用于掩膜板的框架和掩膜板的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示面板制造領(lǐng)域，尤其涉及一種用于掩膜板的框架、以及包括該框架的掩膜板。
【背景技術(shù)】
[0002]在半導(dǎo)體制造工藝中，經(jīng)常需要用到蒸鍍技術(shù)。以有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示屏的制備為例，需要采用高精度金屬掩膜板(Fine Metal Mask，F(xiàn)MM)，將蒸鍍材料在其下方加熱，使材料向上蒸發(fā)或升華，并透過掩膜板設(shè)計(jì)好的開口沉積或?yàn)R射到待蒸鍍基板的表面，以形成所需要的膜層圖案。
[0003]圖1和圖2是現(xiàn)有蒸鍍用掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖，所述掩膜板通常包括框架11、掩膜12、遮擋膜13等，掩膜12和遮擋膜13均焊接在承載它們的框架11上。其中，多個(gè)掩膜12需要與框架11實(shí)現(xiàn)組合，即張網(wǎng)，遮擋膜13需要焊接在相鄰掩膜12之間的空隙14處，起到遮擋空隙14的作用，以防止材料從空隙14中蒸發(fā)到基板上造成混色。
[0004]在張網(wǎng)過程中，先把遮擋膜13焊接到框架11上，然后再焊接掩膜12，框架11上會(huì)預(yù)留放置掩膜12以及遮擋膜13的凹槽，為了保證整個(gè)掩膜板的平整度，框架11上留給遮擋膜13的凹槽會(huì)比留給掩膜12的凹槽深，如圖2所示。
[0005]通常，掩膜12的厚度非常薄，在圖2所示的現(xiàn)有技術(shù)中，掩膜12靠近空隙14的邊緣和角部沒有框架11的支撐，也沒有焊接到框架11上，這樣容易使掩膜12在該處發(fā)生翹邊、卷曲等不良現(xiàn)象。并且，在焊接掩膜12時(shí)，需要在掩膜12上施加張力，以將掩膜12展平，同時(shí)利用焊接工具進(jìn)行焊接，如果焊接時(shí)張力不合適，還會(huì)使掩膜12發(fā)生褶皺，從而使蒸鍍良率下降。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的目的在于提供一種用于掩膜板的框架和掩膜板，以防止掩膜邊緣處產(chǎn)生翅曲或者裙皺，提尚蒸鍛良率。
[0007]為解決上述技術(shù)問題，作為本發(fā)明的第一個(gè)方面，提供一種用于掩膜板的框架，包括框架本體、以及沿厚度方向貫穿所述框架本體的框架通孔，所述框架本體上形成有用于設(shè)置掩膜的第一凹槽，所述第一凹槽具有連續(xù)的底面，所述第一凹槽的內(nèi)側(cè)設(shè)置有第二凹槽，所述第二凹槽的底面低于所述第一凹槽的底面，所述第二凹槽用于設(shè)置遮擋膜，以使得所述遮擋膜的位置對(duì)應(yīng)于相鄰所述掩膜之間的空隙的位置。
[0008]優(yōu)選地，所述框架還包括至少一個(gè)支撐部，所述支撐部形成在所述第二凹槽上，所述支撐部的位置對(duì)應(yīng)于相鄰所述掩膜之間的空隙的位置，且所述支撐部的上表面與所述第一凹槽的底面相平齊，以使得所述掩膜的靠近所述空隙的邊緣固定在所述支撐部上。
[0009]優(yōu)選地，所述框架上沿每個(gè)所述空隙的延伸方向設(shè)置有一個(gè)所述支撐部，所述支撐部上設(shè)置有下凹部，所述下凹部用于容納所述遮擋膜，并且使所述遮擋膜與所述支撐部共同遮擋所述空隙。
[0010]優(yōu)選地，所述框架上沿每個(gè)所述空隙的延伸方向設(shè)置有兩個(gè)所述支撐部，兩個(gè)所述支撐部之間具有間隔，所述間隔用于容納所述遮擋膜，并且使所述遮擋膜與所述支撐部共同遮擋所述空隙。
[0011]作為本發(fā)明的第二個(gè)方面，還提供一種掩膜板，所述掩膜板包括本發(fā)明所提供的上述框架、設(shè)置在所述第一凹槽中的掩膜、以及設(shè)置在所述第二凹槽中的遮擋膜，所述掩膜的圖形包括掩膜通孔，所述掩膜通孔位于所述框架通孔限定的區(qū)域內(nèi)，所述遮擋膜的位置對(duì)應(yīng)于相鄰所述掩膜之間的空隙的位置。
[0012]優(yōu)選地，所述框架還包括至少一個(gè)支撐部，所述支撐部形成在所述第二凹槽上，所述支撐部的位置對(duì)應(yīng)于相鄰所述掩膜之間的空隙的位置，且所述支撐部的上表面與所述第一凹槽的底面相平齊，所述掩膜的靠近所述空隙的邊緣固定在所述支撐部上，所述掩膜的其他邊緣固定在所述第一凹槽的底面上。
[0013]優(yōu)選地，所述框架上沿每個(gè)所述空隙的延伸方向設(shè)置有一個(gè)所述支撐部，所述支撐部上設(shè)置有下凹部，所述遮擋膜的一部分位于所述下凹部中，并且所述遮擋膜與所述支撐部共同遮擋所述空隙。
[0014]優(yōu)選地，所述框架上沿每個(gè)所述空隙的延伸方向設(shè)置有兩個(gè)所述支撐部，兩個(gè)所述支撐部之間具有間隔，所述遮擋膜的一部分位于所述間隔中，并且所述遮擋膜與所述支撐部共同遮擋所述空隙。
[0015]優(yōu)選地，所述框架、所述掩膜和所述遮擋膜均由殷鋼或殷鋼合金制成，所述掩膜焊接在所述第一凹槽中，所述遮擋膜焊接在所述第二凹槽中。
[0016]優(yōu)選地，所述遮擋膜的延伸方向與所述空隙的延伸方向垂直。
[0017]本發(fā)明使掩膜的多條邊緣和各個(gè)角部均固定在框架上，避免了掩膜邊角的懸空狀態(tài)，從而減少了掩膜的翹邊和褶皺不良，提升了掩膜板的品質(zhì)，提高了蒸鍍良率。
【附圖說(shuō)明】
[0018]附圖是用來(lái)提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，并且構(gòu)成說(shuō)明書的一部分，與下面的【具體實(shí)施方式】一起用于解釋本發(fā)明，但并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的限制。
[0019]圖1是現(xiàn)有掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖2是圖1中沿A-A方向的剖視圖；
[0021]圖3是本發(fā)明實(shí)施例提供的框架的結(jié)構(gòu)示意圖之一；
[0022]圖4是本發(fā)明實(shí)施例提供的框架的結(jié)構(gòu)示意圖之二 ；
[0023]圖5是本發(fā)明實(shí)施例提供的框架的結(jié)構(gòu)示意圖之三；
[0024]圖6是本發(fā)明實(shí)施例提供的掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖之一；
[0025]圖7是圖6中沿B-B方向的剖視圖；
[0026]圖8是圖6中沿C-C方向的剖視圖；
[0027]圖9是本發(fā)明實(shí)施例提供的掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖之二。
[0028]在附圖中，11:現(xiàn)有技術(shù)中的框架；12:掩膜；121:掩膜通孔；13:遮擋膜；14:空隙；21:本發(fā)明中的框架；211:框架本體；212:框架通孔；213:第一凹槽；214:支撐部；215:第二凹槽；51:下凹部；52:間隔。
【具體實(shí)施方式】
[0029]以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解的是，此處所描述的【具體實(shí)施方式】?jī)H用于說(shuō)明和解釋本發(fā)明，并不用于限制本發(fā)明。
[0030]本發(fā)明首先提供一種用于掩膜板的框架，如圖3所示，框架21包括框架本體211、以及沿厚度方向貫穿框架本體211的框架通孔212，框架本體211上形成有用于設(shè)置掩膜的第一凹槽213，第一凹槽213具有連續(xù)的底面，第一凹槽213的內(nèi)側(cè)設(shè)置有第二凹槽215，第二凹槽215的底面低于第一凹槽213的底面，第二凹槽215用于設(shè)置遮擋膜，以使得所述遮擋膜的位置對(duì)應(yīng)于相鄰所述掩膜之間的空隙的位置。
[0031 ]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明使掩膜的多條邊緣和各個(gè)角部均能夠固定在第一凹槽213上，避免了掩膜邊緣的懸空狀態(tài)，從而減少了掩膜邊角的翹邊和褶皺不良，提高了蒸鍍良率。
[0032]進(jìn)一步地，如圖4所示，框架21還包括至少一個(gè)支撐部214，支撐部214形成在第二凹槽215上，支撐部214的位置對(duì)應(yīng)于相鄰所述掩膜之間的空隙的位置，且支撐部214的上表面與第一凹槽214的底面相平齊，以使得所述掩膜的靠近所述空隙的邊緣固定在支撐部214上。
[0033]在本發(fā)明中，支撐部214的設(shè)置使得掩膜的各個(gè)邊緣均能夠固定在框架21上，進(jìn)一步防止了掩膜邊緣的翹邊和褶皺不良，提高了蒸鍍良率。
[0034]圖4是框架21中設(shè)置有支撐部214的第一種實(shí)施方式，框架21上沿每個(gè)所述空隙的延伸方向設(shè)置有一個(gè)支撐部214(為了便于理解，這里以每個(gè)框架21承載兩個(gè)掩膜為例進(jìn)行說(shuō)明，兩個(gè)所述掩膜之間具有一個(gè)空隙，因此圖4中示出一個(gè)支撐部214)，支撐部214上設(shè)置有下凹部51，下凹部51用于容納所述遮擋膜，并且使所述遮擋膜與支撐部214共同遮擋所