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      一種連續(xù)制備二維納米薄膜的裝置的制作方法

      文檔序號:12179735閱讀:281來源:國知局
      一種連續(xù)制備二維納米薄膜的裝置的制作方法

      本實用新型是一種連續(xù)制備二維納米薄膜的裝置,屬于制備二維納米薄膜領(lǐng)域。



      背景技術(shù):

      目前,化學(xué)氣相沉積法以及碳偏析法是大面積制備二維納米薄膜如石墨烯薄膜的技術(shù)方法,采用這兩種方法制備二維納米薄膜的設(shè)備基本上都是石英管高溫爐。基于石英管的高溫爐僅具備在已有金屬催化層上合成二維納米薄膜的單一功能,即不能先后連續(xù)對襯底材料的表面進行處理,在襯底上制備合成二維納米薄膜所需的催化層和之后的二維納米薄膜的合成。并且,采用石英管式爐合成的二維納米薄膜如石墨烯的電子傳輸性能與機械剝離法制備的具有完美晶體結(jié)構(gòu)的石墨烯的電子傳輸相比還相差很大,這種差異,主要來自于合成石墨烯使用的管式爐設(shè)備-熱場梯度的存在,含碳?xì)庠捶植疾痪葘?dǎo)致管式爐不能大面積制備均勻的石墨烯薄膜,已經(jīng)嚴(yán)重制約了二維納米薄膜如石墨烯薄膜技術(shù)的進一步發(fā)展。

      現(xiàn)有設(shè)備不適合大面積制備如石墨烯等均勻的二維納米薄膜。



      技術(shù)實現(xiàn)要素:

      針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足,本實用新型目的是提供一種連續(xù)制備二維納米薄膜的裝置,以解決現(xiàn)有設(shè)備不適合大面積制備如石墨烯等均勻的二維納米薄膜等問題。

      為了實現(xiàn)上述目的,本實用新型是通過如下的技術(shù)方案來實現(xiàn):一種連續(xù)制備二維納米薄膜的裝置,其結(jié)構(gòu)包括:腳架、底座、機架、殼體、電氣箱、調(diào)節(jié)面板、平臺、氣體接口、制備裝置、進料口、觀察窗、傳送 裝置、真空裝置、顯示屏、控制面板、出料箱;所述腳架固定連接于底座下,所述底座上固定連接有機架,所述機架外設(shè)有殼體,所述底座上設(shè)有電氣箱,所述底座上設(shè)有出料箱,所述電氣箱上設(shè)有調(diào)節(jié)面板,所述電氣箱上設(shè)有顯示屏,所述電氣箱上設(shè)有控制面板,所述機架上設(shè)有平臺,所述平臺上設(shè)有制備裝置,所述制備裝置上設(shè)有氣體接口,所述制備裝置上設(shè)有進料口,所述制備裝置上設(shè)有觀察窗,所述制備裝置上設(shè)有傳送裝置,所述制備裝置上設(shè)有真空裝置,所述制備裝置由處理腔室、加熱裝置、平衡腔室、閥、薄膜制備腔室組成。

      進一步地,所述調(diào)節(jié)面板設(shè)于殼體上。

      進一步地,所述顯示屏設(shè)于殼體上。

      進一步地,所述控制面板設(shè)于殼體上。

      進一步地,所述電氣箱、調(diào)節(jié)面板、制備裝置、傳送裝置、真空裝置、顯示屏、控制面板通過導(dǎo)線連接。

      進一步地,所述加熱裝置設(shè)于處理腔室內(nèi)。

      進一步地,所述處理腔室與平衡腔室之間設(shè)有閥。

      進一步地,所述平衡腔室之間薄膜制備腔室設(shè)有閥。

      本實用新型的有益效果:具有連續(xù)制備二維納米薄膜的特點,可以大面積、規(guī)模化制備如石墨烯、過鍍金屬硫化物、硅烯、鍺烯或氮化硼等二維納米薄膜,適應(yīng)于產(chǎn)業(yè)化發(fā)展,有助于實現(xiàn)二維納米薄膜技術(shù)的產(chǎn)業(yè)化,設(shè)有的觀察窗可查看制備的實時過程。

      附圖說明

      通過閱讀參照以下附圖對非限制性實施例所作的詳細(xì)描述,本實用新型的其它特征、目的和優(yōu)點將會變得更明顯:

      圖1為本實用新型一種連續(xù)制備二維納米薄膜的裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;

      圖2為本實用新型一種連續(xù)制備二維納米薄膜的裝置的制備裝置結(jié)構(gòu)示意圖;

      圖中:腳架-1、底座-2、機架-3、殼體-4、電氣箱-5、調(diào)節(jié)面板-6、平臺-7、氣體接口-8、制備裝置-9、進料口-10、觀察窗-11、傳送裝置-12、真空裝置-13、顯示屏-14、控制面板-15、出料箱-16、處理腔室-901、加熱裝置-902、平衡腔室-903、閥-904、薄膜制備腔室-905。

      具體實施方式

      為使本實用新型實現(xiàn)的技術(shù)手段、創(chuàng)作特征、達成目的與功效易于明白了解,下面結(jié)合具體實施方式,進一步闡述本實用新型。

      請參閱圖1與圖2,本實用新型提供一種技術(shù)方案:一種連續(xù)制備二維納米薄膜的裝置,其結(jié)構(gòu)包括:腳架1、底座2、機架3、殼體4、電氣箱5、調(diào)節(jié)面板6、平臺7、氣體接口8、制備裝置9、進料口10、觀察窗11、傳送裝置12、真空裝置13、顯示屏14、控制面板15、出料箱16;所述腳架1固定連接于底座2下,所述底座2上固定連接有機架3,所述機架3外設(shè)有殼體4,所述底座2上設(shè)有電氣箱5,所述底座2上設(shè)有出料箱16,所述電氣箱5上設(shè)有調(diào)節(jié)面板6,所述電氣箱5上設(shè)有顯示屏14,所述電氣箱5上設(shè)有控制面板15,所述機架3上設(shè)有平臺7,所述平臺7上設(shè)有制備裝置9,所述制備裝置9上設(shè)有氣體接口8,所述制備裝置9上設(shè)有進料口10,所述制備裝置9上設(shè)有觀察窗11,所述制備裝置9上設(shè)有傳送裝置12,所述制備裝置9上設(shè)有真空裝置13,所述制備裝置9由處理腔室901、加熱裝置902、平衡腔室903、閥904、薄膜制備腔室905組成,所述調(diào)節(jié)面板6設(shè)于殼體4上,所述顯示屏14設(shè)于殼體4上,所述控制面板15設(shè)于殼體4上,所述電氣箱5、調(diào)節(jié)面板6、制備裝置9、傳送裝置12、真空裝置13、顯示屏14、控制面板15通過導(dǎo)線連接,所述加熱裝置902設(shè)于處理腔室901內(nèi),所述處理腔室901與平衡腔室903之間設(shè)有閥904,所述平衡腔室903之間薄膜制備腔室905設(shè)有閥904。

      在進行使用時,通過氣體接口8接上氣管,通入電源,通過控制面板15打開電源開關(guān),通過進料口10將材料放進去,通過調(diào)節(jié)面板6調(diào)節(jié)裝置 的參數(shù)至合適值,通過控制面板15控制制備裝置9開始工作,通過傳送裝置12對該設(shè)備進行連續(xù)制備,通過觀察窗11可查看制備的實時過程,通過出料箱16可取出制備好的薄膜。

      以上顯示和描述了本實用新型的基本原理和主要特征和本實用新型的優(yōu)點,對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言,顯然本實用新型不限于上述示范性實施例的細(xì)節(jié),而且在不背離本實用新型的精神或基本特征的情況下,能夠以其他的具體形式實現(xiàn)本實用新型。因此,無論從哪一點來看,均應(yīng)將實施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本實用新型的范圍由所附權(quán)利要求而不是上述說明限定,因此旨在將落在權(quán)利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有變化囊括在本實用新型內(nèi)。不應(yīng)將權(quán)利要求中的任何附圖標(biāo)記視為限制所涉及的權(quán)利要求。

      此外,應(yīng)當(dāng)理解,雖然本說明書按照實施方式加以描述,但并非每個實施方式僅包含一個獨立的技術(shù)方案,說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見,本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說明書作為一個整體,各實施例中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合,形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實施方式。

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