能。優(yōu)選地，轉(zhuǎn)動機構(gòu)被設計成使得其在平臺縮回時自動轉(zhuǎn)動向上。

本發(fā)明的另一目標涉及提出一種用于在如權(quán)利要求12的前序部分中所述的處理腔室中涂覆工件的方法，借助于該方法，操縱器上的熱應力被最小化，同時確保了過噴涂物的良好排出以及簡化組裝和拆卸托盤。

根據(jù)本發(fā)明，這通過以下特征實現(xiàn)：為了組裝和拆卸托盤，平臺與托盤和排氣罩一起從處理腔室延伸出，抬升當縮回平臺時，排氣罩聯(lián)接到排氣端口。因此，這簡化了在處理腔室外側(cè)組裝和拆卸托盤。此外，排氣罩能夠因此被設置成相對靠近托盤，這是因為當平臺伸出時后者能夠良好地通達。因為當平臺縮回時排氣罩聯(lián)接到排氣端口，所以也可能良好地排出過噴涂物。

優(yōu)選地，在工件涂覆期間，氣體經(jīng)由排氣罩和排氣端口從處理腔室排出。這使得能夠確保操縱器上的熱應力被最小化，原因在于氣體與過噴涂物一起被排出。

在方法的特別優(yōu)選的實施例中，待涂覆的工件設置在臺上，使得當涂覆每個工件時，用于涂覆工件的涂覆射流被引導成實際上水平或向上的。這導致所引導的氣流特別具有最小化處理腔室的臟污并且減小操縱器上的熱應力的優(yōu)點。

在另一特別優(yōu)選的實施例中，排氣最遲在涂覆過程開始時起作用，由此貫穿整個涂覆過程，在處理腔室中生成連續(xù)氣流。由于從涂覆裝置的頭部沿排氣端口的方向引導氣流，因此保證了未施加的涂層的任意顆粒的最佳排出。

附圖說明

現(xiàn)在將參考附圖詳細地討論本發(fā)明，附圖中：

圖1是穿過組件的第一示例實施例的剖視圖；

圖2是穿過如圖1所示的組件的另一剖視圖，并且其中處理腔室的門打開；

圖3是穿過組件的另一示例實施例的剖視圖；

圖4是圖3中所示的組件的部分的放大透視圖；

圖5是在涂覆期間圖3中所示的組件的視圖。

附圖中同樣的部件貫穿全文以同樣的附圖標記來標識。

具體實施方式

現(xiàn)在參考圖1，其示出了穿過組件的剖視圖，以及圖解地繪出的進一步的部件。組件包括呈罐1a的形式的處理腔室1，其一端由門2形成。排氣端口3處于罐1a頂部，該排氣端口3呈罐壁中的凸緣4的形式。凸緣4經(jīng)由第一排氣導管8并入導管12內(nèi)，該導管12相應地連接到過濾器裝置13。凸緣6插入與罐1a的門2相對的第二端5中，該凸緣6經(jīng)由第二排氣導管10并入連接到過濾器裝置13的導管12。真空泵14連接到過濾器裝置13。在第一排氣導管8以及第二排氣導管10兩者中分別包括截止閥9、11。附加凸緣7額外地處于罐1a的第二端5的頂部，在這種示例實施例中，該附加凸緣7不起作用，不過在替代性示例實施例中，其可以如之后具體描述的那樣采用。

此外，組件的特征還在于水平行進的平臺16，其能夠行進進出罐1a。操縱器24、托盤29和排氣罩33安裝在該平臺16上。操縱器24承載涂覆裝置25，涂覆裝置25設有生成涂覆射流的噴涂槍26。在這種示例中，涂覆裝置25是基于等離子噴涂器。未具體描述用于電源的線纜和用于處理等離子氣體和涂覆過程的布管。涂覆裝置25或者其噴涂槍26能夠借助于操縱器24三維地運動，使得能夠涂覆具有任意形狀或者表面的工件。

在本文中，每當提及排氣罩都旨在被理解為不僅是詞語的實際含義上的罩，而是術(shù)語排氣罩還代表用于偏轉(zhuǎn)、轉(zhuǎn)向、捕集、收集或引導的器件（借助于該器件能夠使氣體和/或未施加涂覆顆粒（過噴涂物）偏轉(zhuǎn)和/或轉(zhuǎn)向和/或捕集和/或收集和/或引導）中的任意種類的器件。

在軌道上在罐1a內(nèi)延伸的多個輥處于平臺16的底部，如下文具體描述的那樣。在圖1的視圖中，兩個前輥18中的僅一個明顯可見，借助于定位在平臺16的前端區(qū)域中的轉(zhuǎn)動機構(gòu)19，這兩個前輥18固定到平臺16，使得兩個前輥18能夠在罐1a之外的平臺16的延伸部上向下轉(zhuǎn)動成與在罐1a之前延伸的軌道21齊平。轉(zhuǎn)動機構(gòu)19在平臺從罐1a伸出的延伸部上自動鎖定在恰當位置。

以旋轉(zhuǎn)臺30的形式構(gòu)造的托盤29設置在平臺16上。臺30的頂部是緊固件（未示出），以便將一個或更多個工件（基體）固定在恰當位置。在所示示例中，工件32明顯在臺30上居中地固定在恰當位置。排氣罩33居中地設置在臺30上或上方，排氣罩33因為被設置成不可旋轉(zhuǎn)的所以不與臺30一起旋轉(zhuǎn)。部分地遮罩工件32的排氣罩33用于將涂覆射流疏導向工件32后方并沿排氣端口3的方向向上。在排氣罩33內(nèi)，可以提供用于使涂覆射流偏轉(zhuǎn)、轉(zhuǎn)向或捕集涂覆射流的擋板。排氣罩33設有端口35，其面向等離子噴涂器25或者操縱器24，同時形成涂覆射流的入口端口。經(jīng)由這個端口35，由噴涂槍26產(chǎn)生的涂覆射流和因此氣體能夠傾注入排氣罩33的內(nèi)部。

排氣罩33的下部34被構(gòu)造成矩形，其三個側(cè)面包圍工件32，同時第四側(cè)面形成端口35。排氣罩33的上部由管狀突出部36形成，該管狀突出部36的頂部是凸緣37，該凸緣37適應于排氣端口3的凸緣4。在如圖所示的平臺16的縮回狀態(tài)中，排氣端口3的凸緣4與排氣罩33的凸緣37一致，即，這兩個凸緣4、37彼此同軸地延伸。

在平臺16完全縮回的狀態(tài)中，兩個凸緣4、37之間存在例如在近似0.5-2 mm的范圍中的小間隙。優(yōu)選地，兩個凸緣4、37的特征在于帶有幾厘米的圓環(huán)寬度的圓環(huán)形端部，使得由于相對寬的間隙和因此涉及的節(jié)流作用，幾乎不經(jīng)由該間隙發(fā)生任何氣體進氣。當這兩個凸緣4、37之間仍存在微小間隙時，能夠認為排氣罩33聯(lián)接到排氣端口3。在任意情況下，排氣罩33和排氣端口3之間的聯(lián)接應該被理解為，氣體、過噴涂顆粒等能夠經(jīng)由排氣罩33傾注入排氣端口3內(nèi)，并從此被排出罐1a外。然而，如果希望在兩個凸緣4、37之間存在緊密或更緊密的密封時，存在可用于技術(shù)方案的各種選擇。比如，能夠?qū)⒛蜔釓椥悦芊饧迦胍粋€和/或另一個凸緣4、37的端部中。替代性地或者額外地，平臺16可以被設計成使得一旦完全縮回，其實現(xiàn)上升運動，從而導致兩個凸緣4、37彼此接觸。另一個替代性方案能夠涉及，平臺16在罐1a內(nèi)由軌道支撐，其中軌道從前向后略微傾斜，即從門2沿罐1a的內(nèi)部的方向傾斜，使得在縮回狀態(tài)中，排氣罩33的凸緣37的平臺16也相似地接觸以密封排氣端口3的凸緣4?？傊咕?、37的面向彼此的兩個端部也可以被構(gòu)造成傾斜的，使得只要平臺16被完全縮回，它們就彼此接觸。應該理解，上述示例不應被視為是決定性的。

現(xiàn)在參考圖2，其中示出了如圖1中所示的組件，不過罐1a的門2現(xiàn)在打開并且平臺16與設置在其上的元件操縱器24、涂覆裝置25、托盤29、工件32、排氣罩33一起從罐1a伸出。從該圖顯然可見的是，承載輥18的轉(zhuǎn)動機構(gòu)19向下轉(zhuǎn)動。輥18現(xiàn)在在設置在罐1a外側(cè)的軌道21上延伸。在門2打開并且平臺16伸出的情況下，用于涂覆的工件32能夠固定到托盤29的臺或者能夠移除已涂覆的工件。不過，平臺16的后部分繼續(xù)由罐1a內(nèi)的軌道支撐。優(yōu)選地，轉(zhuǎn)動機構(gòu)19被構(gòu)造成使得其在平臺16縮回時自動轉(zhuǎn)動向上。

現(xiàn)在參考圖3，其示出了穿過組件的替代性示例實施例的剖面。在該示例中，托盤29由圓臺30形成，圓臺30設有構(gòu)造成轉(zhuǎn)子的圓環(huán)形外部31，該外部31設計成安裝多個工件32、32a。臺包括構(gòu)造成定子的中部，排氣罩33設置在該中部中。排氣罩33相應地包括面向端口35的端口35。經(jīng)由這個端口，由噴涂槍26產(chǎn)生的氣體能夠傾注入排氣罩33的內(nèi)部并且被排出。擋板39布置在各個工件32、32a之間，如后文將具體描述的那樣。

現(xiàn)在參考圖4，其以放大示圖示出圖3中所示的組件的部分的透視圖。為此目的，平臺16的前部被示為處于伸出狀態(tài)。在該視圖中顯然的是，工件32、32a如何一致地均勻地分布在臺30的圓環(huán)形外部31上。此外，顯而易見到擋板39，其旨在防止無意地涂覆定位成靠近每個工件32的工件32a，即由偏轉(zhuǎn)的粉末顆粒無意涂覆。由于每個工件32、32a側(cè)面的兩個擋板39，涂覆射流沿排氣罩33的端口35的方向偏轉(zhuǎn)或疏導。同樣地顯然的是，凸緣37與其寬邊緣一起在排氣罩33的頂部。

現(xiàn)在參考圖5，示出在涂覆過程期間圖3中所示的組件。在工件32的涂覆期間，真空泵14運轉(zhuǎn)使得氣體與任意未施加的涂覆顆粒從罐1a經(jīng)由排氣罩33和第一排氣導管8被排出。優(yōu)選地，真空泵14最遲在實際涂覆過程開始時啟動，使得從開始時經(jīng)由排氣罩33排氣就起作用。為此目的，打開設置在第一排氣導管8中的截止閥9，同時關(guān)閉設置在第二截止閥9中的閥11。僅提示地示出從涂覆裝置25的噴涂槍26傾注的涂覆射流27。箭頭40象征排氣罩33內(nèi)的氣體流動。但是，在任意情況下，待涂覆工件32后方的涂覆射流27的氣體被排氣罩33攔截疏導，并且沿排氣端口3的方向轉(zhuǎn)向向上。

為了使罐1a的臟污最小化，在涂覆過程中注意的是，涂覆射流27被引導成盡可能接近水平，或者如果需要，稍稍引導向上，使得氣體與過噴涂物一起能夠直接通達排氣罩33。為了實現(xiàn)這種作用，待涂覆的工件32、32a設置在托盤的臺30上，使得在僅單一涂覆射流27被引導成水平的或稍稍向上的情況下也可能進行涂覆。將認識到，相應地調(diào)整了操縱器24的控制。

在該視圖中，也顯然可見多個輥17，借助于所述多個輥17，平臺16被支撐為在罐1a內(nèi)的軌道20上行進。由于設置在罐1a之前的軌道21在設置于罐1a中的軌道20下方延伸，因此兩個導輥18以先前操作中所描述的方式借助于轉(zhuǎn)動機構(gòu)19固定到平臺16，在該視圖中，平臺16被示為處于縮回狀態(tài)。

用如圖所示的組件涂覆的順序例如如下：在平臺16的伸出狀態(tài)下（圖2），至少一個待涂覆的工件32固定到托盤29的臺30，此后平臺16縮回處理腔室1內(nèi)，這能夠手動操作或者例如借助于電動馬達操作。當縮回平臺16時，排氣罩33的凸緣37前進到排氣端口3的凸緣4，使得這兩個凸緣4、37同軸地對齊，從而將排氣罩33連結(jié)到排氣端口3。此后，閉合罐1a的門2（圖1）并且借助于真空泵14抽空罐1a。能夠如指示的那樣借助于兩個截止閥9、11經(jīng)由第一排氣導管8和/或第二排氣導管10完成抽空。只要在罐1a中獲得特定的真空，例如1 mbar，則氣體，例如諸如氬的惰性氣體就傾注入罐1a內(nèi)直到到達例如50 mbar的最大壓力。未示出饋送這種惰性氣體所需的器件。在實際涂覆過程之前，可以加熱工件32，這可以例如借助于涂覆裝置25在使用射流（等離子射流）時完成。應該理解，只要正在加熱工件32，就沒有涂覆粉末傾入。

一旦工件32已被加熱，則能夠由如下步驟開始涂覆過程：由涂覆裝置25熔化優(yōu)選地如粉末那樣傾注的涂覆材料，并且借助于涂覆射流將涂覆材料施加到工件32。在涂覆過程期間，從罐1a經(jīng)由排氣端口3和第一排氣導管8排出氣體。為此目的，將排氣罩33定位和構(gòu)造成使得通常沿大略水平的方向離開涂覆裝置25的涂覆射流沿排氣端口3的方向向上偏轉(zhuǎn)，從而導致涂覆氣體以及還有未施加于工件的涂覆顆粒（過噴涂物）的向上的流。不過在任意情況下，只要涂覆正在進行，就由經(jīng)由排氣端口3的連續(xù)排氣維持氣體流。

總之，能夠強調(diào)的是，借助于所示組件，包括非常熱的氣體的過噴涂顆粒在工件32處被直接“收集”并且向上偏轉(zhuǎn)，在此它們經(jīng)由排氣端口3從罐1a排出。排出的過噴涂顆粒接著與熱氣體一起經(jīng)由排氣導管8傾注入過濾器裝置13中，其過濾出過噴涂顆粒，在必要的情況中，借助于多個過濾器（例如借助于粗過濾器和下游精細過濾器）過濾出過噴涂顆粒。以此方式，保持包括粉塵的大部分過噴涂顆粒以及熱氣體遠離操縱器24，因此，在運行操縱器24時能夠?qū)崿F(xiàn)在更長的時間段內(nèi)具有更好的性能。另一優(yōu)勢是，在涂覆過程期間，罐1a與操縱器24和其它元件平臺16、涂覆裝置25、臺30一起經(jīng)受更少的臟污。雖然排氣罩33設置成非?？拷蛘呔又杏谕斜P，但是可以自由地通達處于平臺的伸出位置的托盤，從而使得將托盤與待涂覆的工件快速組裝是簡單且容易的。

應該理解的是，參考附圖在上文描述的示例實施例完全不應該被視為是排他性的，而是許多不同構(gòu)造都是可能的，并且其均落入本專利權(quán)利要求中所限定的限度的范圍內(nèi)。因此，例如，擋板可以包括在排氣罩內(nèi)，其使得涂覆射流沿排氣端口方向向上偏轉(zhuǎn)。在必要的情況中，在替代性示例實施例中，可以例如僅提供一個伸出狀態(tài)。另一替代性方案可以涉及例如不在罐1a中包括排氣端口，而是在罐1a內(nèi)包括排氣端口，并且在伸出狀態(tài)下在罐1a內(nèi)部通向罐1a的第二端5頂部的附加凸緣7（圖1）。附加凸緣7之后將經(jīng)由導管連接到過濾器裝置。根據(jù)托盤29和相應地臺30的構(gòu)造和設置，排氣罩33也可以設置在門2上。代替具有矩形下部的排氣罩，下部也可以構(gòu)造成圓形。圓形下部優(yōu)選地構(gòu)造成使得其優(yōu)選地至少180°、更優(yōu)選地近似270°包圍工件，同時排氣罩的矩形設計中的工件優(yōu)選地在三個側(cè)面上被包圍。托盤例如也能夠以線性衛(wèi)星的形式構(gòu)造。