一種前開門式類金剛石碳膜沉積裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種前開門式類金剛石碳膜沉積裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]類金剛石碳膜(Diamond Like Carbon，DLC)是一種以sp3和sp2鍵的形式結(jié)合生成的亞穩(wěn)態(tài)材料，其不僅兼具了金剛石和石墨的優(yōu)良特性，還具有高硬度、高電阻率和良好光學(xué)性能，同時(shí)又具有自身獨(dú)特摩擦學(xué)特性，可廣泛用于機(jī)械、電子、光學(xué)、熱學(xué)、聲學(xué)和醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。
[0003]由于DLC是亞穩(wěn)態(tài)材料，在制備過程中需要荷能離子轟擊生長表面，通常，采用物理氣相沉積方法、化學(xué)沉積方法或等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(Plasma EnhancedChemical Vapor Deposit1n,PECVD)方法進(jìn)行制備，而PECVD方法由于沉積速率快、成膜質(zhì)量好，被廣泛應(yīng)用于DLC的制備。沉積裝置在制備DLC的過程中會(huì)出現(xiàn)沉積物垃圾，沉積物垃圾在沉積裝置的底部積累，若不及時(shí)清理干凈，沉積物垃圾將會(huì)影響下一次沉積。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)在清理沉積物垃圾時(shí)，首先將真空室的上蓋升起，接著將真空吸頭從真空室的上方伸入到真空室的底部，對(duì)底部的沉積物垃圾進(jìn)行清理，由于真空吸頭往往不方便拐彎，因此，在清理真空室底部的沉積物垃圾時(shí)，清掃難度大，存在清理不徹底的問題，難以將沉積物垃圾清理干凈，影響下一次沉積。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明通過提供一種前開門式類金剛石碳膜沉積裝置，解決了現(xiàn)有技術(shù)中難以清理位于沉積裝置底部的沉積物垃圾的技術(shù)問題。
[0006]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種前開門式類金剛石碳膜沉積裝置，包括真空室、門體、陽極靶、陰極靶、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和抽真空裝置；
[0007]所述真空室的上蓋與所述真空室的室底相對(duì)，所述真空室的側(cè)壁連接所述上蓋和所述室底，以形成一腔室；
[0008]所述側(cè)壁上開設(shè)有一開口；
[0009]所述門體與所述真空室連接，用于蓋設(shè)于所述開口；
[0010]所述陽極靶和所述陰極靶設(shè)置在所述真空室的內(nèi)部，且，所述陽極靶與所述陰極靶相對(duì)設(shè)置，所述陰極靶位于所述室底與所述陽極靶之間；
[0011 ]所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)穿過所述室底與所述陰極靶相連；
[0012]所述抽真空裝置與所述真空室連通。
[0013]優(yōu)選的，所述門體上具有一探視窗。
[0014]優(yōu)選的，所述門體呈方形或圓形。
[0015]優(yōu)選的，還包括升降機(jī)構(gòu)；
[0016]所述升降機(jī)構(gòu)與所述上蓋相連。
[0017]優(yōu)選的，所述升降機(jī)構(gòu)為電動(dòng)升降機(jī)構(gòu)或液壓升降機(jī)構(gòu)。
[0018]優(yōu)選的，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為電機(jī)。
[0019]優(yōu)選的，還包括調(diào)節(jié)閥；
[0020]所述調(diào)節(jié)閥設(shè)置在所述抽真空裝置與所述真空室連通處。
[0021]優(yōu)選的，所述調(diào)節(jié)閥為可調(diào)電動(dòng)閥。
[0022]優(yōu)選的，所述抽真空裝置為分子栗。
[0023]本發(fā)明實(shí)施例中的一個(gè)或多個(gè)技術(shù)方案，至少具有如下技術(shù)效果或優(yōu)點(diǎn):
[0024]本申請(qǐng)?jiān)谡婵帐业膫?cè)壁上設(shè)置門體，在需要清理沉積物垃圾時(shí)，打開門體，將真空吸頭從真空室的側(cè)壁伸到內(nèi)部進(jìn)行清掃，真空吸頭不再需要拐彎，易于清理底部的沉積物垃圾，清理徹底，不會(huì)污染下一次的沉積過程。
【附圖說明】
[0025]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。
[0026]圖1為本發(fā)明實(shí)施例中一種前開門式類金剛石碳膜沉積裝置的立體圖；
[0027]圖2為圖1中的所述前開門式類金剛石碳膜沉積裝置的剖面圖；
[0028]圖3為本發(fā)明實(shí)施例中增設(shè)電場平衡機(jī)構(gòu)后前開門式類金剛石碳膜沉積裝置的剖面圖。
[0029]其中，I為真空室，101為上蓋，2為門體，3為陽極靶，4為陰極靶，5為驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，6為抽真空裝置，7為連接通道，8為機(jī)架，9為探視窗，10為升降機(jī)構(gòu)，11為電場平衡機(jī)構(gòu)。
【具體實(shí)施方式】
[0030]為解決現(xiàn)有技術(shù)中難以清理位于沉積裝置底部的沉積物垃圾的技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種前開門式類金剛石碳膜沉積裝置，通過在真空室的側(cè)壁上設(shè)置門體，在需要清理沉積物垃圾時(shí)，打開側(cè)壁上的門體，將真空吸頭從真空室的側(cè)壁伸到內(nèi)部進(jìn)行清掃，真空吸頭不再需要拐彎，易于清理底部的沉積物垃圾，清理徹底，不會(huì)污染下一次的沉積過程。
[0031]為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0032]本發(fā)明實(shí)施例提供一種前開門式類金剛石碳膜沉積裝置，如圖1和圖2所示，所述裝置包括真空室1、門體2、陽極靶3、陰極靶4、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)5、抽真空裝置6、連接通道7和機(jī)架8。真空室I放置于機(jī)架8上，真空室I的上蓋101與真空室I的室底相對(duì)，真空室I的側(cè)壁連接上蓋101和室底，以形成一腔室。真空室I的側(cè)壁上開設(shè)有一開口，門體2在開口處與真空室I連接，用于蓋設(shè)開口，陽極靶3和陰極靶4均設(shè)置在真空室I的內(nèi)部，陽極靶3與陰極靶4相對(duì)設(shè)置，陰極靶4位于真空室I的室底與陽極靶3之間。驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)5穿過真空室I的室底與陰極靶4相連。抽真空裝置6與真空室I連通，具體的，抽真空裝置6通過連接通道7與真空室I連通。其中，抽真空裝置6為分子栗。
[0033]本申請(qǐng)?jiān)谡婵帐邑膫?cè)壁上設(shè)置門體2，在需要清理沉積物垃圾時(shí)，打開側(cè)壁上的門體2，將真空吸頭從真空室I的側(cè)壁伸到內(nèi)部進(jìn)行清掃，真空吸頭不再需要拐彎，易于清理底部的沉積物垃圾，清理徹底，不會(huì)污染下一次沉積過程。
[0034]通常，真空室I為圓柱體，在本申請(qǐng)中，門體2的形狀不受開口的限制，只要門體2在與真空室I連接后，在關(guān)門時(shí)能夠保證真空室I封閉即可。門體2的形狀可以為方形，也可以為圓形。另外，優(yōu)選的，門體2的材料與真空室I的材料相同。
[0035]為方便隨時(shí)觀察真空室I內(nèi)的反應(yīng)狀態(tài)，以及觀察真空室I內(nèi)沉積物垃圾的積累程度，門體2上設(shè)置有一探視窗9，探視窗9的形狀同樣不受門體2的形狀的限制，當(dāng)門體