1.一種環(huán)狀工件的淬火方法，環(huán)狀工件由金屬形成，所述淬火方法的特征在于，包括：
加熱工序，將所述環(huán)狀工件(W1、W2)加熱至淬火溫度；
解析工序，取得被加熱至淬火溫度的所述環(huán)狀工件(W1、W2)的直徑尺寸，基于取得的所述直徑尺寸，將被加熱的所述環(huán)狀工件(W1、W2)至少區(qū)分為大徑部和小徑部；及
冷卻工序，對于通過所述解析工序至少區(qū)分為大徑部和小徑部的所述環(huán)狀工件(W1、W2)，以使所述大徑部與所述小徑部的尺寸差減小的方式，以不同的噴射條件向所述大徑部和所述小徑部噴射冷卻液。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的淬火方法，其中，
通過上述冷卻工序，使所述環(huán)狀工件(W1、W2)成為沒有不完全淬火組織的馬氏體組織。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的淬火方法，其中，
在所述冷卻工序中，以與所述大徑部的冷卻相比更促進所述小徑部的冷卻的方式調(diào)節(jié)所述冷卻液的噴射條件。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的淬火方法，其中，
在所述冷卻工序中，從所述環(huán)狀工件(W1、W2)的內(nèi)側(cè)及外側(cè)噴射冷卻液。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的淬火方法，其中，
在所述冷卻工序中，通過改變每單位時間的冷卻液的噴射量、冷卻液的噴射開始時期、及冷卻液的噴射角度中的至少一個來調(diào)節(jié)所述冷卻液的噴射條件。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的淬火方法，其中，
所述環(huán)狀工件(W1、W2)的直徑尺寸的取得基于激光位移傳感器的計測結(jié)果來進行。
7.一種環(huán)狀工件的淬火方法，環(huán)狀工件由金屬形成，所述淬火方法的特征在于，包括：
第一加熱工序，將所述環(huán)狀工件(W1、W2)加熱至該環(huán)狀工件(W1、W2)的應(yīng)力被釋放的溫度；
解析工序，取得被加熱至使應(yīng)力釋放的溫度的所述環(huán)狀工件(W1、W2)的直徑尺寸，基于取得的所述直徑尺寸，將被加熱的所述環(huán)狀工件(W1、W2)至少區(qū)分為大徑部和小徑部；
第二加熱工序，將通過所述解析工序至少區(qū)分為大徑部和小徑部的所述環(huán)狀工件(W1、W2)加熱至淬火溫度；及
冷卻工序，對于被加熱至淬火溫度的所述環(huán)狀工件(W1、W2)，以使所述大徑部與所述小徑部的尺寸差減小的方式，以不同的噴射條件向所述大徑部和所述小徑部噴射冷卻液。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的淬火方法，其中，
通過上述冷卻工序，使所述環(huán)狀工件(W1、W2)成為沒有不完全淬火組織的馬氏體組織。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的淬火方法，其中，
在所述冷卻工序中，以與所述大徑部的冷卻相比更促進所述小徑部的冷卻的方式調(diào)節(jié)所述冷卻液的噴射條件。
10.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的淬火方法，其中，
在所述冷卻工序中，從所述環(huán)狀工件(W1、W2)的內(nèi)側(cè)及外側(cè)噴射冷卻液。
11.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的淬火方法，其中，
在所述冷卻工序中，通過改變每單位時間的冷卻液的噴射量、冷卻液的噴射開始時期、及冷卻液的噴射角度中的至少一個來調(diào)節(jié)所述冷卻液的噴射條件。
12.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的淬火方法，其中，
所述環(huán)狀工件(W1、W2)的直徑尺寸的取得基于激光位移傳感器的計測結(jié)果來進行。