述空隙。
[0035]圖5是框架21中設置有支撐部214的第二種實施方式，如圖5所示，框架21上沿每個所述空隙的延伸方向設置有兩個支撐部214(為了便于理解，這里以每個框架21承載兩個掩膜為例進行說明，兩個所述掩膜之間具有一個空隙，因此圖5中示出相對應于該空隙的兩個支撐部214)，兩個支撐部214之間具有間隔52，間隔52用于容納所述遮擋膜，并且使所述遮擋膜與支撐部214共同遮擋所述空隙。
[0036]以上僅是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，在本發(fā)明中，對應于相鄰掩膜之間的每個空隙的支撐部214的個數(shù)也可以是兩個以上，相應地，遮擋膜的個數(shù)也可以是多個，只要能夠滿足遮擋相鄰掩膜之間的空隙防止蒸鍍過程中發(fā)生混色即可。
[0037]本發(fā)明還提供了一種掩膜板，如圖6所示，所述掩膜板包括本發(fā)明所提供的上述框架21、設置在第一凹槽213中的掩膜12、以及設置在第二凹槽215中的遮擋膜13，掩膜12的圖形包括掩膜通孔121，掩膜通孔121位于框架通孔限定的區(qū)域內(nèi)，遮擋膜13的位置對應于相鄰掩膜12之間的空隙14的位置。
[0038]圖7和圖8分別是圖6沿B-B和C-C方向的剖視圖，從圖7和圖8中可以看出，與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明中掩膜12的多條邊緣和各個角部均能夠固定在框架21上，從而降低了掩膜12的邊角發(fā)生翹邊和褶皺不良的概率，提升了掩膜板的質(zhì)量，提高了蒸鍍良率。
[0039]進一步地，如圖9所示，框架21還包括至少一個支撐部214，支撐部214形成在第二凹槽215上，支撐部214的位置對應于相鄰掩膜12之間的空隙14的位置，且支撐部214的上表面與第一凹槽213的底面相平齊，掩膜12的靠近空隙14的邊緣固定在支撐部214上，掩膜12的其他邊緣固定在第一凹槽213的底面上。
[0040]本發(fā)明增大了掩膜12與框架21的接觸面積，使掩膜12的各條邊緣均能夠搭接在框架21上，降低了掩膜12發(fā)生翹曲和褶皺的概率，提升了掩膜板的質(zhì)量。
[0041]相應地，當所述掩膜板采用圖4所示的框架時，框架21上沿每個空隙14的延伸方向設置有一個支撐部214，支撐部214上設置有下凹部51，遮擋膜13的一部分位于下凹部51中，并且遮擋膜13與支撐部214共同遮擋空隙14。
[0042]當所述掩膜板采用圖5所示的框架時，框架21上沿每個空隙14的延伸方向設置有兩個支撐部214，兩個支撐部214之間具有間隔52，遮擋膜13的一部分位于間隔52中，并且遮擋膜13與支撐部214共同遮擋空隙14。以上兩種實施方式最終形成的掩膜板可以參考圖9。
[0043]優(yōu)選地，框架21、掩膜12和遮擋膜13均由殷鋼或殷鋼合金制成，掩膜12通過焊接的方法設置在第一凹槽213中，遮擋膜13也通過焊接的方法設置在第二凹槽215中。
[0044]通常，掩膜12和遮擋膜13的厚度在幾十微米量級，上述掩膜板的制作流程包括:首先，對遮擋膜13進行張網(wǎng)焊接，一邊拉伸一邊將遮擋膜13焊接在第二凹槽215中；然后對掩膜12進行張網(wǎng)焊接，一邊拉伸一邊將掩膜12焊接在第一凹槽213中。當掩膜板的框架21具有支撐部214時，需要將掩膜12的靠近空隙14的邊緣焊接在支撐部214上，以進一步提高掩膜板的焊接質(zhì)量，防止掩膜12發(fā)生卷曲等不良現(xiàn)象。
[0045]為了降低加工制造的難度，遮擋膜13的延伸方向優(yōu)選與空隙14的延伸方向垂直，如圖9所示。
[0046]本發(fā)明使掩膜12的各個邊角均能夠固定在框架21上，從而降低了掩膜12的邊角發(fā)生翹曲和褶皺不良的概率，提升了掩膜板的品質(zhì)。
[0047]可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領域內(nèi)的普通技術人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發(fā)明的保護范圍。
【主權項】
1.一種用于掩膜板的框架，包括框架本體、以及沿厚度方向貫穿所述框架本體的框架通孔，所述框架本體上形成有用于設置掩膜的第一凹槽，其特征在于，所述第一凹槽具有連續(xù)的底面，所述第一凹槽的內(nèi)側(cè)設置有第二凹槽，所述第二凹槽的底面低于所述第一凹槽的底面，所述第二凹槽用于設置遮擋膜，以使得所述遮擋膜的位置對應于相鄰所述掩膜之間的空隙的位置。
2.根據(jù)權利要求1所述的框架，其特征在于，所述框架還包括至少一個支撐部，所述支撐部形成在所述第二凹槽上，所述支撐部的位置對應于相鄰所述掩膜之間的空隙的位置，且所述支撐部的上表面與所述第一凹槽的底面相平齊，以使得所述掩膜的靠近所述空隙的邊緣固定在所述支撐部上。
3.根據(jù)權利要求2所述的框架，其特征在于，所述框架上沿每個所述空隙的延伸方向設置有一個所述支撐部，所述支撐部上設置有下凹部，所述下凹部用于容納所述遮擋膜，并且使所述遮擋膜與所述支撐部共同遮擋所述空隙。
4.根據(jù)權利要求2所述的框架，其特征在于，所述框架上沿每個所述空隙的延伸方向設置有兩個所述支撐部，兩個所述支撐部之間具有間隔，所述間隔用于容納所述遮擋膜，并且使所述遮擋膜與所述支撐部共同遮擋所述空隙。
5.一種掩膜板，其特征在于，包括權利要求1至4中任意一項所述的框架、設置在所述第一凹槽中的掩膜、以及設置在所述第二凹槽中的遮擋膜，所述掩膜的圖形包括掩膜通孔，所述掩膜通孔位于所述框架通孔限定的區(qū)域內(nèi)，所述遮擋膜的位置對應于相鄰所述掩膜之間的空隙的位置。
6.根據(jù)權利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述框架還包括至少一個支撐部，所述支撐部形成在所述第二凹槽上，所述支撐部的位置對應于相鄰所述掩膜之間的空隙的位置，且所述支撐部的上表面與所述第一凹槽的底面相平齊，所述掩膜的靠近所述空隙的邊緣固定在所述支撐部上，所述掩膜的其他邊緣固定在所述第一凹槽的底面上。
7.根據(jù)權利要求6所述的掩膜板，其特征在于，所述框架上沿每個所述空隙的延伸方向設置有一個所述支撐部，所述支撐部上設置有下凹部，所述遮擋膜的一部分位于所述下凹部中，并且所述遮擋膜與所述支撐部共同遮擋所述空隙。
8.根據(jù)權利要求6所述的掩膜板，其特征在于，所述框架上沿每個所述空隙的延伸方向設置有兩個所述支撐部，兩個所述支撐部之間具有間隔，所述遮擋膜的一部分位于所述間隔中，并且所述遮擋膜與所述支撐部共同遮擋所述空隙。
9.根據(jù)權利要求5至8中任意一項所述的掩膜板，其特征在于，所述框架、所述掩膜和所述遮擋膜均由殷鋼或殷鋼合金制成，所述掩膜焊接在所述第一凹槽中，所述遮擋膜焊接在所述第二凹槽中。
10.根據(jù)權利要求7或8所述的掩膜板，其特征在于，所述遮擋膜的延伸方向與所述空隙的延伸方向垂直。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種用于掩膜板的框架和掩膜板，所述框架包括框架本體、以及沿厚度方向貫穿所述框架本體的框架通孔，所述框架本體上形成有用于設置掩膜的第一凹槽，所述第一凹槽具有連續(xù)的底面，所述第一凹槽的內(nèi)側(cè)設置有第二凹槽，所述第二凹槽的底面低于所述第一凹槽的底面，所述第二凹槽用于設置遮擋膜，以使得所述遮擋膜的位置對應于相鄰所述掩膜之間的空隙的位置。本發(fā)明使掩膜的多條邊緣和各個角部均固定在框架上，避免了掩膜邊角的懸空狀態(tài)，從而減少了掩膜的翹邊和褶皺不良，提升了掩膜板的品質(zhì)，提高了蒸鍍良率。
【IPC分類】C23C14-04, C23C14-24
【公開號】CN104611668
【申請?zhí)枴緾N201510047911
【發(fā)明人】馬利飛, 李周炫
【申請人】京東方科技集團股份有限公司
【公開日】2015年5月13日
【申請日】2015年1月29日