本發(fā)明涉及一種用于化學(xué)氣相沉積金剛石薄膜的真空反應(yīng)裝置，屬于金剛石薄膜的化學(xué)氣相沉積技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

化學(xué)氣相沉積(CVD)金剛石薄膜是利用在高溫條件下甲烷與氫氣的化學(xué)反應(yīng)，通過控制反應(yīng)條件，在襯底上生長出一層致密的金剛石薄膜的沉積過程。在反應(yīng)過程中，可以調(diào)整熱絲溫度、氣源的比例及濃度等一系列參數(shù)來改善得到的金剛石薄膜的質(zhì)量。由于該氣相沉積過程中沒有催化劑的參與，所以生成的金剛石其熱穩(wěn)定性更接近于天然金剛石。CVD金剛石薄膜還具有抗沖擊性強(qiáng)、耐磨性好、經(jīng)濟(jì)性好等優(yōu)勢。目前，將CVD金剛石薄膜沉積到刀具表面可以形成摩擦系數(shù)低、耐磨損、抗沖擊、形狀復(fù)雜、切屑不易粘接的刀具涂層。隨著現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展，微小型化技術(shù)的應(yīng)用有著越來越廣闊的前景。傳統(tǒng)的微刀具一般采用高速鋼或硬質(zhì)合金材料等，由于微刀具在銑削時(shí)的工作轉(zhuǎn)速非常高，可以達(dá)到幾萬甚至十幾萬轉(zhuǎn)每分鐘，因此傳統(tǒng)的微刀具通常表現(xiàn)出耐磨性差、刀具壽命短、加工質(zhì)量差等缺陷。在微刀具表面涂覆耐磨層是解決該問題的重要途徑。

CVD薄膜金剛石微刀具技術(shù)是當(dāng)前微細(xì)加工領(lǐng)域研究的熱點(diǎn)。在CVD金剛石薄膜微刀具的制備過程中，對(duì)于金剛石涂層微刀具的化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)有許多關(guān)鍵技術(shù)需要突破，目前在國內(nèi)還沒有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的商業(yè)化成型產(chǎn)品問世，從而導(dǎo)致CVD金剛石薄膜微刀具的成本居高不下?；瘜W(xué)氣相沉積金剛石薄膜的真空反應(yīng)室是該系統(tǒng)的核心裝置。目前，國內(nèi)外文獻(xiàn)中可以查閱到的化學(xué)氣相沉積真空反應(yīng)室存在著安裝空間龐大、材料浪費(fèi)程度高、反應(yīng)室內(nèi)真空度難以保證、加工工藝復(fù)雜、冷卻效果差等缺陷，而對(duì)于類似微刀具這樣的微小機(jī)械件不能實(shí)現(xiàn)其復(fù)雜表面的金剛石薄膜沉積。同時(shí)，真空反應(yīng)室又要求其具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能完備、便于安裝調(diào)試、可靠性好等基本特點(diǎn)。因而，研制采用化學(xué)氣相沉積的方法實(shí)現(xiàn)微刀具表面金剛石薄膜沉積裝置的真空反應(yīng)室，具有緊迫性和必要性。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是為了解決真空條件下CVD金剛石薄膜在微刀具上的沉積問題，進(jìn)而提供一種用于化學(xué)氣相沉積金剛石薄膜的緊湊型真空反應(yīng)裝置。

本發(fā)明提供的用于化學(xué)氣相沉積金剛石薄膜的緊湊型真空反應(yīng)裝置，具有真空度好、結(jié)構(gòu)緊湊、冷卻效果好的優(yōu)點(diǎn)。本發(fā)明在化學(xué)氣相沉積過程中，反應(yīng)室內(nèi)氣壓可控制在1Pa附近，進(jìn)水口流速為0.3m/s，導(dǎo)氣管的氣體出口流速為0.06m/s。

實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采取的技術(shù)方案如下：

一種用于化學(xué)氣相沉積金剛石薄膜的緊湊型真空反應(yīng)裝置，其組成包括真空計(jì)、針閥、上蓋、殼體、底座、電磁閥、紅外測溫儀、導(dǎo)氣管、導(dǎo)氣閥門、載物臺(tái)及三個(gè)觀察窗；所述的三個(gè)觀察窗分別是觀察窗一及兩個(gè)觀察窗二；

所述的殼體上端和下端分別與上蓋和底座可拆卸密封連接，由殼體、上蓋和底座組合構(gòu)成反應(yīng)室，所述的真空計(jì)固定在上蓋上表面，所述的真空計(jì)的檢測端緊密穿入上蓋上的通孔設(shè)置在殼體內(nèi)，所述的上蓋上固定有與殼體內(nèi)腔相通的管路，所述的針閥固定在上蓋的管路上，針閥與管路相通，上蓋上設(shè)置有觀察孔一，所述的觀察孔一處設(shè)置有觀察窗一，所述的觀察窗一固定在上蓋上表面，上蓋上設(shè)有多個(gè)冷水環(huán)槽，上蓋上設(shè)有導(dǎo)氣孔一；

殼體的側(cè)壁上設(shè)置有兩個(gè)觀察孔二，每個(gè)所述的觀察孔二處均設(shè)置有一個(gè)觀察窗二，所述的兩個(gè)觀察窗二固定在殼體的外側(cè)壁上，所述的紅外測溫儀緊鄰其中一個(gè)觀察窗二設(shè)置，底座上設(shè)有導(dǎo)氣孔二，所述的電磁閥固定在底座的導(dǎo)氣孔二處，電磁閥一端通過底座上的導(dǎo)氣孔二與反應(yīng)室相通，電磁閥另一端與真空泵相連；

所述的導(dǎo)氣管一端連接于進(jìn)氣箱，導(dǎo)氣管另一端緊密穿入上蓋上設(shè)有的導(dǎo)氣孔一通進(jìn)反應(yīng)室，導(dǎo)氣管上安裝有導(dǎo)氣閥門，所述的導(dǎo)氣閥門設(shè)置在反應(yīng)室的外部，所述的載物臺(tái)設(shè)置在反應(yīng)室內(nèi)并固定在底座上。

本發(fā)明相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)的有益效果是：

本發(fā)明的真空反應(yīng)裝置的反應(yīng)室具有結(jié)構(gòu)緊湊、氣密性好的特點(diǎn)；上蓋與殼體之間以及殼體與底座之間均采用凸環(huán)與環(huán)形限位槽相配合的結(jié)構(gòu)，保證了反應(yīng)室內(nèi)各部分的同心性，便于安裝；冷水槽殼體內(nèi)壁上加工有多個(gè)同軸的圓環(huán)形冷水槽，每相鄰兩個(gè)圓環(huán)形冷水槽共用的側(cè)壁上均加工有一個(gè)豁口二，冷水槽殼體的內(nèi)壁上豎直設(shè)置有一個(gè)水槽隔墻二，水槽隔墻二穿過所有的豁口二設(shè)置，且水槽隔墻二與每個(gè)豁口二之間形成一個(gè)水槽出水口，每相鄰兩個(gè)圓環(huán)形冷水槽的兩個(gè)水槽出水口錯(cuò)位設(shè)置，通過對(duì)多種方案的仿真及實(shí)驗(yàn)分析，本發(fā)明的殼體具有冷卻效果好、循環(huán)方式合理、縮短爐體冷卻時(shí)間的優(yōu)點(diǎn)；采用的導(dǎo)氣管則將氣流平緩引至反應(yīng)室的反應(yīng)區(qū)，提高了反應(yīng)效率，縮短了反應(yīng)時(shí)間，覆膜率可達(dá)到95％，保證了CVD金剛石薄膜表面質(zhì)量。本發(fā)明適用于微刀具或微構(gòu)件的金剛石表面CVD鍍膜過程。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的用于化學(xué)氣相沉積金剛石薄膜的緊湊型真空反應(yīng)裝置的整體結(jié)構(gòu)軸測圖；

圖2是殼體、導(dǎo)氣管、導(dǎo)氣閥門、沉積件微刀具及載物臺(tái)裝配的軸測圖；

圖3是殼體與上蓋和底座裝配的主剖視圖；

圖4是圖3的B處局部放大圖；

圖5是冷水槽殼體的軸測圖；

圖6是冷水槽殼體的展開圖；

圖7是冷水槽上蓋的軸測圖；

圖8是圖1的A處局部放大圖。

圖中，真空計(jì)1、針閥2、上蓋3、焊接上蓋3-1、冷水槽上蓋3-2、冷水環(huán)槽3-3、凸環(huán)一3-4、水槽隔墻一3-5、進(jìn)出水口3-6、環(huán)形限位槽一3-7、殼體4、焊接殼體4-1、冷水槽殼體4-2、圓環(huán)形冷水槽4-3、進(jìn)水孔4-4、出水孔4-5、水槽隔墻二4-6、水槽出水口4-7、外沿4-8、凸環(huán)二4-9、觀察窗5、觀察窗一5-1、觀察窗二5-2、底座6、電磁閥7、紅外測溫儀8、載物臺(tái)9、聚四氟乙烯密封圈10、導(dǎo)氣管11、導(dǎo)氣閥門12、沉積件微刀具13、真空泵14。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案作進(jìn)一步的說明，但并不局限于此，凡是對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，而不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的精神和范圍，均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍中。

具體實(shí)施方式一：如圖1～圖7所示，一種用于化學(xué)氣相沉積金剛石薄膜的緊湊型真空反應(yīng)裝置，其組成包括真空計(jì)1、針閥2、上蓋3、殼體4、底座6、電磁閥7、紅外測溫儀8、導(dǎo)氣管11、導(dǎo)氣閥門12、載物臺(tái)9及三個(gè)觀察窗5；所述的三個(gè)觀察窗5分別是觀察窗一5-1及兩個(gè)觀察窗二5-2；

所述的殼體4上端和下端分別與上蓋3和底座6可拆卸密封連接，由殼體4、上蓋3和底座6組合構(gòu)成反應(yīng)室，所述的真空計(jì)1(通過螺栓)固定在上蓋3上表面，所述的真空計(jì)1的檢測端緊密穿入上蓋3上的通孔設(shè)置在殼體4內(nèi)(真空計(jì)1用來觀測整個(gè)反應(yīng)空間中的真空度)，所述的上蓋3上固定有與殼體4內(nèi)腔相通的管路，所述的針閥2(作為控制反應(yīng)室內(nèi)腔與外界氣體交換速率的部件)(通過螺栓)固定在上蓋3的管路上，針閥2與管路相通(針閥2作為控制反應(yīng)室與外界氣體交換速率的部件，可進(jìn)行流量實(shí)時(shí)調(diào)節(jié))，上蓋3上設(shè)置有觀察孔一，所述的觀察孔一處設(shè)置有觀察窗一5-1(用于觀察整個(gè)化學(xué)氣相沉積反應(yīng)的進(jìn)程)，所述的觀察窗一5-1(通過CF法蘭一及多個(gè)螺栓)固定在上蓋3上表面，上蓋3上設(shè)有多個(gè)冷水環(huán)槽3-3(在冷水環(huán)槽3-3內(nèi)通冷卻水冷卻)，上蓋3上設(shè)有導(dǎo)氣孔一；

殼體4的側(cè)壁上設(shè)置有兩個(gè)觀察孔二，每個(gè)所述的觀察孔二處均設(shè)置有一個(gè)觀察窗二5-2，所述的兩個(gè)觀察窗二5-2(分別通過CF法蘭二及多個(gè)螺栓)固定在殼體4的外側(cè)壁上，所述的紅外測溫儀8緊鄰其中一個(gè)觀察窗二5-2設(shè)置(紅外測溫儀8用于測量反應(yīng)室內(nèi)的溫度，另一個(gè)觀察窗二5-2用于觀察實(shí)時(shí)的反應(yīng)狀態(tài))，底座6上設(shè)有導(dǎo)氣孔二，所述的電磁閥7(通過螺栓)固定在底座6的導(dǎo)氣孔二處，電磁閥7一端通過底座6上的導(dǎo)氣孔二與反應(yīng)室相通，電磁閥7另一端與真空泵14相連(電磁閥7負(fù)責(zé)反應(yīng)前抽真空。若在反應(yīng)過程中反應(yīng)室內(nèi)壓力超過3kPa，電磁閥7則將反應(yīng)室內(nèi)氣體抽走，保證安全)。

所述的導(dǎo)氣管11一端連接于進(jìn)氣箱，導(dǎo)氣管11另一端緊密穿入上蓋3上設(shè)有的導(dǎo)氣孔通進(jìn)反應(yīng)室(混合氣體從導(dǎo)氣管11通入，順著導(dǎo)氣管11流入到沉積件微刀具13上方)，導(dǎo)氣管11上安裝有導(dǎo)氣閥門12，所述的導(dǎo)氣閥門12設(shè)置在反應(yīng)室的外部(進(jìn)入反應(yīng)室內(nèi)的混合氣體流量通過導(dǎo)氣閥門12控制流量)，所述的載物臺(tái)9設(shè)置在反應(yīng)室內(nèi)并固定在底座6上。

沉積件微刀具13直接安裝在載物臺(tái)9上，在混合氣體(氫氣和甲烷)的作用下實(shí)現(xiàn)真空條件下的化學(xué)氣相沉積(經(jīng)過流場的仿真發(fā)現(xiàn)，和沒有導(dǎo)氣管相比，所設(shè)計(jì)的導(dǎo)氣管11可以使沉積件微刀具13附近的流場自上而下更分布均勻一些。同時(shí)在安裝位置上不影響上蓋3上的觀察窗一5-1的視野)；

導(dǎo)氣管11一端連接于進(jìn)氣箱，另一端通過爐蓋3上的導(dǎo)氣孔通進(jìn)反應(yīng)室，混合氣體(氫氣和甲烷)從導(dǎo)氣管11通入，順著導(dǎo)氣管11流入到沉積件微刀具13上方，通過導(dǎo)氣閥門12控制流量。

本實(shí)施方式中所使用的針閥2、電磁閥7、紅外測溫儀8及導(dǎo)氣閥門12均為市場采購件。

具體實(shí)施方式二：如圖1、圖3、圖4及圖7所示，具體實(shí)施方式一所述的一種用于化學(xué)氣相沉積金剛石薄膜的緊湊型真空反應(yīng)裝置，所述的上蓋3由焊接上蓋3-1和冷水槽上蓋3-2組成，所述的焊接上蓋3-1和冷水槽上蓋3-2均為圓盤形狀，焊接上蓋3-1的外徑小于冷水槽上蓋3-2的外徑，所述的冷水槽上蓋3-2的上表面加工有多個(gè)與冷水槽上蓋3-2同心的所述的冷水環(huán)槽3-3，每個(gè)冷水環(huán)槽3-3的里側(cè)壁上均設(shè)置有豁口一，每相鄰兩個(gè)冷水環(huán)槽3-3的豁口一相隔180°設(shè)置，冷水槽上蓋3-2的上表面設(shè)置有水槽隔墻一3-5，所述的水槽隔墻一3-5沿冷水槽上蓋3-2的徑向設(shè)置并將每個(gè)冷水環(huán)槽3-3一分為二，且水槽隔墻一3-5穿過多個(gè)冷水環(huán)槽3-3的豁口一中部并將每個(gè)豁口一分隔成兩個(gè)進(jìn)出水口3-6(上蓋3通過向冷水環(huán)槽3-3內(nèi)通入冷卻水冷卻)。

具體實(shí)施方式三：如圖1、圖3及圖4所示，具體實(shí)施方式二所述的一種用于化學(xué)氣相沉積金剛石薄膜的緊湊型真空反應(yīng)裝置，所述的冷水槽上蓋3-2上表面靠近外邊緣處設(shè)置有環(huán)形限位槽一3-7，所述的焊接上蓋3-1下表面的外周邊緣處設(shè)置有凸環(huán)一3-4，焊接上蓋3-1的凸環(huán)一3-4設(shè)置在冷水槽上蓋3-2的環(huán)形限位槽一3-7內(nèi)，且焊接上蓋3-1的凸環(huán)一3-4內(nèi)側(cè)面與冷水槽上蓋3-2的環(huán)形限位槽一3-7內(nèi)側(cè)槽面相配合(實(shí)現(xiàn)焊接上蓋3-1與冷水槽上蓋3-2同心)，冷水槽上蓋3-2的環(huán)形限位槽一3-7的槽寬大于焊接上蓋3-1的凸環(huán)一3-4的厚度，冷水槽上蓋3-2的環(huán)形限位槽一3-7的深度大于焊接上蓋3-1的凸環(huán)一3-4的高度(確保焊接上蓋3-1緊密扣合在冷水槽上蓋3-2上)，冷水槽上蓋3-2與焊接上蓋3-1焊接；焊接上蓋3-1和冷水槽上蓋3-2上開設(shè)有同軸的所述的觀察孔一，所述的觀察窗一5-1設(shè)置在焊接上蓋3-1上表面并位于觀察孔一處，觀察窗一5-1(通過CF法蘭一及多個(gè)螺栓)固定在焊接上蓋3-1上表面；焊接上蓋3-1和冷水槽上蓋3-2上分別開設(shè)有同軸的所述的通孔和所述的導(dǎo)氣孔一。

具體實(shí)施方式四：如圖1～圖3、圖5及圖6所示，具體實(shí)施方式一所述的一種用于化學(xué)氣相沉積金剛石薄膜的緊湊型真空反應(yīng)裝置，所述的殼體4由焊接殼體4-1和冷水槽殼體4-2組成，所述的焊接殼體4-1和冷水槽殼體4-2均為圓筒形狀，所述的冷水槽殼體4-2緊密套裝在焊接殼體4-1外側(cè)且二者焊接，所述的冷水槽殼體4-2的內(nèi)壁上加工有多個(gè)同軸的圓環(huán)形冷水槽4-3，冷水槽殼體4-2的側(cè)壁上設(shè)置有進(jìn)水孔4-4和出水孔4-5，所述的進(jìn)水孔4-4設(shè)置在多個(gè)圓環(huán)形冷水槽4-3中位于最底部的圓環(huán)形冷水槽4-3的槽底面上，所述的出水孔4-5設(shè)置在多個(gè)圓環(huán)形冷水槽4-3中位于最頂部的圓環(huán)形冷水槽4-3的槽底面上，每相鄰兩個(gè)圓環(huán)形冷水槽4-3共用的側(cè)壁上均加工有一個(gè)豁口二，冷水槽殼體4-2的內(nèi)壁上豎直設(shè)置有一個(gè)水槽隔墻二4-6，所述的水槽隔墻二4-6穿過所有的豁口二設(shè)置，且水槽隔墻二4-6與每個(gè)豁口二之間形成一個(gè)水槽出水口4-7，每相鄰兩個(gè)圓環(huán)形冷水槽4-3的兩個(gè)水槽出水口4-7錯(cuò)位設(shè)置。

在殼體4的冷水槽殼體4-2的內(nèi)壁上加工有多個(gè)圓環(huán)形冷水槽4-3(本實(shí)施方式為七個(gè)圓環(huán)形冷水槽4-3)，在每相鄰兩個(gè)圓環(huán)形冷水槽4-3共用的側(cè)壁上加工有一個(gè)豁口二，冷水槽殼體4-2的內(nèi)壁上豎直設(shè)置有一個(gè)水槽隔墻二4-6，所述的水槽隔墻二4-6穿過所有的豁口二設(shè)置，且水槽隔墻二4-6與每個(gè)豁口二之間形成一個(gè)水槽出水口4-7，每相鄰兩個(gè)圓環(huán)形冷水槽4-3的兩個(gè)水槽出水口4-7錯(cuò)位設(shè)置?？梢允姑總€(gè)圓環(huán)形冷水槽4-3內(nèi)的冷卻水按同一方向流動(dòng)，并使得每相鄰兩個(gè)圓環(huán)形冷水槽4-3內(nèi)的冷卻水流動(dòng)方向相反，從而增加了冷卻水的流動(dòng)路徑，該冷卻方案能夠高效地引導(dǎo)冷卻水的流動(dòng)。冷卻水由冷水機(jī)提供。

具體實(shí)施方式五：如圖3所示，具體實(shí)施方式一所述的一種用于化學(xué)氣相沉積金剛石薄膜的緊湊型真空反應(yīng)裝置，所述的殼體4的上端和下端分別設(shè)置有外沿4-8，上蓋3和底座6與殼體4之間的連接分別采用多個(gè)螺釘在圓周方向上均布的形式排列固定，將上蓋3和底座6與殼體4連接成一個(gè)封閉整體。

具體實(shí)施方式六：如圖3所示，具體實(shí)施方式五所述的一種用于化學(xué)氣相沉積金剛石薄膜的緊湊型真空反應(yīng)裝置，所述的殼體4的上端外沿4-8的上表面和下端外沿4-8的下表面分別設(shè)置有環(huán)形密封槽，每個(gè)所述的環(huán)形密封槽內(nèi)均設(shè)置有聚四氟乙烯密封圈10，殼體4與上蓋3和底座6分別通過聚四氟乙烯密封圈10密封(保證反應(yīng)室具有良好的氣密性)。

具體實(shí)施方式七：如圖3所示，具體實(shí)施方式六所述的一種用于化學(xué)氣相沉積金剛石薄膜的緊湊型真空反應(yīng)裝置，所述的殼體4下端設(shè)置有凸環(huán)二4-9，所述的底座6上表面設(shè)置有環(huán)形限位槽二，所述的殼體44的凸環(huán)二4-9設(shè)置在底座6的環(huán)形限位槽二內(nèi)(實(shí)現(xiàn)殼體4與底座6同心)，且殼體44的凸環(huán)二4-9外側(cè)面與底座6上表面設(shè)置有環(huán)形限位槽二的外側(cè)槽面相配合(實(shí)現(xiàn)殼體4與底座6同心)，底座6的環(huán)形限位槽二的槽寬大于殼體4的凸環(huán)二4-9的厚度，底座6的環(huán)形限位槽二的深度大于殼體4的凸環(huán)二4-9的高度(確保殼體4下端緊密設(shè)置在底座6的環(huán)形限位槽二內(nèi))。

具體實(shí)施方式八：如圖1所示，具體實(shí)施方式一所述的一種用于化學(xué)氣相沉積金剛石薄膜的緊湊型真空反應(yīng)裝置，所述的殼體4采用304不銹鋼制成(易于焊接)。

本發(fā)明的工作原理是：在真空反應(yīng)室里通入碳源氣體(甲烷)和氫氣的混合氣體，控制反應(yīng)室內(nèi)溫度在700℃～900℃之間，使混合氣體受熱先后產(chǎn)生原子態(tài)氫和激發(fā)態(tài)甲基，而后金剛石sp3雜化、C-C鍵形成，在微刀具或微構(gòu)件上沉積金剛石膜。

工作過程是：各部件安裝完成之后，確保各部分氣密性良好。啟動(dòng)水冷機(jī)向冷水槽殼體4-2的圓環(huán)形冷水槽4-3內(nèi)供水，打開真空泵14將反應(yīng)室內(nèi)的空氣抽出，讀取真空計(jì)1上檢測的氣壓值，維持在1Pa附近。之后通過導(dǎo)氣管11向反應(yīng)室內(nèi)通入氫氣和甲烷的混合氣體，調(diào)節(jié)導(dǎo)氣閥門12控制反應(yīng)速率。在金剛石薄膜的化學(xué)氣相沉積過程中，注意在三個(gè)觀察窗5外觀察反應(yīng)室內(nèi)的實(shí)時(shí)狀況，并用紅外測溫儀8，監(jiān)測反應(yīng)室內(nèi)的反應(yīng)溫度，控制在700℃～900℃之間，整個(gè)化學(xué)反應(yīng)過程大約持續(xù)6小時(shí)。

本發(fā)明的用于化學(xué)氣相沉積金剛石薄膜的緊湊型真空反應(yīng)裝置結(jié)構(gòu)緊湊，反應(yīng)室外輪廓直徑和高度均在300～400mm范圍內(nèi)；裝置的氣密性良好；反應(yīng)室是由殼體、底座及上蓋組成的圓筒狀平頂封閉容器，這種結(jié)構(gòu)具有加工容易、強(qiáng)度高、省材和焊縫少的優(yōu)點(diǎn)，并在選材上選用容易焊接和軋制的304不銹鋼，進(jìn)一步提升氣密性。此外，在設(shè)計(jì)過程中，上蓋與殼體間采用的環(huán)形限位槽一與凸環(huán)一相配合的結(jié)構(gòu)，保證了反應(yīng)室內(nèi)各部分的同心性，便于拆裝。