本發(fā)明涉及研磨用組合物及其制造方法以及磁研磨方法

背景技術(shù)：

作為以高精度對材料的表面進(jìn)行精加工的研磨方法(例如鏡面精加工)，已知有磁研磨方法。磁研磨方法為使用在磁性流體、磁粘滯性流體、磁性混合流體等在磁場中會發(fā)生反應(yīng)的功能性流體中混合非磁性的研磨顆粒而得到的漿料作為研磨用組合物的研磨方法，對研磨用組合物施加磁場而形成磁粒簇，使磁粒簇作為研磨工具接觸研磨對象物，由此進(jìn)行研磨。

例如專利文獻(xiàn)1中公開了使用含有磁性顆粒、研磨顆粒、用于使膠體尺寸的顆粒穩(wěn)定的穩(wěn)定劑、用于調(diào)節(jié)粘性的添加劑、及載體流體的研磨用組合物的磁研磨方法。另外，專利文獻(xiàn)2中公開了使用顆粒分散型混合功能性流體作為研磨用組合物的磁研磨方法。

但是，對于專利文獻(xiàn)1、2中公開的研磨用組合物，作為磁性顆粒的鐵粉會因與水的接觸等而在研磨用組合物中氧化，因此有研磨用組合物的研磨性能經(jīng)時降低的問題。另外，會由于鐵粉的氧化而產(chǎn)生氫氣，因此在安全性方面也存在問題。

專利文獻(xiàn)3、4中公開了為了抑制磁性顆粒的氧化，用聚合物材料等的保護(hù)層被覆磁性顆粒的表面的技術(shù)，但其效果不能說充分。另外，由于用保護(hù)層被覆磁性顆粒，因此還有需要成本、功夫的問題。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特表2002-544318號公報

專利文獻(xiàn)2：日本特開2010-214505號公報

專利文獻(xiàn)3：日本特開2005-40944號公報

專利文獻(xiàn)4：日本特開2007-326183號公報

技術(shù)實現(xiàn)要素：

發(fā)明要解決的問題

因此，本發(fā)明的課題在于，解決上述那樣的現(xiàn)有技術(shù)所具有的問題，提供磁性顆粒不易發(fā)生氧化的研磨用組合物及其制造方法以及磁研磨方法。

用于解決問題的方案

為了解決前述問題，本發(fā)明的一個方案的研磨用組合物的主旨在于，含有磁性顆粒、用于抑制磁性顆粒的氧化的抗氧化劑、和水。

另外，本發(fā)明的又一方案的磁研磨方法的主旨在于，其是使用上述一個方案的研磨用組合物對研磨對象物進(jìn)行研磨的磁研磨方法，所述研磨方法包含如下工序：對所述研磨用組合物施加磁場而形成含有磁性顆粒的磁粒簇，使磁粒簇接觸研磨對象物而對研磨對象物進(jìn)行研磨。

進(jìn)而，本發(fā)明的又一方案的研磨用組合物的制造方法的主旨在于，其是制造上述一個方案的研磨用組合物的方法，所述制造方法包含將含有磁性顆粒的第1成分和含有水的第2成分混合的工序。

發(fā)明的效果

本發(fā)明的研磨用組合物的磁性顆粒不易發(fā)生氧化。另外，本發(fā)明的研磨用組合物的制造方法能夠得到磁性顆粒不易發(fā)生氧化的研磨用組合物。進(jìn)而，本發(fā)明的磁研磨方法由于磁性顆粒不易發(fā)生氧化，因此能夠以高精度對研磨對象物進(jìn)行精加工的研磨。

附圖說明

圖1為說明本發(fā)明的磁研磨方法的一個實施方式的圖。

附圖標(biāo)記說明

1研磨用組合物

3磁粒簇

5研磨對象物

具體實施方式

對本發(fā)明的一個實施方式詳細(xì)地進(jìn)行說明。需要說明的是，以下的實施方式示出本發(fā)明的一例，但本發(fā)明不限定于本實施方式。另外，可以對以下的實施方式添加各種變更或改良，本發(fā)明中也可以包含其添加了各種變更或改良的形態(tài)。

本實施方式的研磨用組合物含有磁性顆粒、用于抑制磁性顆粒的氧化的抗氧化劑、和水。若對本實施方式的研磨用組合物施加磁場，則作為磨粒起作用的磁性顆粒沿磁感線排列成鏈狀而形成磁粒簇。磁粒簇作為研磨工具而起作用，因此本實施方式的研磨用組合物可以用于磁研磨方法。即，若一邊對本實施方式的研磨用組合物施加磁場一邊使磁粒簇和研磨對象物接觸并使其相對移動，則能以高精度對研磨對象物進(jìn)行精加工的研磨(例如鏡面精加工)。

例如，使用了研磨刀具的磁研磨方法中可以使用本實施方式的研磨用組合物。對于研磨刀具，例如形成棒狀，在頂端具備產(chǎn)生磁場的磁場產(chǎn)生部(例如永磁體、電磁體)，并且具備使磁場產(chǎn)生部旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部。使本實施方式的研磨用組合物附著于研磨刀具的頂端，在磁場產(chǎn)生部產(chǎn)生磁場而使研磨用組合物內(nèi)形成磁粒簇后，使附著于研磨刀具的頂端的研磨用組合物接觸研磨對象物。然后，邊通過旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部使磁場產(chǎn)生部旋轉(zhuǎn)，邊使研磨刀具的頂端與研磨對象物進(jìn)行相對移動時，通過磁粒簇與研磨對象物的滑動接觸能夠?qū)ρ心ο笪镞M(jìn)行研磨。

進(jìn)而，由于本實施方式的研磨用組合物含有用于抑制磁性顆粒的氧化的抗氧化劑，因此磁性顆粒不易發(fā)生由水、氧、氧化劑等導(dǎo)致的氧化。因此，由于磁性顆粒的飽和磁化強(qiáng)度被維持為較高，因此磁研磨中的研磨用組合物不易發(fā)生研磨性能的經(jīng)時降低。需要說明的是，該機(jī)理是由推測得到的，本發(fā)明不受上述機(jī)理的任何限定。

另外，對于本實施方式的研磨用組合物，磁性顆粒不易發(fā)生氧化，因此長期保存也成為可能。進(jìn)而，也不易發(fā)生由磁性顆粒的氧化導(dǎo)致的氫的產(chǎn)生，因此本實施方式的研磨用組合物的安全性高。

進(jìn)而，通過抗氧化劑的作用，未施加磁場時的磁性顆粒的聚集被抑制，因此對于本實施方式的研磨用組合物，不易發(fā)生磁性顆粒的聚集，即使發(fā)生了聚集，再分散性也優(yōu)異。

以下，更詳細(xì)地對本實施方式的研磨用組合物、磁研磨方法等進(jìn)行說明。

1.關(guān)于研磨對象物

對研磨對象物的材質(zhì)沒有特別限定，例如可以舉出：金屬、合金、氧化物、樹脂等。作為金屬的具體例，可以舉出：鐵、銅、鋁、鈦、鋯、釕、鎢等。作為合金的具體例，可以舉出：鋁合金、鐵合金(不銹鋼等)、鎂合金、鈦合金、銅合金、鉻合金、鈷合金等。作為金屬氧化物的具體例，可以舉出：氧化鋁、氧化鋯、氧化硅、氧化鎂、氧化鈦、氧化鎵、氧化釔、氧化鍺等。對金屬氧化物的形態(tài)沒有限定，除了陶瓷材料、結(jié)晶性材料(藍(lán)寶石、水晶等)、玻璃以外，也可以為前述金屬、前述合金發(fā)生氧化而生成的物質(zhì)。作為樹脂的具體例，可以舉出：超級工程塑料、例如聚苯砜樹脂(ppsu)、聚苯硫醚樹脂(pps)、聚醚醚酮樹脂(peek)、聚酰胺酰亞胺樹脂(pai)。這些之中特別優(yōu)選合金、金屬氧化物。另外，也可以為包含多種所述材料的研磨對象物，例如，可以為金屬或合金的一部分(例如表面)發(fā)生氧化而形成了金屬氧化物的研磨對象物。

2.關(guān)于磁性顆粒

作為磁性顆粒，例如可以舉出：由硬質(zhì)磁性材料、軟磁性材料構(gòu)成的顆粒。作為由軟質(zhì)磁性材料構(gòu)成的顆粒，可以舉出鐵磁性顆粒、順磁性顆粒。對磁性顆粒的材質(zhì)沒有特別限定，例如可以舉出：鐵、鎳、鈷、及它們的氧化物(例如磁鐵體等氧化鐵)、它們的氮化物、它們的合金。另外，也可以使用包含釤、釹、鈰等稀土金屬的磁性顆粒。這些之中，從磁性較大、處理容易的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選鐵、鎳、鈷及它們的氧化物、它們的合金。

需要說明的是，磁性顆?？梢詥为?dú)使用1種，也可以組合使用2種以上。另外，在本發(fā)明中，磁性是指對磁場發(fā)生感應(yīng)，例如是指被磁體吸引的性質(zhì)。

磁性顆粒的平均1次粒徑優(yōu)選為200μm以下、更優(yōu)選為150μm以下。平均1次粒徑為200μm以下時，磁性顆粒在研磨用組合物中的分散性優(yōu)異。另外，磁性顆粒的平均1次粒徑優(yōu)選為0.01μm以上、更優(yōu)選為1μm以上。平均1次粒徑為0.01μm以上時，能具有充分的磁性。

另外，對于磁性顆粒的平均1次粒徑，在特別重視表面品質(zhì)的精加工研磨的情況下，優(yōu)選為15μm以下、更優(yōu)選為10μm以下、進(jìn)一步優(yōu)選為5μm以下。如果磁性顆粒的平均1次粒徑為這樣的范圍，則能抑制研磨對象物的劃痕并且得到平滑的表面。另外，在重視加工效率的粗精加工研磨、或粗精加工/中精加工研磨的情況下，優(yōu)選為10μm以上、更優(yōu)選為20μm以上、進(jìn)一步優(yōu)選為50μm以上。如果磁性顆粒的平均1次粒徑為這樣的范圍，則能夠以非常高的效率進(jìn)行研磨。需要說明的是，磁性顆粒的平均1次粒徑例如可以基于通過bet法測定的磁性顆粒的比表面積來計算。另外，也可以通過動態(tài)光散射法進(jìn)行測定。

在先實施了重視加工效率的中精加工研磨后進(jìn)行重視表面品質(zhì)的精加工研磨等的分多個階段進(jìn)行研磨的情況下，可以在每個階段中使用平均1次粒徑不同的磁性顆粒。

本實施方式的研磨用組合物中的磁性顆粒的含量優(yōu)選為80質(zhì)量％以下、更優(yōu)選為60質(zhì)量％以下。磁性顆粒的含量為80質(zhì)量％以下時，可發(fā)揮確保研磨用組合物的穩(wěn)定性、流動性和由此帶來的維持研磨精度的效果。另外，本實施方式的研磨用組合物中的磁性顆粒的含量優(yōu)選為10質(zhì)量％以上、更優(yōu)選為20質(zhì)量％以上。磁性顆粒的含量為10質(zhì)量％以上時，可發(fā)揮改善研磨速度、表面品質(zhì)的效果。

3.關(guān)于抗氧化劑

通常的研磨用組合物中也添加抗氧化劑，但通常的研磨用組合物的情況是出于抑制研磨對象物的氧化的目的而添加抗氧化劑。與此相對，在本發(fā)明中，是出于抑制磁性顆粒的氧化的目的而添加抗氧化劑。因此，對抑制氧化有效的抗氧化劑的種類在本發(fā)明的研磨用組合物與通常的研磨用組合物中是不同的，用于抑制金屬制的研磨對象物的氧化的抗氧化劑有時不適于本發(fā)明的研磨用組合物。

磁性顆粒有時因氧化而發(fā)生溶解或產(chǎn)生氣體等。因此，可以通過磁性顆粒的氧化、溶解、或氣體的產(chǎn)生等而得知研磨用組合物中添加的抗氧化劑的效果的水平。在本發(fā)明中，抗氧化劑在磁性顆粒的表面吸附或發(fā)生反應(yīng)，從而能夠抑制磁性顆粒的氧化、溶解、氣體的產(chǎn)生等。

對于抗氧化劑的種類，只要能夠抑制磁性顆粒的氧化就沒有特別限定，例如可以舉出：烯基琥珀酸衍生物、聯(lián)吡啶衍生物、二氮雜菲衍生物、三唑衍生物、苯并三唑衍生物、及分子中不具有碳-碳多重鍵的胺。

烯基琥珀酸衍生物可以包含下述式(1)、(2)、或(3)所示的化合物。

上述式(1)所示的化合物的r1及r2各自獨(dú)立地表示氫原子、或者直鏈狀或支鏈狀的碳數(shù)20以下的烯基。其中，r1及r2不同時為氫原子。烯基的碳數(shù)超過20時，有抗氧化劑在水中的溶解性降低的傾向。碳數(shù)小于4時，抗氧化劑的制造工藝的成本上升，難以實現(xiàn)經(jīng)濟(jì)的生產(chǎn)，因此r1及r2的碳數(shù)的下限優(yōu)選4。具體而言，作為優(yōu)選的烯基，可以舉出：戊烯基、己烯基、庚烯基、辛烯基、壬烯基、癸烯基、十一碳烯基、十二碳烯基、十三碳烯基、十四碳烯基、十五碳烯基、十六碳烯基、十七碳烯基、十八碳烯基、十九碳烯基、二十碳烯基、叔己烯基、2-乙基己烯基、2,4,6-三甲基庚烯基、2,4,6,8-四甲基壬烯基等。

上述式(1)所示的化合物的x1各自獨(dú)立地表示氫原子或陽離子(例如鈉離子、鉀離子等金屬離子、或銨離子、單乙醇銨離子、季銨離子等胺的陽離子)。x1為離子(陽離子)的情況下，x1所結(jié)合的coo基也是離子(陰離子)。

上述式(2)所示的化合物的r11及r14各自獨(dú)立地表示氫原子、或者直鏈狀或支鏈狀的碳數(shù)20以下的烯基。其中，r11及r14不同時為氫原子。烯基的碳數(shù)超過20時，有抗氧化劑的在水中的溶解性降低的傾向。碳數(shù)小于4時，抗氧化劑的制造工藝的成本上升，難以實現(xiàn)經(jīng)濟(jì)的生產(chǎn)，因此r11及r14的碳數(shù)的下限優(yōu)選4。具體而言，優(yōu)選的烯基與上述式(1)所示的化合物的r1及r2的情況相同。

r12及r13各自獨(dú)立地表示氫原子、碳數(shù)10以下的烷基、碳數(shù)10以下的烯基、羥基烷基、羥基烯基、聚氧乙烯基(-(ch2ch2o)n-ch2ch2oh)、或聚氧丙烯基(-(ch2chch3o)m-ch2chch3oh)。上述聚氧乙烯基的n表示氧化乙烯基的平均加成摩爾數(shù)，為1以上且19以下。上述聚氧丙烯基的m表示氧化丙烯基的平均加成摩爾數(shù)，為1以上且19以下。

其中，為了對上述式(2)所示的化合物賦予在水中的溶解性、分散性，優(yōu)選r12及r13中至少一者為羥基烷基、羥基烯基、聚氧乙烯基(-(ch2ch2o)n-ch2ch2oh)、或聚氧丙烯基(-(ch2chch3o)m-ch2chch3oh)。

更優(yōu)選r12及r13中任一者為羥基烷基或羥基烯基、進(jìn)一步優(yōu)選為碳數(shù)5以下的羥基烷基。從原材料獲得的容易性出發(fā)，碳數(shù)2或3的羥基烷基是最優(yōu)的。羥基烷基可以為直鏈狀、支鏈狀中的任意種。羥基烷基、羥基烯基所具有的羥基的個數(shù)可以為1個，也可以為2個以上。

上述式(2)所示的化合物的x11表示氫原子或陽離子(例如鈉離子、鉀離子等金屬離子、或銨離子、單乙醇銨離子、季銨離子等胺的陽離子)。x11為離子(陽離子)的情況下，x11所結(jié)合的coo基也為離子(陰離子)。

上述式(3)所示的化合物的r31及r36各自獨(dú)立地表示氫原子、或者直鏈狀或支鏈狀的碳數(shù)20以下的烯基。其中，r31及r36不同時為氫原子。烯基的碳數(shù)超過20時，有抗氧化劑在水中的溶解性降低的傾向。碳數(shù)小于4時，抗氧化劑的制造工藝的成本上升，難以實現(xiàn)經(jīng)濟(jì)的生產(chǎn)，因此r31及r36的碳數(shù)的下限優(yōu)選4。具體而言，優(yōu)選的烯基與上述式(1)所示的化合物的r1及r2的情況相同。

r32、r33、r34、及r35各自獨(dú)立地表示氫原子、碳數(shù)10以下的烷基、碳數(shù)10以下的烯基、羥基烷基、羥基烯基、聚氧乙烯基(-(ch2ch2o)r-ch2ch2oh)、或聚氧丙烯基(-(ch2chch3o)s-ch2chch3oh)。上述聚氧乙烯基的r表示氧化乙烯基的平均加成摩爾數(shù)，為1以上且19以下。上述聚氧丙烯基的s表示氧化丙烯基的平均加成摩爾數(shù)，為1以上且19以下。

其中，為了對上述式(3)所示的化合物賦予在水中的溶解性、分散性，優(yōu)選r32、r33、r34、及r35中至少一者為羥基烷基、羥基烯基、聚氧乙烯基(-(ch2ch2o)r-ch2ch2oh)、或聚氧丙烯基(-(ch2chch3o)s-ch2chch3oh)。

更優(yōu)選r32、r33、r34、及r35中任一者為羥基烷基或羥基烯基、進(jìn)一步優(yōu)選為碳數(shù)5以下的羥基烷基。從原材料獲得的容易性出發(fā)，碳數(shù)2或3的羥基烷基是最優(yōu)的。羥基烷基可以為直鏈狀、支鏈狀中的任意種。羥基烷基、羥基烯基所具有的羥基的個數(shù)可以為1個，也可以為2個以上。

作為上述式(1)所示的烯基琥珀酸衍生物的具體例，可以舉出：戊烯基琥珀酸、己烯基琥珀酸、庚烯基琥珀酸、辛烯基琥珀酸、壬烯基琥珀酸、癸烯基琥珀酸、十一碳烯基琥珀酸、十二碳烯基琥珀酸、十三碳烯基琥珀酸、十四碳烯基琥珀酸、十五碳烯基琥珀酸、十六碳烯基琥珀酸、十七碳烯基琥珀酸、十八碳烯基琥珀酸、十九碳烯基琥珀酸、二十碳烯基琥珀酸、叔己烯基琥珀酸、2-乙基己烯基琥珀酸、2,4,6-三甲基庚烯基琥珀酸、2,4,6,8-四甲基壬烯基琥珀酸、或它們的鹽。

作為上述式(2)所示的烯基琥珀酸衍生物的具體例，可以舉出：n,n-雙(2-羥基乙基)戊烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(2-羥基乙基)己烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(2-羥基乙基)庚烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(2-羥基乙基)辛烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(2-羥基乙基)壬烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(2-羥基乙基)癸烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(2-羥基乙基)十一碳烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(2-羥基乙基)十二碳烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(2-羥基乙基)十三碳烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(2-羥基乙基)十四碳烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(2-羥基乙基)十五碳烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(2-羥基乙基)十六碳烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(2-羥基乙基)十七碳烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(2-羥基乙基)十八碳烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(2-羥基乙基)十九碳烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(2-羥基乙基)二十碳烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(3-羥基丙基)戊烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(2-羥基丙基)辛烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(3-羥基丙基)辛烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(3-羥基丙基)十二碳烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(3-羥基丙基)十五碳烯基琥珀酰胺酸、n-(2-羥基乙基)戊烯基琥珀酰胺酸、n-(2-羥基乙基)辛烯基琥珀酰胺酸、n-(2-羥基乙基)十二碳烯基琥珀酰胺酸、n-(2-羥基乙基)十五碳烯基琥珀酰胺酸、n-(3-羥基丙基)戊烯基琥珀酰胺酸、n-(2-羥基丙基)辛烯基琥珀酰胺酸、n-(3-羥基丙基)辛烯基琥珀酰胺酸、n-(3-羥基丙基)十二碳烯基琥珀酰胺酸、n-(3-羥基丙基)十五碳烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(聚氧乙烯)辛烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(聚氧丙烯)辛烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(聚氧乙烯)十二碳烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(聚氧丙烯)十二碳烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(甲基)辛烯基琥珀酰胺酸、n,n-雙(乙基)辛烯基琥珀酰胺酸、n-(乙基)辛烯基琥珀酰胺酸。

作為上述式(3)所示的烯基琥珀酸衍生物的具體例，可以舉出：n,n-雙(2-羥基乙基)戊烯基琥珀酰胺、n,n-雙(2-羥基乙基)己烯基琥珀酰胺、n,n-雙(2-羥基乙基)庚烯基琥珀酰胺、n,n-雙(2-羥基乙基)辛烯基琥珀酰胺、n,n-雙(2-羥基乙基)壬烯基琥珀酰胺、n,n-雙(2-羥基乙基)癸烯基琥珀酰胺、n,n-雙(2-羥基乙基)十一碳烯基琥珀酰胺、n,n-雙(2-羥基乙基)十二碳烯基琥珀酰胺、n,n-雙(2-羥基乙基)十三碳烯基琥珀酰胺、n,n-雙(2-羥基乙基)十四碳烯基琥珀酰胺、n,n-雙(2-羥基乙基)十五碳烯基琥珀酰胺、n,n-雙(2-羥基乙基)十六碳烯基琥珀酰胺、n,n-雙(2-羥基乙基)十七碳烯基琥珀酰胺、n,n-雙(2-羥基乙基)十八碳烯基琥珀酰胺、n,n-雙(2-羥基乙基)十九碳烯基琥珀酰胺、n,n-雙(2-羥基乙基)二十碳烯基琥珀酰胺、n,n-雙(3-羥基丙基)戊烯基琥珀酰胺、n,n-雙(2-羥基丙基)辛烯基琥珀酰胺、n,n-雙(3-羥基丙基)辛烯基琥珀酰胺、n,n-雙(3-羥基丙基)十二碳烯基琥珀酰胺、n,n-雙(3-羥基丙基)十五碳烯基琥珀酰胺、n-(2-羥基乙基)戊烯基琥珀酰胺、n-(2-羥基乙基)辛烯基琥珀酰胺、n-(2-羥基乙基)十二碳烯基琥珀酰胺、n-(2-羥基乙基)十五碳烯基琥珀酰胺、n-(3-羥基丙基)戊烯基琥珀酰胺、n-(2-羥基丙基)辛烯基琥珀酰胺、n-(3-羥基丙基)辛烯基琥珀酰胺、n-(3-羥基丙基)十二碳烯基琥珀酰胺、n-(3-羥基丙基)十五碳烯基琥珀酰胺、n,n-雙(聚氧乙烯)辛烯基琥珀酰胺、n,n-雙(聚氧丙烯)辛烯基琥珀酰胺、n,n-雙(聚氧乙烯)十二碳烯基琥珀酰胺、n,n-雙(聚氧丙烯)十二碳烯基琥珀酰胺、n,n,n’-三(2-羥基乙基)辛烯基琥珀酰胺、n,n,n’,n’-四(2-羥基乙基)辛烯基琥珀酰胺、n,n,n’,n’-四(2-羥基丙基)辛烯基琥珀酰胺、n,n,n’,n’-四(3-羥基丙基)辛烯基琥珀酰胺。

為了提高烯基琥珀酸衍生物在水中的溶解性、分散性，可以采用上述式(1)、(2)所示的化合物的x1、x11、x21作為陽離子(例如鈉離子、鉀離子等金屬離子、或銨離子、單乙醇銨離子、季銨離子等胺的陽離子)。在這種情況下，可以通過在研磨用組合物中配混x1、x11、x21為氫原子的化合物，向其中加入與羧基發(fā)生中和反應(yīng)的堿性物質(zhì)使其反應(yīng)，來將x1、x11、x21轉(zhuǎn)化為金屬離子或陽離子。

作為堿性物質(zhì)，例如可以舉出：氫氧化鈉、氫氧化鉀等堿金屬的氫氧化物。另外可以舉出：單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、乙二胺、二亞乙基三胺、三亞乙基四胺、甲胺、二甲胺、三甲胺、乙胺、二乙胺、三乙胺、正丁胺、二正丁胺、三正丁胺、叔丁胺、乙二胺、n-乙基乙二胺、二亞乙基三胺、三亞乙基四胺、1,2-二氨基丙烷、四甲基氫氧化銨、環(huán)己胺、n,n,n’,n’-四甲基乙二胺、吡咯烷、哌啶、哌嗪、吡啶、吡嗪、1,2-環(huán)己二胺、1,4-環(huán)己二胺、單異丙醇胺、二異丙醇胺、三異丙醇胺、n,n-雙(2-羥基乙基)-n-環(huán)己基胺、n,n,n’,n’-四(2-羥基乙基)乙二胺、n,n,n’,n’-四(2-羥基乙基)-1,6-六亞甲基二胺、二環(huán)己胺、環(huán)己基二乙醇胺、嗎啉、2-氨基-2-甲基-1-丙醇、單乙醇二異丙醇胺、n,n-二甲基乙醇胺、n,n-二乙基乙醇胺等胺。

聯(lián)吡啶衍生物可以含有下述式(4)所示的化合物。

需要說明的是，上述式(4)所示的化合物的r41、r42、r43、r44、r45、r46、r47、及r48各自獨(dú)立地表示氫原子、烷基、烯基、苯基、羥基、氨基、羧基、磺基、硝基、鹵素基團(tuán)、羥基烷基、羥基烯基、烷基氨基、烯基氨基、羧基烷基、羧基烯基、烷基磺基、烯基磺基、烷基硝基、烯基硝基、烷氧基、乙?；⑼榛鸦?、烯基醚基、鹵代烷基、鹵代烯基。

作為聯(lián)吡啶衍生物的具體例，可以舉出：2,2’-聯(lián)吡啶、4,4’-二甲醇-2,2’-聯(lián)吡啶、5,5’-二羧酸-2,2’-聯(lián)吡啶、3-羥基-4,4’-二甲基-2,2’-聯(lián)吡啶、6-甲氧基-2,2’-聯(lián)吡啶、3,3’-二羥基-2,2’-聯(lián)吡啶、6,6’-二羥基-2,2’-聯(lián)吡啶、3-羧基-2,2’-聯(lián)吡啶、4-羧基-2,2’-聯(lián)吡啶、6-羧基-2,2’-聯(lián)吡啶、6-溴-2,2’-聯(lián)吡啶、6-氯-2,2’-聯(lián)吡啶、6,6’-二氨基-2,2’-聯(lián)吡啶、6,6’-二甲基-2,2’-聯(lián)吡啶、6,6’-二砜-2,2’-聯(lián)吡啶等2,2’-聯(lián)吡啶衍生物及其鹽。

二氮雜菲衍生物可以包含下述式(5)所示的化合物。

需要說明的是，上述式(5)所示的化合物的r51、r52、r53、r54、r55、r56、r57、及r58各自獨(dú)立地表示氫原子、烷基、烯基、苯基、羥基、氨基、羧基、磺基、硝基、鹵素基團(tuán)、羥基烷基、羥基烯基、烷基氨基、烯基氨基、羧基烷基、羧基烯基、烷基磺基、烯基磺基、烷基硝基、烯基硝基、烷氧基、乙?；?、烷基醚基、烯基醚基、鹵代烷基、鹵代烯基。

作為二氮雜菲衍生物的具體例，可以舉出：1,10-鄰二氮雜菲、2-氯-1,10-鄰二氮雜菲、5-氯-1,10-鄰二氮雜菲、2-溴-1,10-鄰二氮雜菲、3-溴-1,10-鄰二氮雜菲、5-溴-1,10-鄰二氮雜菲、3,8-二溴-1,10-鄰二氮雜菲、2,9-二甲基-1,10-鄰二氮雜菲、2,9-二甲基-4,7-二苯基-1,10-鄰二氮雜菲、3,4,7,8-四甲基-1,10-鄰二氮雜菲、5-氨基-1,10-鄰二氮雜菲、4,7-二羥基-1,10-鄰二氮雜菲、3,4,7,8-四羥基-1,10-鄰二氮雜菲、1,10-鄰二氮雜菲-2,9-二羧酸、5-硝基-1,10-鄰二氮雜菲-2,9-二羧酸、1,10-鄰二氮雜菲-2,9-二磺酸、4,7-二苯基-1,10-鄰二氮雜菲-2,9-二磺酸、1,10-鄰二氮雜菲-5,6-二酮、及其鹽、以及其水合物。

作為三唑衍生物，可以舉出具有三唑結(jié)構(gòu)的化合物及其鹽。作為具體的例子，例如可以舉出：1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、1-甲基-1,2,4-三唑、3-硝基-1,2,4-三唑、1h-1,2,4-三唑-3-硫醇、4-(1,2,4-三唑-1-基)苯酚、甲基-1h-1,2,4-三唑-3-羧酸酯、1,2,4-三唑-3-羧酸、1,2,4-三唑-3-羧酸甲酯、3-氨基-1h-1,2,4-三唑、3-氨基-5-芐基-4h-1,2,4-三唑、3-氨基-5-甲基-4h-1,2,4-三唑、3-氨基-1,2,4-三唑-5-硫醇、3,5-二氨基-1h-1,2,4-三唑、3-溴-5-硝基-1,2,4-三唑、4-氨基-1,2,4-三唑、4-氨基-3,5-二丙基-4h-1,2,4-三唑、4-氨基-3,5-二甲基-4h-1,2,4-三唑、4-氨基-3,5-二庚基-4h-1,2,4-三唑、5-甲基-1,2,4-三唑-3,4-二胺。

作為苯并三唑衍生物，可以舉出具有苯并三唑結(jié)構(gòu)的化合物及其鹽。作為具體的例子，例如可以舉出：苯并三唑、2,2’-[[(甲基-1h-苯并三唑-1-基)甲基]亞氨基]二乙醇、5-氯苯并三唑、1h-苯并三唑-1-甲醇、5-甲基-1h-苯并三唑、5-硝基苯并三唑、5-羧基苯并三唑、5-氨基苯并三唑、5,6-二甲基-1h-苯并三唑、1-(1”,2’-二羧基乙基)苯并三唑、1-[n,n-雙(羥基乙基)氨基甲基]苯并三唑、1-[n,n-雙(羥基乙基)氨基甲基]-5-甲基苯并三唑、1-[n,n-雙(羥基乙基)氨基甲基]-4-甲基苯并三唑。

作為分子中不具有碳-碳多重鍵的胺，例如可以包含下述式(6)、(7)、(8)、(9)所示的化合物。

需要說明的是，上述式(6)所示的化合物的r61、r62、r63各自獨(dú)立地為氫原子、烷基、或羥基烷基，或者各自獨(dú)立地為羧基烷基、膦酸烷基、或磺酸烷基。r61、r62、r63可以碳原子彼此鍵合而形成環(huán)狀結(jié)構(gòu)(環(huán)狀烷烴)。其中，r61、r62、r63這三者不同時為氫原子。r61、r62、r63所具有的碳鏈可以為直鏈狀，也可以為支鏈狀。若r61、r62、r63中的至少一者為羥基烷基，則磁性顆粒的抗氧化效果變高，因此優(yōu)選。羥基烷基所具有的羥基的個數(shù)可以為1個，也可以為2個以上。

作為上述式(6)所示的化合物的具體例，例如可以舉出：甲胺、二甲胺、三甲胺、乙胺、二乙胺、三乙胺、正丁胺、叔丁胺、二丁基胺、三丁基胺、單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、單丙醇胺、3-甲基氨基-1,2-丙二醇、二異丙醇胺、次氮基三亞甲基膦酸、次氮基三乙酸、3,3’,3”-次氮基三丙酸、吡咯烷、1-甲基吡咯烷、2-甲基吡咯烷、1-乙基吡咯烷、2-乙基吡咯烷、1-(2-羥基乙基)吡咯烷、2-(羥基甲基)吡咯烷、2-(2-羥基乙基)-1-甲基吡咯烷、哌啶、3,5-二甲基哌啶、2-乙基哌啶、2-甲基哌啶、4-甲基哌啶、1-哌啶乙醇、1-乙醇-4-丙醇哌啶、3-喹寧醇、環(huán)己胺、n,n-雙(2-羥基乙基)異丙醇胺、n,n-二甲基乙醇胺。

上述式(7)所示的化合物的r71、r72、r73、r74各自獨(dú)立地表示氫原子、烷基、或羥基烷基。r71、r72、r73、r74可以碳原子彼此鍵合而形成環(huán)狀結(jié)構(gòu)(環(huán)狀烷烴)。上述式(7)所示的化合物的r75表示碳數(shù)2以上且10以下的亞烷基。r71、r72、r73、r74、r75所具有的碳鏈可以為直鏈狀、支鏈狀、環(huán)狀中的任意種。若r71、r72、r73、r74中的至少一者為羥基烷基，則磁性顆粒的抗氧化效果變高，因此優(yōu)選。羥基烷基所具有的羥基的個數(shù)可以為1個，也可以為2個以上。

作為上述式(7)所示的化合物的具體例，例如可以舉出：乙二胺、n-甲基乙二胺、n-乙基乙二胺、n,n-二甲基乙二胺、n,n-二乙基乙二胺、n,n’-二乙基乙二胺、n,n,n’,n’-四甲基乙二胺、1,2-二氨基丙烷、2-甲基-1,2-丙二胺、n-(2-羥基乙基)乙二胺、n,n’-雙(2-羥基乙基)乙二胺、n-(2-羥基丙基)乙二胺、n,n,n’,n’-四(2-羥基乙基)乙二胺、1,3-二氨基丙烷、2,2-二甲基-1,3-丙二胺、2-甲基-1,3-丙二胺、n-甲基-1,3-丙二胺、n,n-二甲基-1,3-丙二胺、n,n-二乙基-1,3-丙二胺、n,n-雙(2-羥基乙基)-1,3-二氨基丙烷、哌嗪、1-甲基哌嗪、1-乙基哌嗪、n,n’-二甲基哌嗪、1-(2-羥基乙基)哌嗪、4-甲基哌嗪-1-乙醇、1,4-雙(2-羥基乙基)哌嗪、1,2-環(huán)己二胺、1,4-環(huán)己二胺。

上述式(8)所示的化合物的r81、r82、r83、r84、r85各自獨(dú)立地表示氫原子、烷基、或羥基烷基。r81、r82、r83、r84、r85可以碳原子彼此鍵合而形成環(huán)狀結(jié)構(gòu)(環(huán)狀烷烴)。上述式(8)所示的化合物的r86、r87表示碳數(shù)2以上且10以下的亞烷基。r81、r82、r83、r84、r85、r86、r87所具有的碳鏈可以為直鏈狀、支鏈狀、環(huán)狀中的任意種。若r81、r82、r83、r84、r85中的至少一者為羥基烷基，則磁性顆粒的抗氧化效果變高，因此優(yōu)選。羥基烷基所具有的羥基的個數(shù)可以為1個，也可以為2個以上。

作為上述式(8)所示的化合物的具體例，例如可以舉出：二亞乙基三胺、n,n,n’,n”,n”-五甲基二亞乙基三胺、n,n,n’,n”,n”-五(2-羥基丙基)二亞乙基三胺、3,3’-二氨基二丙基胺、n-(3-氨基丙基)-n-甲基-1,3-丙二胺、n’-[3-(二甲基氨基)丙基]-n,n-二甲基-1,3-丙二胺、2,6,10-三甲基-2,6,10-三氮雜十一烷、n-(2-氨基乙基)哌嗪、1,4,7-三氮雜環(huán)壬烷、n,n,n’,n”,n”-五(2-羥基丙基)二亞乙基三胺。

上述式(9)所示的化合物的r91、r92、r93、r94、r95、r96各自獨(dú)立地表示氫原子、烷基、或羥基烷基。r91、r92、r93、r94、r95、r96可以碳原子彼此鍵合而形成環(huán)狀結(jié)構(gòu)(環(huán)狀烷烴)。上述式(9)所示的化合物的r97、r98、r99表示碳數(shù)2以上且10以下的亞烷基。r91、r92、r93、r94、r95、r96、r97、r98、r99所具有的碳鏈可以為直鏈狀、支鏈狀、環(huán)狀中的任意種。若r91、r92、r93、r94、r95、r96中的至少一者為羥基烷基，則磁性顆粒的抗氧化效果變高，因此優(yōu)選。羥基烷基所具有的羥基的個數(shù)可以為1個，也可以為2個以上。

作為上述式(9)所示的化合物的具體例，例如可以舉出：三亞乙基四胺、n,n,n’,n”,n”’,n”’-六甲基三亞乙基四胺、1,4-雙(3-氨基丙基)哌嗪、1,4,7,10-四氮雜環(huán)十二烷。

烯基琥珀酸衍生物、聯(lián)吡啶衍生物、二氮雜菲衍生物、三唑衍生物、苯并三唑衍生物中也包括烯基琥珀酸、2,2’-聯(lián)吡啶、1,10-鄰二氮雜菲、三唑、苯并三唑?？寡趸瘎┛梢詥为?dú)使用1種，也可以組合使用2種以上。

本實施方式的研磨用組合物中的抗氧化劑的含量優(yōu)選為5質(zhì)量％以下、更優(yōu)選為1質(zhì)量％以下?？寡趸瘎┑暮繛?質(zhì)量％以下時，可發(fā)揮保護(hù)研磨對象物的表面并且維持研磨速度的效果。另外，本實施方式的研磨用組合物中的抗氧化劑的含量優(yōu)選為0.01質(zhì)量％以上、更優(yōu)選為0.1質(zhì)量％以上?？寡趸瘎┑暮繛?.01質(zhì)量％以上時，磁性顆粒的抗氧化效果優(yōu)異。

4.關(guān)于水

本實施方式的研磨用組合物含有液態(tài)介質(zhì)作為用于將磁性顆粒、抗氧化劑等各成分分散或溶解的分散介質(zhì)或溶劑。對液態(tài)介質(zhì)的種類沒有特別限定，可以舉出水、有機(jī)溶劑等，從防爆對策、減少環(huán)境負(fù)擔(dān)的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選含有水。從抑制對其他各成分的作用的阻礙的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選盡量不含有雜質(zhì)的水。具體而言，優(yōu)選在利用離子交換樹脂去除了雜質(zhì)離子后通過過濾器去除了異物的純水、超純水、或蒸餾水。

5.關(guān)于非磁性的研磨顆粒

本實施方式的研磨用組合物可以還含有非磁性的研磨顆粒。若研磨用組合物含有非磁性的研磨顆粒，則在對研磨用組合物施加磁場而形成磁粒簇時，研磨顆粒與磁性顆粒一起形成磁粒簇，因此本實施方式的研磨用組合物的研磨性能、研磨速度提高，并且研磨對象物的被研磨面的表面品質(zhì)變得更良好。

對研磨顆粒的種類沒有特別限定，例如可以舉出：無機(jī)顆粒、有機(jī)顆粒、有機(jī)無機(jī)復(fù)合顆粒。作為無機(jī)顆粒的具體例，可以舉出：由二氧化硅、氧化鋁、二氧化鈰、二氧化鈦等金屬氧化物形成的顆粒、氮化硅顆粒、碳化硅顆粒、氮化硼顆粒。作為有機(jī)顆粒的具體例，可以舉出聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)顆粒。研磨顆?？梢詥为?dú)使用1種，也可以組合使用2種以上。另外，可以使用市售品，也可以使用合成品。上述研磨顆粒之中，更優(yōu)選二氧化硅、氧化鋁。

進(jìn)而，研磨顆?？梢詫嵤┻^表面修飾。實施過表面修飾的研磨顆粒例如可以通過將鋁、鈦、鋯等金屬或它們的氧化物與磨?；旌?，使鋁、鈦、鋯等金屬或它們的氧化物摻雜到磨粒的表面；將有機(jī)酸固定化在磨粒的表面上來獲得。實施過表面修飾的研磨顆粒之中，特別優(yōu)選的是固定化有有機(jī)酸的膠態(tài)二氧化硅。

有機(jī)酸在膠態(tài)二氧化硅的表面的固定化例如可以通過使有機(jī)酸的官能團(tuán)化學(xué)鍵合在膠態(tài)二氧化硅的表面上來進(jìn)行。僅通過使膠態(tài)二氧化硅和有機(jī)酸簡單地共存不會實現(xiàn)有機(jī)酸在膠態(tài)二氧化硅上的固定化。如果將作為有機(jī)酸的一種的磺酸固定化在膠態(tài)二氧化硅上，則例如可以通過“sulfonicacid-functionalizedsilicathroughquantitativeoxidationofthiolgroups”,chem.commun.246-247(2003)中記載的方法進(jìn)行。具體而言，使3-巰基丙基三甲氧基硅烷等具有巰基的硅烷偶聯(lián)劑與膠態(tài)二氧化硅偶聯(lián)后，用過氧化氫將巰基氧化，由此可以得到在表面固定化有磺酸的膠態(tài)二氧化硅。

或者，如果將羧酸固定化在膠態(tài)二氧化硅上，則例如可以通過“novelsilanecouplingagentscontainingaphotolabile2-nitrobenzylesterforintroductionofacarboxygrouponthesurfaceofsilicagel”,chemistryletters,3,228-229(2000)中記載的方法進(jìn)行。具體而言，使含有光反應(yīng)性2-硝基芐酯的硅烷偶聯(lián)劑與膠態(tài)二氧化硅偶聯(lián)后，進(jìn)行光照射，由此可以得到表面固定化有羧酸的膠態(tài)二氧化硅。

另外，也可以使用日本特開平4-214022號公報中公開那樣的、添加堿性鋁鹽或堿性鋯鹽而制造的陽離子性二氧化硅。

研磨顆粒的平均1次粒徑優(yōu)選為100μm以下、更優(yōu)選為50μm以下。平均1次粒徑為100μm以下時，即使在漿料狀的研磨用組合物的保存中磁性顆粒發(fā)生沉降，也容易再分散。另外，研磨顆粒的平均1次粒徑優(yōu)選為5nm以上、更優(yōu)選為10nm以上、進(jìn)一步優(yōu)選為50nm以上。如果研磨顆粒的平均1次粒徑為這樣的范圍，則能夠高效地對研磨對象物進(jìn)行研磨。

在重視表面品質(zhì)的精加工研磨的情況下，研磨顆粒的平均1次粒徑優(yōu)選為1000nm以下、更優(yōu)選為500nm以下、進(jìn)一步優(yōu)選為300nm以下。如果研磨顆粒的平均1次粒徑為這樣的范圍，則不僅能夠?qū)崿F(xiàn)高效的研磨，而且能夠進(jìn)一步抑制在使用研磨用組合物進(jìn)行了研磨后的研磨對象物的表面上產(chǎn)生劃痕。

另外，在重視加工效率的中精加工研磨的情況下，研磨顆粒的平均1次粒徑優(yōu)選為1μm以上、更優(yōu)選為5μm以上、進(jìn)一步優(yōu)選為10μm以上。如果研磨顆粒的平均1次粒徑為這樣的范圍，則能夠以非常高的效率進(jìn)行研磨。

研磨顆粒的平均1次粒徑例如基于通過bet法測定的研磨顆粒的比表面積來算出。另外，也可以通過動態(tài)光散射法進(jìn)行測定。

在先實施了重視加工效率的中精加工研磨后進(jìn)行重視表面品質(zhì)的精加工研磨等的分多個階段進(jìn)行研磨的情況下，可以在每個階段中使用平均1次粒徑不同的研磨顆粒。

本實施方式的研磨用組合物中的研磨顆粒的含量優(yōu)選為40質(zhì)量％以下、更優(yōu)選為20質(zhì)量％以下。研磨顆粒的含量為40質(zhì)量％以下時，可發(fā)揮確保研磨用組合物的穩(wěn)定性、流動性和由此帶來的維持研磨精度的效果。另外，本實施方式的研磨用組合物中的研磨顆粒的含量優(yōu)選為1質(zhì)量％以上、更優(yōu)選為5質(zhì)量％以上。研磨顆粒的含量為1質(zhì)量％以上時，可發(fā)揮改善研磨速度、表面品質(zhì)的效果。

6.關(guān)于研磨用組合物的ph

對本實施方式的研磨用組合物的ph沒有特別限定。其中，根據(jù)抗氧化劑的種類，可以設(shè)為5以上，也可以設(shè)為7以上。另外，本實施方式的研磨用組合物的ph根據(jù)抗氧化劑的種類可以設(shè)為小于14、也可以設(shè)為12以下。ph為該范圍的研磨用組合物不易產(chǎn)生磁性顆粒的聚集，能夠高效地對研磨對象物進(jìn)行研磨。需要說明的是，在使用鐵粉作為磁性顆粒的情況下，研磨用組合物的ph更優(yōu)選為5以上且12以下、進(jìn)一步優(yōu)選為7以上且12以下。

研磨用組合物的ph可以通過添加ph調(diào)節(jié)劑來調(diào)節(jié)。為了將研磨用組合物的ph調(diào)節(jié)到期望的值，根據(jù)需要而使用的ph調(diào)節(jié)劑可以為酸及堿中的任意種，另外，也可以為無機(jī)化合物及有機(jī)化合物的中的任意種。

對于作為ph調(diào)節(jié)劑的堿的具體例，可以舉出：堿金屬的氫氧化物或其鹽、堿土金屬的氫氧化物或其鹽、氫氧化季銨或其鹽、氨、胺等。

作為堿金屬的具體例，可以舉出鉀、鈉等。另外，作為堿土金屬的具體例，可以舉出鈣、鍶等。進(jìn)而，作為鹽的具體例，可以舉出：碳酸鹽、碳酸氫鹽、硫酸鹽、乙酸鹽等。進(jìn)而，作為季銨的具體例，可以舉出四甲基銨、四乙基銨、四丁基銨等。

作為氫氧化季銨化合物，包含氫氧化季銨或其鹽，作為具體例，可以舉出：四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨等。

進(jìn)而，作為胺的具體例，可以舉出：甲胺、二甲胺、三甲胺、乙胺、二乙胺、三乙胺、乙二胺、單乙醇胺、n-(β-氨基乙基)乙醇胺、六亞甲基二胺、二亞乙基三胺、三亞乙基四胺、無水哌嗪、哌嗪六水合物、1-(2-氨基乙基)哌嗪、n-甲基哌嗪、胍等。

對于作為ph調(diào)節(jié)劑的酸，可以舉出：無機(jī)酸、有機(jī)酸。作為無機(jī)酸的具體例，可以舉出：硫酸、硝酸、硼酸、碳酸、次磷酸、亞磷酸、磷酸等。另外，作為有機(jī)酸的具體例，可以舉出：甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、2-甲基丁酸、正己酸、3,3-二甲基丁酸、2-乙基丁酸、4-甲基戊酸、正庚酸、2-甲基己酸、正辛酸、2-乙基己酸、苯甲酸、乙醇酸、水楊酸、甘油酸、草酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、馬來酸、鄰苯二甲酸、蘋果酸、酒石酸、檸檬酸等羧酸、甲磺酸、乙磺酸、羥乙基磺酸等有機(jī)硫酸等。這些ph調(diào)節(jié)劑可以單獨(dú)使用1種，也可以組合使用2種以上。

7.關(guān)于研磨用組合物的電導(dǎo)率

對本實施方式的研磨用組合物的電導(dǎo)率沒有特別限定，優(yōu)選20ms/cm以下、更優(yōu)選10ms/cm以下、進(jìn)一步優(yōu)選5ms/cm以下。電導(dǎo)率為這樣的范圍時，磁性顆粒更不易發(fā)生氧化，因此能夠進(jìn)一步延長研磨用組合物的壽命。電導(dǎo)率可以通過添加到研磨用組合物中的鹽化合物的種類、添加量等進(jìn)一步控制。

8.關(guān)于其他添加劑

本實施方式的研磨用組合物中可以根據(jù)需要進(jìn)而添加氧化劑(例如含有鹵素原子的氧化劑)、絡(luò)合劑、金屬防腐蝕劑、表面活性劑、水溶性高分子、防腐劑、防霉劑等其他添加劑。以下，對其他添加劑進(jìn)行說明。

(1)關(guān)于氧化劑

本實施方式的研磨用組合物中可以包含氧化劑。對氧化劑的種類沒有特別限定，作為例子，可以舉出：過氧化氫、過乙酸、過碳酸鹽、過氧化尿素、高氯酸鹽、過硫酸鹽等。但是，為了抑制磁性顆粒的氧化，本實施方式的研磨用組合物中的氧化劑的含量優(yōu)選為10質(zhì)量％以下、更優(yōu)選為5質(zhì)量％以下。而且，在使用鐵粉作為磁性顆粒的情況下，研磨用組合物進(jìn)一步優(yōu)選實質(zhì)上不含有氧化劑。

需要說明的是，實質(zhì)上不含有氧化劑是指至少有意使其不含有氧化劑。因此，此處所說的實質(zhì)上不含有氧化劑的研磨用組合物的概念可以包含不可避免地含有源自原料、制法等微量(例如研磨用組合物中的氧化劑的摩爾濃度為0.0005摩爾/l以下、優(yōu)選0.0001摩爾以下、更優(yōu)選0.00001摩爾/l以下、特別優(yōu)選0.000001摩爾/l以下)的氧化劑的研磨用組合物。

(2)關(guān)于金屬防腐蝕劑

本實施方式的研磨用組合物中可以含有金屬防腐蝕劑。為了抑制研磨對象物的腐蝕，通過添加金屬防腐蝕劑，能夠防止金屬的溶解。通過使用金屬防腐蝕劑，能夠抑制研磨對象物的表面的表面粗糙度等的惡化。

對可使用的金屬防腐蝕劑沒有特別限定，優(yōu)選雜環(huán)式化合物。對雜環(huán)式化合物中的雜環(huán)的元數(shù)沒有特別限定。另外，雜環(huán)式化合物可以為單環(huán)化合物，也可以為具有稠合環(huán)的多環(huán)化合物。金屬防腐蝕劑可以單獨(dú)使用1種，也可以組合使用2種以上。另外，金屬防腐蝕劑可以使用市售品，也可以使用合成品。進(jìn)而，也可以使用具有防止磁性顆粒氧化效果的防腐蝕劑。

作為能用作金屬防腐蝕劑的雜環(huán)化合物的具體例，可以舉出：吡咯化合物、吡唑化合物、咪唑化合物、三唑化合物、四唑化合物、吡啶化合物、吡嗪化合物、噠嗪化合物、氮茚化合物、中氮茚化合物、吲哚化合物、異吲哚化合物、吲唑化合物、嘌呤化合物、喹嗪化合物、喹啉化合物、異喹啉化合物、萘啶化合物、酞嗪化合物、喹喔啉化合物、喹唑啉化合物、噌啉化合物、布替利嗪化合物、噻唑化合物、異噻唑化合物、噁唑化合物、異噁唑化合物、呋咱化合物等含氮雜環(huán)化合物。

若舉出更具體的例子，則作為吡唑化合物的例子，可以舉出：1h-吡唑、4-硝基-3-吡唑羧酸、3,5-吡唑羧酸、3-氨基-5-苯基吡唑、5-氨基-3-苯基吡唑、3,4,5-三溴吡唑、3-氨基吡唑、3,5-二甲基吡唑、3,5-二甲基-1-羥基甲基吡唑、3-甲基吡唑、1-甲基吡唑、3-氨基-5-甲基吡唑、4-氨基-吡唑并[3,4-d]嘧啶、別嘌醇、4-氯-1h-吡唑并[3,4-d]嘧啶、3,4-二羥基-6-甲基吡唑并(3,4-b)-吡啶、6-甲基-1h-吡唑并[3,4-b]吡啶-3-胺等。

作為咪唑化合物的例子，可以舉出：咪唑、1-甲基咪唑、2-甲基咪唑、4-甲基咪唑、1,2-二甲基吡唑、2-乙基-4-甲基咪唑、2-異丙基咪唑、苯并咪唑、5,6-二甲基苯并咪唑、2-氨基苯并咪唑、2-氯苯并咪唑、2-甲基苯并咪唑、2-(1-羥乙基)苯并咪唑、2-羥基苯并咪唑、2-苯基苯并咪唑、2,5-二甲基苯并咪唑、5-甲基苯并咪唑、5-硝基苯并咪唑、1h-嘌呤等。

作為三唑化合物的例，可以舉出：1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、1-甲基-1,2,4-三唑、甲基-1h-1,2,4-三唑-3-羧酸酯、1,2,4-三唑-3-羧酸、1,2,4-三唑-3-羧酸甲基、1h-1,2,4-三唑-3-硫醇、3,5-二氨基-1h-1,2,4-三唑、3-氨基-1,2,4-三唑-5-硫醇、3-氨基-1h-1,2,4-三唑、3-氨基-5-芐基-4h-1,2,4-三唑、3-氨基-5-甲基-4h-1,2,4-三唑、3-硝基-1,2,4-三唑、3-溴-5-硝基-1,2,4-三唑、4-(1,2,4-三唑-1-基)苯酚、4-氨基-1,2,4-三唑、4-氨基-3,5-二丙基-4h-1,2,4-三唑、4-氨基-3,5-二甲基-4h-1,2,4-三唑、4-氨基-3,5-二庚基-4h-1,2,4-三唑、5-甲基-1,2,4-三唑-3,4-二胺、1h-苯并三唑、1-羥基苯并三唑、1-氨基苯并三唑、1-羧基苯并三唑、5-氯-1h-苯并三唑、5-硝基-1h-苯并三唑、5-羧基-1h-苯并三唑、5-甲基-1h-苯并三唑、5,6-二甲基-1h-苯并三唑、1-(1’,2’-二羧基乙基)苯并三唑、1-[n,n-雙(羥乙基)氨基甲基]苯并三唑、1-[n,n-雙(羥乙基)氨基甲基]-5-甲基苯并三唑、1-[n,n-雙(羥乙基)氨基甲基]-4-甲基苯并三唑等。

作為四唑化合物的例子，可以舉出：1h-四唑、5-甲基四唑、5-氨基四唑、5-苯基四唑等。

作為吲唑化合物的例子，可以舉出：1h-吲唑、5-氨基-1h-吲唑、5-硝基-1h-吲唑、5-羥基-1h-吲唑、6-氨基-1h-吲唑、6-硝基-1h-吲唑、6-羥基-1h-吲唑、3-羧基-5-甲基-1h-吲唑等。

作為吲哚化合物的例子，可以舉出：1h-吲哚、1-甲基-1h-吲哚、2-甲基-1h-吲哚、3-甲基-1h-吲哚、4-甲基-1h-吲哚、5-甲基-1h-吲哚、6-甲基-1h-吲哚、7-甲基-1h-吲哚、4-氨基-1h-吲哚、5-氨基-1h-吲哚、6-氨基-1h-吲哚、7-氨基-1h-吲哚、4-羥基-1h-吲哚、5-羥基-1h-吲哚、6-羥基-1h-吲哚、7-羥基-1h-吲哚、4-甲氧基-1h-吲哚、5-甲氧基-1h-吲哚、6-甲氧基-1h-吲哚、7-甲氧基-1h-吲哚、4-氯-1h-吲哚、5-氯-1h-吲哚、6-氯-1h-吲哚、7-氯-1h-吲哚、4-羧基-1h-吲哚、5-羧基-1h-吲哚、6-羧基-1h-吲哚、7-羧基-1h-吲哚、4-硝基-1h-吲哚、5-硝基-1h-吲哚、6-硝基-1h-吲哚、7-硝基-1h-吲哚、4-腈基-1h-吲哚、5-腈基-1h-吲哚、6-腈基-1h-吲哚、7-腈基-1h-吲哚、2,5-二甲基-1h-吲哚、1,2-二甲基-1h-吲哚、1,3-二甲基-1h-吲哚、2,3-二甲基-1h-吲哚、5-氨基-2,3-二甲基-1h-吲哚、7-乙基-1h-吲哚、5-(氨基甲基)吲哚、2-甲基-5-氨基-1h-吲哚、3-羥基甲基-1h-吲哚、6-異丙基-1h-吲哚、5-氯-2-甲基-1h-吲哚等。

這些之中優(yōu)選的雜環(huán)化合物為三唑化合物，特別優(yōu)選1h-苯并三唑、5-甲基-1h-苯并三唑、5,6-二甲基-1h-苯并三唑、1-[n,n-雙(羥乙基)氨基甲基]-5-甲基苯并三唑、1-[n,n-雙(羥乙基)氨基甲基]-4-甲基苯并三唑、1,2,3-三唑、1,2,4-三唑。

這些雜環(huán)化合物對研磨對象物的表面的化學(xué)吸附力或物理吸附力高，因此能夠在研磨對象物的表面形成更加牢固的保護(hù)膜。這在使利用本實施方式的研磨用組合物進(jìn)行了研磨后的研磨對象物的表面的平坦性提高方面是有利的。

研磨用組合物中的金屬防腐蝕劑的含量優(yōu)選為0.0001質(zhì)量％以上、更優(yōu)選為0.0005質(zhì)量％以上。隨著金屬防腐蝕劑的含量變多，能夠防止金屬的溶解、能夠提高高度差消除性。另外，研磨用組合物中的金屬防腐蝕劑的含量優(yōu)選為1質(zhì)量％以下、更優(yōu)選為0.5質(zhì)量％以下、進(jìn)一步優(yōu)選為0.1質(zhì)量％以下。隨著金屬防腐蝕劑的含量變少，研磨速度提高。

(3)關(guān)于表面活性劑

本實施方式的研磨用組合物中可以含有表面活性劑。表面活性劑由于通過對研磨后的被研磨面賦予親水性，使研磨后的被研磨面的清洗效率良好，因此能夠防止污物在被研磨面的附著等。對表面活性劑的種類沒有特別限定，可以為陰離子性表面活性劑、陽離子性表面活性劑、兩性表面活性劑及非離子性表面活性劑中的任意種。這些表面活性劑可以單獨(dú)使用1種，也可以組合使用2種以上。

作為陰離子性表面活性劑的例子，可以舉出：聚氧乙烯烷基醚乙酸、聚氧乙烯烷基硫酸酯、烷基硫酸酯、聚氧乙烯烷基醚硫酸、烷基醚硫酸、烷基苯磺酸、烷基磷酸酯、聚氧乙烯烷基磷酸酯、聚氧乙烯磺基琥珀酸、烷基磺基琥珀酸、烷基萘磺酸、烷基二苯基醚二磺酸、及它們的鹽等。

作為陽離子性表面活性劑的例，可以舉出：烷基三甲基銨鹽、烷基二甲基銨鹽、烷基芐基二甲基銨鹽、烷基胺鹽等。

作為兩性表面活性劑的例子，可以舉出：烷基甜菜堿、烷基胺氧化物等。

作為非離子性表面活性劑的例子，可以舉出：聚氧乙烯烷基醚、聚氧亞烷基烷基醚、山梨糖醇酐脂肪酸酯、甘油脂肪酸酯、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯烷基胺、烷基鏈烷醇酰胺等。

研磨用組合物中的表面活性劑的含量優(yōu)選為0.0001質(zhì)量％以上、更優(yōu)選為0.001質(zhì)量％以上。隨著表面活性劑的含量變多，研磨后的被研磨面的清洗效率進(jìn)一步提高。另外，研磨用組合物中的表面活性劑的含量優(yōu)選為1質(zhì)量％以下、更優(yōu)選為0.1質(zhì)量％以下。隨著表面活性劑的含量變少，表面活性劑在被研磨面的殘留量減少、清洗效率進(jìn)一步提高。

(4)關(guān)于水溶性高分子

本實施方式的研磨用組合物中可以含有水溶性高分子。若在研磨用組合物中添加水溶性高分子，則磁性顆粒及研磨顆粒的再分散性變得更良好。對水溶性高分子的種類沒有特別限定，作為具體例，可以舉出：聚苯乙烯磺酸鹽、聚異戊二烯磺酸鹽、聚丙烯酸鹽、聚馬來酸、聚衣康酸、聚乙酸乙烯酯、聚乙烯醇、聚甘油、聚乙烯基吡咯烷酮、異戊二烯磺酸與丙烯酸的共聚物、聚乙烯基吡咯烷酮-聚丙烯酸共聚物、聚乙烯基吡咯烷酮-乙酸乙烯酯共聚物、萘磺酸-福爾馬林縮合物的鹽、二烯丙基胺鹽酸鹽-二氧化硫共聚物、羧甲基纖維素、羧甲基纖維素的鹽、羥乙基纖維素、羥丙基纖維素、α-纖維素、β-纖維素、γ-纖維素、支鏈淀粉、殼聚糖、殼聚糖鹽類。這些水溶性高分子可以單獨(dú)使用1種，也可以組合使用2種以上。

研磨用組合物中的水溶性高分子的含量優(yōu)選為0.0001質(zhì)量％以上、優(yōu)選為0.001質(zhì)量％以上。隨著水溶性高分子的含量變多，磁性顆粒及研磨顆粒的再分散性變得更良好。另外，研磨用組合物中的水溶性高分子的含量優(yōu)選為1質(zhì)量％以下、更優(yōu)選為0.1質(zhì)量％以下。隨著水溶性高分子的含量變少，高分子在被研磨面上的殘留量減少、清洗效率進(jìn)一步提高。

(5)關(guān)于防腐劑、防霉劑

本實施方式的研磨用組合物中可以含有防腐劑、防霉劑。對防腐劑及防霉劑的種類沒有特別限定，作為具體例，可以舉出：2-甲基-4-異噻唑啉-3-酮、5-氯-2-甲基-4-異噻唑啉-3-酮等異噻唑啉系防腐劑、對羥基苯甲酸酯類、苯氧基乙醇等。這些防腐劑及防霉劑可以單獨(dú)使用1種，也可以組合使用2種以上。

9.關(guān)于研磨用組合物的制造方法

對本實施方式的研磨用組合物的制造方法沒有特別限定，例如，可以通過將磁性顆粒、抗氧化劑等各成分在水中攪拌混合來制造。對將各成分混合時的溫度沒有特別限制，優(yōu)選10℃以上且40℃以下，為了提高溶解速度，可以進(jìn)行加熱。另外，對混合時間也沒有特別限定。

或者也可以通過另外分別制備含有磁性顆粒的第1成分和含有水的第2成分，將所述兩成分混合來制造研磨用組合物。此時，抗氧化劑可以包含于第1成分中，也可以包含于第2成分中，也可以包含于兩成分中?；蛘?，可以在第1成分和第2成分的混合物中添加抗氧化劑，也可以將第1成分和第2成分和抗氧化劑同時混合。

若磁性顆粒與水接觸，則會推進(jìn)磁性顆粒的氧化，因此第1成分和第2成分的混合優(yōu)選在研磨對象物的研磨以前進(jìn)行，更優(yōu)選在盡可能接近研磨開始時期的時間點(diǎn)進(jìn)行。具體而言，第1成分和第2成分的混合優(yōu)選在研磨開始時的1周前及之后進(jìn)行、更優(yōu)選在研磨開始時的2天前及之后進(jìn)行、進(jìn)一步優(yōu)選在研磨開始時的24小時前及之后進(jìn)行、特別優(yōu)選在即將開始研磨之前(例如1小時前及之后、30分鐘前及之后)進(jìn)行。

如果在即將開始研磨之前進(jìn)行將第1成分和第2成分混合的工序，則基本不會推進(jìn)磁性顆粒的氧化，因此基本不會發(fā)生研磨用組合物的研磨性能的經(jīng)時降低。因此，如果使用這樣制造的研磨用組合物對研磨對象物進(jìn)行研磨，則能夠以高精度對研磨對象物進(jìn)行精加工的研磨。另外，也能夠?qū)涞漠a(chǎn)生量抑制為少量。進(jìn)而，由于預(yù)先將制備的第1成分和第2成分分開保存，在即將開始研磨之前進(jìn)行混合即可，因此保存穩(wěn)定性非常優(yōu)異、也能長期保存。

10.關(guān)于磁研磨方法

對使用本實施方式的研磨用組合物的研磨對象物的研磨方法沒有特別限定，本實施方式的研磨用組合物通過磁場的施加能夠沿磁感線形成刷狀的磁粒簇，因此可以用于磁研磨方法。

通過施加磁場，在研磨用組合物內(nèi)形成含有磁性顆粒的磁粒簇后，在使磁粒簇接觸研磨對象物的被研磨面的基礎(chǔ)上，使研磨對象物及磁粒簇中的一者或兩者移動，使磁粒簇與研磨對象物的被研磨面滑動接觸。于是，由于磁粒簇與研磨對象物的被研磨面的接觸部位的剪切應(yīng)力，研磨對象物的被研磨面得到研磨。由于磁粒簇也能追隨復(fù)雜的形狀、凹凸形狀而發(fā)生變形，因此不僅能實現(xiàn)平面的研磨，也能實現(xiàn)三維形狀的面的研磨。

此處，參照圖1，對磁研磨方法的一例進(jìn)行說明。圖1中示出的磁研磨裝置具備：用于容納研磨用組合物1的容器10、對容納于容器10中的研磨用組合物1施加磁場的磁場施加部12、用于保持研磨對象物5的保持部14、使與保持部14連結(jié)的自轉(zhuǎn)軸16旋轉(zhuǎn)的第一驅(qū)動部18、可旋轉(zhuǎn)地連接了自轉(zhuǎn)軸16的圓板20、以及使圓板20旋轉(zhuǎn)從而使保持部14公轉(zhuǎn)的第二驅(qū)動部22。

磁場施加部12設(shè)置在設(shè)置于容器10的底部的圓板狀的研磨平板24上，使得能夠?qū)θ菁{于容器10的研磨用組合物1施加磁場。對于研磨平板24，只要能夠?qū)θ菁{于容器10的研磨用組合物1施加磁場，則可以設(shè)置于容器10內(nèi)、也可以設(shè)置于容器10外。對磁場施加部12的構(gòu)成沒有特別限定，例如可以由永磁體、電磁體構(gòu)成。在圖1的例子中，磁場施加部12由永磁體構(gòu)成，在研磨平板24上安裝有多個永磁體。對施加的磁場的強(qiáng)度沒有特別限定，可以以磁場施加部12之中與磁粒簇3接觸的面的表面磁通密度為100mt以上且3000mt以下(即1000高斯以上且300000高斯以下)的方式進(jìn)行調(diào)整。

另外，以磁感線指向相對于研磨平板24的板面呈垂直的方向(以下有時記為“垂直方向”)的方式，以使同種磁極朝向垂直方向的同一方向側(cè)的方式將所有的永磁體安裝于研磨平板24。因此，在研磨用組合物1內(nèi)形成的磁粒簇3在相對于研磨平板24的板面呈垂直的方向上延伸。但是，也可以以磁感線指向相對于研磨平板24的板面呈水平的方向的方式將永磁體安裝于研磨平板24。例如，分成使s極(也可以為n極)朝向垂直方向的一方向側(cè)(例如上方側(cè))而安裝的永磁體和使s極(也可以為n極)朝向垂直方向的另一方向側(cè)(例如下方側(cè))而安裝的永磁體，對于相鄰的永磁體，如果使s極互相指向垂直方向的相反方向，則磁感線會指向相對于研磨平板24的板面呈水平的方向。

將保持于保持部14的研磨對象物5以在與研磨平板24之間隔開垂直方向的間隔而配置。此時，研磨對象物5與研磨平板24之間的垂直方向的間隔為研磨對象物5與磁粒簇3接觸的大小。接著，利用第一驅(qū)動部18使沿垂直方向延伸的自轉(zhuǎn)軸16旋轉(zhuǎn)，并且利用第二驅(qū)動部22使與研磨平板24呈平行的圓板20旋轉(zhuǎn)。由于自轉(zhuǎn)軸16安裝在比圓板20的中心更靠外徑側(cè)，因此通過一邊使自轉(zhuǎn)軸16旋轉(zhuǎn)一邊使圓板20旋轉(zhuǎn)，能夠使研磨對象物5(保持部14)相對于研磨平板24的板面保持平行并且一邊自轉(zhuǎn)、一邊公轉(zhuǎn)。第一驅(qū)動部18和第二驅(qū)動部22例如可以由馬達(dá)構(gòu)成。

通過這樣的研磨對象物5的自轉(zhuǎn)運(yùn)動和公轉(zhuǎn)運(yùn)動，研磨對象物5與磁粒簇3接觸并進(jìn)行相對移動，因此磁粒簇3與研磨對象物5的被研磨面進(jìn)行滑動接觸，從而能以高精度對研磨對象物5的被研磨面進(jìn)行精加工(例如鏡面精加工)。

需要說明的是，作為磁研磨裝置，可以利用cnc磨削裝置。另外，圖1的磁研磨裝置是使研磨對象物5移動但磁場施加部12不移動的構(gòu)成，也可以是與此相反地使磁場施加部12移動但研磨對象物5不移動的構(gòu)成的磁研磨裝置。或者，也可以是使研磨對象物5和磁場施加部12這兩者移動的構(gòu)成的磁研磨裝置。

可以在先實施了重視加工效率的粗精加工/中精加工研磨后，實施重視表面品質(zhì)的精加工研磨等、分多個階段進(jìn)行研磨。

〔實施例〕

以下示出實施例，更具體地對本發(fā)明進(jìn)行說明。首先，關(guān)于表1～6中示出的各種抗氧化劑，調(diào)查抑制作為磁性顆粒的鐵顆粒的氧化的性能和抑制作為磁性顆粒的鐵顆粒的聚集的性能。以下對評價方法進(jìn)行說明。

在抗氧化劑0.25質(zhì)量份、水59.75質(zhì)量份的混合物中加入適量氫氧化鉀或硝酸而將ph調(diào)節(jié)為9.5，進(jìn)而加入平均1次粒徑3μm的鐵顆粒40質(zhì)量份，準(zhǔn)備漿料。

將該漿料400g容納于容量500ml的容器中，在23℃、35℃、43℃各溫度下保存72小時后，用氣體檢測器(rikenkeikico.,ltd.制的gp-1000)測定容器內(nèi)的氣體中的氫氣濃度。將結(jié)果示于表1～6。需要說明的是，將在溫度35℃下保存72小時后的容器內(nèi)的氣體中的氫氣濃度小于0.01體積％的情況記為合格。

接著，將漿料400g容納于容量500ml的容器中，在23℃、35℃、43℃各溫度下保存72小時。然后，由于生成鐵顆粒的聚集沉降物，因此對容器進(jìn)行振蕩，由此對鐵顆粒的聚集沉降物是否破碎并再分散進(jìn)行評價。將結(jié)果示于表1～6。需要說明的是，在表1～6中，將鐵顆粒的聚集沉降物破碎并再分散的情況用符號“○”表示，將未再分散的情況用符號“×”表示。將在溫度35℃保存72小時后生成的聚集沉降物再分散的情況記為合格。

[表1]

[表2]

[表3]

[表4]

[表5]

[表6]

由表1～6可知，對于烯基琥珀酸衍生物、聯(lián)吡啶衍生物、二氮雜菲衍生物、三唑衍生物、苯并三唑衍生物、及分子中不具有碳-碳多重鍵的胺，氫氣的產(chǎn)生少，抑制了磁性顆粒的氧化。另外可知，鐵顆粒的聚集沉降物能再分散。

與此相對，對于作為鐵的防腐蝕劑的通常的磷酸系化合物、苯并噻唑衍生物、在金屬研磨中用作抗氧化劑的含氮化合物(四唑衍生物、吡唑衍生物、咪唑衍生物、吲哚衍生物、肼衍生物)、以往的用于磁研磨的研磨用組合物中所使用的表面活性劑、水溶性高分子等，抑制磁性顆粒的氧化的性能和抑制磁性顆粒的聚集的性能低。

接著，對抗氧化劑的濃度與上述效果(氧化抑制效果和聚集抑制效果)的相關(guān)性進(jìn)行評價。評價方法除了抗氧化劑的濃度不同這點(diǎn)以外，其它與上述同樣。將結(jié)果示于表7。

[表7]

由表7可知，對于烯基琥珀酸衍生物、聯(lián)吡啶衍生物、二氮雜菲衍生物、三唑衍生物、苯并三唑衍生物、及分子中不具有碳-碳多重鍵的胺，濃度越高，上述效果越提高。與此相對，對于以往的用于磁研磨的研磨用組合物中所使用的抗氧化劑，即使提高濃度，也得不到實用上能夠使用的水平的效果。

接著，對組合使用多種抗氧化劑時的效果進(jìn)行評價。評價方法除了使用多種抗氧化劑這點(diǎn)以外，其它與上述同樣。將結(jié)果示于表8。

[表8]

接著，使用各種研磨用組合物對各種研磨對象物進(jìn)行磁研磨，測定研磨速度(單位為μm/分鐘)。另外，對研磨時是否產(chǎn)生氫氣、在研磨后聚集的磁性顆粒是否再分散進(jìn)行調(diào)查。進(jìn)而，對研磨對象物的被研磨面的光澤和損傷進(jìn)行評價。

對于再分散性的評價，收集研磨中使用的研磨用組合物，通過與表1～6的情況同樣的前述方法(保存條件為35℃、72小時)進(jìn)行。然后，將產(chǎn)生的氫氣量小于0.01體積％的情況評價為氫氣“未產(chǎn)生”。另外，將研磨后的研磨用組合物中的磁性顆粒通過振蕩容易再分散的情況評價為再分散性“良好”，將基于振蕩的再分散不充分但能實現(xiàn)沒有問題的程度的分散的情況評價為再分散性“可”，將產(chǎn)生了不容易通過振蕩再分散的聚集的情況評價為再分散性“不良”。

對于研磨速度，用電子天平測量研磨前后的研磨對象物的質(zhì)量，由其差值求出。對于研磨對象物的被研磨面的光澤，將得到鏡面的情況評價為“良好”，將得到鏡面但可觀察到部分起霧的情況評價為“可”，將未得到鏡面的情況評價為“不良”。對于研磨對象物的被研磨面的劃痕，將沒有能夠以目視確認(rèn)的損傷的情況評價為“未產(chǎn)生”，將能夠以目視確認(rèn)的損傷的數(shù)量在5個以內(nèi)的情況評價為“可”，將能夠以目視確認(rèn)的損傷的數(shù)量為6個以上的情況評價為“不良”。

研磨用組合物為通過如下得到的漿料：向磁性顆粒50質(zhì)量份、研磨顆粒11.9質(zhì)量份、抗氧化劑0.157質(zhì)量份、α-纖維素1.25質(zhì)量份、水36.693質(zhì)量份的混合物中加入適量氫氧化鉀或硝酸，將ph調(diào)節(jié)為表9～23中所記載那樣。其中，關(guān)于氧化劑的欄中記載有數(shù)值的實施例，作為氧化劑，僅含有表9～23中示出的量的過氧化氫。另外，關(guān)于水溶性高分子的欄中為空欄的實施例，不含有α-纖維素。

磁性顆粒為羰基鐵或霧化鐵，其平均1次粒徑如表9～23中所記載。研磨顆粒為二氧化硅或氧化鋁，其平均2次粒徑如表9～23中所記載?？寡趸瘎┤绫?～23所示。

需要說明的是，表9～23的ta為1,2,4-三唑，bta為苯并三唑，osaa為n,n-雙(2-羥基乙基)辛烯基琥珀酰胺酸(辛烯基琥珀酸二乙醇酰胺)，btye為2,2’-[[(甲基-1h-苯并三唑-1-基)甲基]亞氨基]二乙醇，pt為1,10-鄰二氮雜菲。

[表9]

[表10]

[表11]

[表12]

[表13]

[表14]

[表15]

[表16]

[表17]

[表18]

[表19]

[表20]

[表21]

[表22]

[表23]

使用這些研磨用組合物進(jìn)行磁研磨。使用的研磨裝置為對eguroltd.制的cnc磨削機(jī)進(jìn)行了改造的裝置，其結(jié)構(gòu)與圖1中示出的裝置同樣。另外，研磨對象物為具有陽極氧化皮膜的鋁制的試驗片、黃銅c2600制的試驗片、黃銅c2801制的試驗片、sus304制的試驗片、sus316制的試驗片、鋁6063制的試驗片、或聚亞苯基砜(ppsu)制的試驗片。這些試驗片為邊長60mm、厚度8mm的正方形狀的板。研磨條件如下。

將研磨對象物為具有陽極氧化皮膜的鋁制的試驗片的情況下的試驗結(jié)果示于表9～13，將為黃銅c2600制的試驗片的情況下的試驗結(jié)果示于表14，將為黃銅c2801制的試驗片的情況下的試驗結(jié)果示于表15，將為sus304制的試驗片的情況下的試驗結(jié)果示于表16，將為sus316制的試驗片的情況下的結(jié)果示于表17，將為鋁6063制的試驗片的情況下的結(jié)果示于表18～21，將為聚亞苯基砜(ppsu)制的試驗片的情況下的結(jié)果示于表22、23。

<研磨條件>

研磨對象物與研磨平板表面的距離：2mm

公轉(zhuǎn)速度：10rpm

自轉(zhuǎn)速度：250rpm

研磨用組合物的用量：600g

研磨時間：30分鐘

永磁體的表面磁通密度：350mt

如表7～23所示，使用了各實施例的研磨用組合物的情況下，研磨速度高，并且能夠防止氫氣的產(chǎn)生，進(jìn)而，聚集的磁性顆粒的再分散性良好。進(jìn)而，作為磁性顆粒的鐵粉的平均1次粒徑為10μm以下的情況下，研磨對象物的被研磨面的光澤特別良好，得到了不產(chǎn)生損傷的適宜的被研磨面。與此相對，可知使用了比較例的研磨用組合物的情況下，產(chǎn)生氫氣，不能防止磁性顆粒的氧化。另外，聚集的磁性顆粒缺乏再分散性。