本發(fā)明涉及回轉窯，尤其是一種金屬粉末氣體還原設備。

背景技術：

在工業(yè)生產(chǎn)中，可采用一氧化碳、氫氣等還原性氣體在回轉窯內(nèi)對還原金屬粉末，但是在回轉窯內(nèi)還原氣體無法與物料充分接觸，往往會造成還原不充分的現(xiàn)象。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明所要解決的技術問題是提供一種使還原氣體與物料充分接觸的金屬粉末氣體還原設備。

本發(fā)明公開的金屬粉末氣體還原設備，包括回轉窯，所述回轉窯包括同軸設置內(nèi)筒體和外筒體，所述內(nèi)筒體位于外筒體內(nèi)，所述內(nèi)筒體與外筒體之間留有間隙形成氣流通道，并在兩端設置有轉動密封件使氣流通道形成密封空間，所述內(nèi)筒體的兩端延伸出外筒體，并且內(nèi)筒體延伸出外筒體的部分連接有用于驅動內(nèi)筒體轉動的驅動機構，所述外筒體上連接有還原氣體入口，所述還原氣體入口與氣流通道相連通，所述內(nèi)筒壁上均勻設置有出氣孔，所述出氣孔一側設置有蓋板，所述蓋板延伸并完全覆蓋于出氣孔上方，所述內(nèi)筒體的轉動方向與蓋板的延伸方向相反，所述內(nèi)筒體一端設置有原料入口，另一端設置有產(chǎn)品出口。

優(yōu)選地，所述內(nèi)筒體兩端采用同一驅動機構驅動。

優(yōu)選地，所述轉動密封件為迷宮式摩擦體。

本發(fā)明的有益效果是：該金屬粉末氣體還原設備的還原氣體在內(nèi)筒體與外筒體之間從均布于內(nèi)筒壁上的出氣孔進入回轉窯內(nèi)，從而保證了接觸的充分性，提高了反應效率和反應的徹底程度。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的結構簡圖；

圖2是本發(fā)明中出氣孔的示意圖。

圖2中箭頭表示內(nèi)筒轉動方向。

附圖標記：內(nèi)筒體1，外筒體2，出氣孔3，還原氣體入口4，轉動密封件5，驅動機構6，蓋板7。

具體實施方式

下面對本發(fā)明進一步說明。

本發(fā)明公開的金屬粉末氣體還原設備，包括回轉窯，所述回轉窯包括同軸設置內(nèi)筒體1和外筒體2，所述內(nèi)筒體1位于外筒體2內(nèi)，所述內(nèi)筒體1與外筒體2之間留有間隙形成氣流通道，并在兩端設置有轉動密封件5使氣流通道形成密封空間，轉動密封件5優(yōu)選采用迷宮式摩擦體。所述內(nèi)筒體1的兩端延伸出外筒體2，并且內(nèi)筒體1延伸出外筒體2的部分連接有用于驅動內(nèi)筒體1轉動的驅動機構6，所述外筒體2上連接有還原氣體入口4，所述還原氣體入口4與氣流通道相連通，所述內(nèi)筒壁上均勻設置有出氣孔3，所述出氣孔3一側設置有蓋板7，所述蓋板7延伸并完全覆蓋于出氣孔3上方，所述內(nèi)筒體1的轉動方向與蓋板7的延伸方向相反，所述內(nèi)筒體1一端設置有原料入口，另一端設置有產(chǎn)品出口。

待還原的金屬物料從原料入口進入內(nèi)筒內(nèi)加熱，還原氣體則通過均勻進入內(nèi)筒內(nèi)，如圖2所示，蓋板7延伸并完全覆蓋于出氣孔3上方且內(nèi)筒體1的轉動方向與蓋板7的延伸方向相反可以有效防止金屬粉末進入外筒內(nèi)。內(nèi)筒體1兩端可采用同一驅動機構6驅動，也可采用不同的驅動機構6驅動，但是必須保證驅動的同步性。

回轉窯優(yōu)選為電加熱回轉窯，電加熱回轉窯外部加熱，還原氣體在外筒內(nèi)可以被充分加熱后直接進入內(nèi)筒進行反應，可以有效提高反應效率。