本實(shí)用新型涉及用于磨削或拋光的機(jī)床、裝置或工藝的技術(shù)領(lǐng)域，具體是一種單面研磨、拋光陶瓷盤定位裝置。

背景技術(shù)：

在使用單面研磨、拋光機(jī)過程中，在安放陶瓷盤時(shí)會(huì)出現(xiàn)不能一次性放到位的情況，上定盤需下降上升反復(fù)調(diào)整位置，影響加工效率并存在安全隱患。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種在安裝前就能對(duì)陶瓷盤進(jìn)行定位的單面研磨、拋光陶瓷盤定位裝置。

為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提供了一種單面研磨、拋光陶瓷盤定位裝置，所述定位裝置中下研磨盤的中心處開設(shè)圓形口，在該下研磨盤的圓形口下方設(shè)有升降氣缸，所述氣缸上安裝定位塊；

所述定位塊呈圓盤狀，在該定位塊側(cè)壁形成與陶瓷盤的側(cè)壁相匹配的凹面，該定位塊的外徑小于所述下研磨盤的圓形口的口徑，所述定位塊在所述下研磨盤的圓形口內(nèi)形成相對(duì)滑動(dòng)。

優(yōu)選地，所述的定位塊上形成的凹面的個(gè)數(shù)為四個(gè)，這四個(gè)凹面沿所述定位塊的側(cè)壁均布。

優(yōu)選地，所述的定位塊的中心處設(shè)有與所述升降氣缸的頭部相匹配的安裝孔。

優(yōu)選地，所述的定位塊與升降氣缸固定連接。

在研磨盤中心位置安裝與陶瓷盤弧度一致的定位塊，此定位塊可上下升降，在使用時(shí)按按鈕可升起，安放時(shí)將四塊陶瓷盤分別放入定位塊側(cè)壁的對(duì)應(yīng)位置內(nèi)，安放好后按按鈕降下裝置，上定盤就可以放下使用了。

本實(shí)用新型的有益效果是，在原有設(shè)備上安裝一個(gè)定位塊，定位塊在安裝時(shí)已進(jìn)行方向定位，在安放陶瓷盤時(shí)只需將陶瓷盤推送到定位塊區(qū)域。這樣可一次性定位直接放下上定盤鎖定就可加工。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型中定位塊的結(jié)構(gòu)示意圖。

其中：

1-下研磨盤 2-定位塊 3-陶瓷盤

4-升降氣缸 5-凹面

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步說明。

實(shí)施例1：

如圖1、2所示的一種單面研磨、拋光陶瓷盤定位裝置，所述定位裝置中下研磨盤1的中心處開設(shè)圓形口，在該下研磨盤1的圓形口下方設(shè)有升降氣缸4，所述氣缸4上安裝定位塊2；

所述定位塊2呈圓盤狀，在該定位塊2側(cè)壁形成與陶瓷盤的側(cè)壁相匹配的凹面5，該定位塊2的外徑小于所述下研磨盤1的圓形口的口徑，所述定位塊2在所述下研磨盤1的圓形口內(nèi)形成相對(duì)滑動(dòng)。

所述的定位塊2上形成的凹面5的個(gè)數(shù)為四個(gè)，這四個(gè)凹面5沿所述定位塊2的側(cè)壁均布。

所述的定位塊2的中心處設(shè)有與所述升降氣缸4的頭部相匹配的安裝孔。

所述的定位塊2與升降氣缸4固定連接。

以上已對(duì)本實(shí)用新型創(chuàng)造的較佳實(shí)施例進(jìn)行了具體說明，但本實(shí)用新型創(chuàng)造并不限于所述的實(shí)施例，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員在不違背本實(shí)用新型創(chuàng)造精神的前提下還可以作出種種的等同的變型或替換，這些等同變型或替換均包含在本申請(qǐng)權(quán)利要求所限定的范圍內(nèi)。