專利名稱:鍍膜用轉(zhuǎn)盤及鍍膜機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種鍍膜裝置，尤其涉及一種鍍膜用轉(zhuǎn)盤及鍍膜機(jī)。
背景技術(shù)：
通常，照相機(jī)、數(shù)碼相機(jī)、照相手機(jī)鏡頭模組等光學(xué)產(chǎn)品的各種光學(xué)鏡片(Lens)、濾光片等光學(xué)元件，因?yàn)橐苊馊肷涔庠诮?jīng)過每個元件時，部分入射光反射而導(dǎo)致的光能損耗，需要在每一個光學(xué)鏡片的兩面鍍抗反射膜，或是在濾光片的一面鍍上可濾掉某區(qū)段光的薄膜(如紅外濾光片，紫外濾光片)，而在另一面鍍上抗反射膜，通過這些光學(xué)薄膜以增加光學(xué)元件的抗反射性能，防止光能損耗。
所述光學(xué)薄膜的鍍膜方式多以熱蒸鍍或?yàn)R鍍方式進(jìn)行。當(dāng)光學(xué)元件兩面都需鍍上光學(xué)薄膜時，其鍍膜過程中通常包括抽真空、加熱、一面鍍膜、冷卻、破真空、手動翻轉(zhuǎn)光學(xué)元件夾具、抽真空、加熱、另一面鍍膜、冷卻、破真空、取出光學(xué)元件等步驟。該鍍膜過程中包括兩次抽真空、加熱、鍍膜、冷卻以及破真空過程，占去相當(dāng)多的制程時間，所以如何避免所述過程的重復(fù)進(jìn)行，降低制程的時間，對于兩面鍍膜的元件量產(chǎn)來講是極為重要的課題。
有鑒于此，提供一種自動翻面的鍍膜用轉(zhuǎn)盤及鍍膜機(jī)實(shí)為必要。

發(fā)明內(nèi)容
以下，將以實(shí)施例說明一種自動翻面的鍍膜用轉(zhuǎn)盤及鍍膜機(jī)。
一種鍍膜用轉(zhuǎn)盤，包括一個轉(zhuǎn)盤本體；設(shè)置在該轉(zhuǎn)盤本體上的至少一個安裝口；至少一個基片夾具，每個基片夾具對應(yīng)收容在一個安裝口內(nèi)；每個基片夾具對應(yīng)設(shè)有一個馬達(dá)，該馬達(dá)用于驅(qū)動對應(yīng)的基片夾具翻轉(zhuǎn)。
以及，一種鍍膜機(jī)，其包括一個真空容器；設(shè)置在該真空容器內(nèi)的至少一個靶；及與靶相對設(shè)置的鍍膜用轉(zhuǎn)盤。其中，該鍍膜用轉(zhuǎn)盤具有一個轉(zhuǎn)盤本體；設(shè)置在該轉(zhuǎn)盤本體上的至少一個安裝口；至少一個基片夾具，每個基片夾具對應(yīng)收容在一個安裝口內(nèi)；每個基片夾具對應(yīng)設(shè)有一個馬達(dá)，該馬達(dá)用于驅(qū)動對應(yīng)的基片夾具翻轉(zhuǎn)。
現(xiàn)有技術(shù)相比較，所述基片夾具通過馬達(dá)控制可相對于所述轉(zhuǎn)盤本體翻轉(zhuǎn)，將現(xiàn)有技術(shù)中光學(xué)元件夾具的手動翻轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)可控電動化，避免由于現(xiàn)有技術(shù)中的手動翻轉(zhuǎn)而導(dǎo)致的真空抽氣模組、加熱器、鍍膜靶及充氣孔等元件的重復(fù)使用，減小設(shè)備損耗，降低設(shè)備成本。

圖1是本發(fā)明較佳實(shí)施例的鍍膜用轉(zhuǎn)盤的示意圖。
圖2是本發(fā)明較佳實(shí)施例的鍍膜用轉(zhuǎn)盤局部的拆解示意圖。
圖3是本發(fā)明較佳實(shí)施例的鍍膜機(jī)的示意圖。
具體實(shí)施方式
下面，結(jié)合附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
如圖1和圖2所示，本發(fā)明較佳實(shí)施例提供的鍍膜用轉(zhuǎn)盤1包括轉(zhuǎn)盤本體11；設(shè)置在該轉(zhuǎn)盤本體11上的至少一個安裝口12；至少一個基片夾具13，每個基片夾具13分別對應(yīng)收容在一個安裝口12內(nèi)；每個基片夾具13對應(yīng)設(shè)有一個馬達(dá)15，該馬達(dá)15用于驅(qū)動對應(yīng)的基片夾具13翻轉(zhuǎn)。
所述轉(zhuǎn)盤本體11用導(dǎo)熱性能良好的金屬圓盤制成，如銅圓盤、鋁圓盤、鉑圓盤、鉛圓盤或鋅圓盤等。
所述安裝口12貫通轉(zhuǎn)盤本體11，其大小要求基片夾具13在所述安裝口12內(nèi)翻轉(zhuǎn)時不與轉(zhuǎn)盤本體11碰撞，可為圓形、正方形、長方形或其它軸線對稱形狀。
所述基片夾具13用于夾持基片2，可采用螺絲擰固、卡扣或鎖固等方式夾持。該基片夾具13可為圓形框體、部分圓弧框體、正方形框體、長方形框體、棱形框體、“∠”形框體、“”形框體或“|”形體等。本實(shí)施例中，基片夾具13為長方形框體。
所述基片夾具13和轉(zhuǎn)盤本體11之間通過轉(zhuǎn)軸14連接。所述馬達(dá)15套設(shè)在轉(zhuǎn)軸14上，用于驅(qū)動該轉(zhuǎn)軸14旋轉(zhuǎn)。本實(shí)施例中，轉(zhuǎn)軸14設(shè)在基片夾具13的軸線位置。轉(zhuǎn)軸14還可設(shè)置在使基片夾具13和轉(zhuǎn)盤本體11之間達(dá)成軸連接的其他位置，如基片夾具13的一端，此時，安裝口12應(yīng)具有足夠基片夾具13和基片2翻轉(zhuǎn)的空間。
另外，該轉(zhuǎn)軸14一端和所述基片夾具13可旋轉(zhuǎn)連接，另一端和轉(zhuǎn)盤本體11固接；或者該轉(zhuǎn)軸14一端和所述基片夾具13固接，另一端和轉(zhuǎn)盤本體11可旋轉(zhuǎn)連接；或者該轉(zhuǎn)軸14兩端均和所述基片夾具13及轉(zhuǎn)盤本體11可旋轉(zhuǎn)連接。
所述馬達(dá)15可間接控制基片夾具13翻轉(zhuǎn)。該馬達(dá)15由一個電池模組(圖未示)驅(qū)動，而無須另外的電源，此外在該電池模組的開關(guān)上裝設(shè)一個無線裝置，利用遙控的方式來控制電池模組工作，從而可實(shí)現(xiàn)對基片夾具13翻轉(zhuǎn)的自動控制。
請參閱圖3，本圖中僅對一個夾持在基片夾具13上的基片2進(jìn)行表示。使用上述鍍膜用轉(zhuǎn)盤1的鍍膜機(jī)100包括一個真空容器9；設(shè)置在該真空容器9內(nèi)的至少一個靶3；及與靶3相對設(shè)置的鍍膜用轉(zhuǎn)盤1。
所述鍍膜機(jī)100還包括設(shè)置在真空容器9底部的真空抽氣模塊4，用于使真空容器9內(nèi)形成真空環(huán)境；帶動鍍膜用轉(zhuǎn)盤1旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)桿7；設(shè)置在真空容器9底部的加熱器6，用于加熱基片2；充氣孔5，用于向真空容器9內(nèi)充氣。
當(dāng)使用上述鍍膜機(jī)100對基片2進(jìn)行兩面鍍膜時，具體進(jìn)行下述操作。
步驟1，將多個具有相對的第一表面21和第二表面22的基片2分別用基片夾具13夾持固定，此時，所述基片2的第一表面21和靶(即陰極)3相對。
步驟2，將真空容器9密封，用真空抽氣模組4對真空容器9抽氣，使真空容器9內(nèi)部形成真空環(huán)境；鍍膜用轉(zhuǎn)盤1在旋轉(zhuǎn)桿7的作用下，在水平面內(nèi)以旋轉(zhuǎn)桿7為軸心勻速旋轉(zhuǎn)；用加熱器6對基片2加熱。
步驟3，待所有基片2被均勻加熱后，給靶3接上電壓使其放出電子8，該電子8沉積在所述基片2的第一表面21上形成鍍膜。
步驟4，對靶3斷電，遙控馬達(dá)15驅(qū)動基片夾具13翻轉(zhuǎn)。從而，所述基片2的第二表面22和靶3相對。
步驟5，給靶3接上電壓使其放出電子8，該電子8沉積在所述基片2的第二表面22上形成鍍膜。
步驟6，關(guān)掉電源，由充氣孔5充氣進(jìn)真空容器9內(nèi)，冷卻后取出兩相對表面21、22均鍍有鍍膜的基片2。
由上述操作步驟可以看出，由于通過馬達(dá)15控制基片夾具13帶動基片2進(jìn)行翻轉(zhuǎn)，使用本實(shí)施例提供的鍍膜用轉(zhuǎn)盤1的鍍膜機(jī)100對基片2進(jìn)行兩面鍍膜時，只需要進(jìn)行抽真空、加熱、一面鍍膜、翻轉(zhuǎn)基片夾具13、另一面鍍膜、冷卻、破真空及取出光學(xué)元件等步驟，即可實(shí)現(xiàn)基片2的兩面鍍膜，省略現(xiàn)有技術(shù)中重復(fù)的冷卻、破真空、抽真空及加熱等步驟，可減小設(shè)備重復(fù)損耗，降低設(shè)備使用成本，同時，可降低制程時間，提高生產(chǎn)效率。
可以理解的是，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思做出其它各種相應(yīng)的改變和變形，而所有這些改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求
的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種鍍膜用轉(zhuǎn)盤，其包括一個轉(zhuǎn)盤本體及至少一個基片夾具，其特征在于，該鍍膜用轉(zhuǎn)盤還包括設(shè)置在該轉(zhuǎn)盤本體上的至少一個安裝口，每個基片夾具對應(yīng)收容在一個安裝口內(nèi)，每個基片夾具對應(yīng)設(shè)有一個馬達(dá)，該馬達(dá)用于驅(qū)動對應(yīng)的基片夾具翻轉(zhuǎn)。
2.如權(quán)利要求
1所述的鍍膜用轉(zhuǎn)盤，其特征在于，所述轉(zhuǎn)盤本體選自銅圓盤、鋁圓盤、鉑圓盤、鉛圓盤或鋅圓盤。
3.如權(quán)利要求
1所述的鍍膜用轉(zhuǎn)盤，其特征在于，所述安裝口為一軸線對稱形狀。
4.如權(quán)利要求
3所述的鍍膜用轉(zhuǎn)盤，其特征在于，所述安裝口選自圓形、正方形或長方形。
5.如權(quán)利要求
1所述的鍍膜用轉(zhuǎn)盤，其特征在于，所述馬達(dá)由一個電池模組驅(qū)動。
6.如權(quán)利要求
5所述的鍍膜用轉(zhuǎn)盤，其特征在于，所述電池模組具有一個開關(guān)，該開關(guān)由一個無線裝置控制。
7.如權(quán)利要求
1所述的鍍膜用轉(zhuǎn)盤，其特征在于，所述基片夾具和所述轉(zhuǎn)盤本體之間通過轉(zhuǎn)軸連接。
8.如權(quán)利要求
7所述的鍍膜用轉(zhuǎn)盤，其特征在于，所述馬達(dá)套設(shè)在所述轉(zhuǎn)軸上，用于驅(qū)動該轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)。
9.一種鍍膜機(jī)，其包括一個真空容器；設(shè)置在該真空容器內(nèi)的至少一個靶；及與靶相對設(shè)置的鍍膜用轉(zhuǎn)盤，該鍍膜用轉(zhuǎn)盤具有一個轉(zhuǎn)盤本體及至少一個基片夾具，其特征在于，該鍍膜用轉(zhuǎn)盤還包括設(shè)置在該轉(zhuǎn)盤本體上的至少一個安裝口，每個基片夾具對應(yīng)收容在一個安裝口內(nèi)，每個基片夾具對應(yīng)設(shè)有一個馬達(dá)，該馬達(dá)用于驅(qū)動對應(yīng)的基片夾具翻轉(zhuǎn)。
10.如權(quán)利要求
9所述的鍍膜機(jī)，其特征在于，所述基片夾具和所述轉(zhuǎn)盤本體之間通過轉(zhuǎn)軸連接。
專利摘要
本發(fā)明提供一種鍍膜用轉(zhuǎn)盤，其包括一個轉(zhuǎn)盤本體；設(shè)置在該轉(zhuǎn)盤本體上的至少一個安裝口；至少一個基片夾具，每個基片夾具對應(yīng)收容在一個安裝口內(nèi)；每個基片夾具對應(yīng)設(shè)有一個馬達(dá)，該馬達(dá)用于驅(qū)動對應(yīng)的基片夾具翻轉(zhuǎn)。本發(fā)明提供的鍍膜用轉(zhuǎn)盤避免手動翻轉(zhuǎn)而導(dǎo)致的真空抽氣模組、加熱器、鍍膜靶及充氣孔等元件的重復(fù)使用，從而，減小設(shè)備損耗，降低設(shè)備成本。另外，本發(fā)明還提供使用上述鍍膜用轉(zhuǎn)盤的鍍膜機(jī)。
文檔編號G02B1/10GK1995444SQ200610032815
公開日2007年7月11日 申請日期2006年1月6日
發(fā)明者李欣和, 董才士 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan