易碎空心微球拋光機及拋光方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及拋光技術領域，具體而言，涉及易碎空心微球拋光機及拋光方法。
【背景技術】
[0002]拋光機是用于對產品進行拋光的電動工具，應用較為廣泛，目前，公用的微球拋光機主要為盤式拋光機和滾筒拋光機。
[0003]盤式拋光機適用于軸承生產過程中滾珠的拋光使用，對滾珠進行拋光時，將軸承的滾珠放入底部旋轉的“V”形槽內，頂盤固定不轉但可以施加壓力，主要用于防止微球跑出磨盤外和控制微球拋光尺寸、精度，在拋光過程中需要通入拋光液，這種拋光機只適合于對機械強度較高的微球使用。
[0004]滾筒拋光機在使用時，將拋光液、助磨球以及待研磨球一起放入圓柱形的容器中，通過旋轉，在離心力的作用下讓微球與助磨球產生相對滑動從而實現(xiàn)拋光。低密度的空心微球會漂浮在拋光液的液面上，導致無法進行拋光，并且，由于助磨球和待研磨球之間存在相互碰撞，無法對機械強度較差且易碎的空心微球進行拋光。
[0005]現(xiàn)有技術中沒有專門針對易碎、機械強度較差的空心微球進行處理的拋光機。

【發(fā)明內容】

[0006]本發(fā)明提供了一種易碎空心微球拋光機及拋光方法，使上述問題得到改善。
[0007]本發(fā)明是這樣實現(xiàn)的:
[0008]—種易碎空心微球拋光機，包括:
[0009]工作臺，所述工作臺的頂端設置有腔體；
[0010]設置在所述腔體內部或上方的底部盤和頂部盤，所述底部盤的轉動軸心線和所述頂部盤的轉動軸心線均豎向設置，所述底部盤和所述頂部盤分別通過電機帶動，所述頂部盤設置在所述底部盤的上方，所述頂部盤設置有至少一個用于容納待研磨球的豎向通孔；
[0011]電控系統(tǒng)，所述電控系統(tǒng)與所述電機電連接且用于控制所述電機的轉速。
[0012]工作臺為微球拋光提供一個平臺，腔體可以用于容納使用后的拋光液等；底部盤和頂部盤均設置在腔體的內部或上方是為了確保廢棄的拋光液可以流入腔體內，豎向通孔用于容納待研磨球，底部盤和頂部盤均可以發(fā)生轉動，待研磨球在頂部盤的帶動下繞頂部盤的軸心線轉動，并且，待研磨球的底部與底部盤接觸，底部盤轉動時使待研磨球原地轉動，底部盤和頂部盤共同作用帶動待研磨球做復合運動，速度變化和軌跡變化提供待研磨球隨機性的相對滾動摩擦來實現(xiàn)拋光過程。電控系統(tǒng)用于控制電機的啟動和停止以及電機的轉速，從而實現(xiàn)底部盤和頂部盤的轉速發(fā)生變化，底部盤和頂部盤可以通過不同的電機帶動。此處的軌跡變化是指待研磨球在底部盤上的運動軌跡，當然，也可以有其它解釋。
[0013]進一步地，所述底部盤的頂面與所述頂部盤的底面平行，所述底部盤的半徑大于所述頂部盤的直徑，所述底部盤的轉動軸心線與所述頂部盤的轉動軸心線之間的間距大于所述頂部盤的半徑。
[0014]底部盤和頂部盤偏心設置，確保待研磨球的變速和變軌跡運動可以實現(xiàn)，即使底部盤的轉速和頂部盤的轉速固定，由于底部盤的各部分的角速度相等，則各點處的線速度不等，進而使得復合運動始終為變速運動；底部盤的直徑比頂部盤直徑的2倍大，并且頂部盤位于底部盤的軸心線的一側，避免待研磨球的運動軌跡產生混亂，待研磨球的變速和變軌跡均可以平緩地進行。
[0015]進一步地，還包括至少一組加載球組，每個所述加載球組包括至少一個用于向待研磨球施加拋光壓的加載球，所述加載球嵌設在所述豎向通孔內且位于所述待研磨球的上方。
[0016]市面上的微球拋光機多采用液壓或氣壓等施加拋光壓，壓力調節(jié)精度較差；本申請中的拋光機采用加載球對待研磨球施加拋光壓，光滑的加載球不會對待研磨球的表面造成損傷。
[0017]進一步地，所述豎向通孔為至少三個，所述豎向通孔的直徑相等或不相等，所述豎向通孔的上方設置有拋光液出口，每個所述加載球組均包括多個直徑相等且質量不等的加載球。
[0018]拋光液出口向豎向通孔內持續(xù)地或間斷地或一次性地輸入拋光液，不同直徑的豎向通孔與不同的加載球組對應，每個加載球組中的加載球的直徑均相等，確保加載球與對應的豎向通孔的直徑相匹配，質量不等是為了根據(jù)需要對不同的待研磨球施加不同的拋光壓，有效提高拋光精度，直徑相等的加載球的質量不等可以通過不同的材料實現(xiàn)，也可以通過加載球的不同的空心度實現(xiàn)。
[0019]進一步地，所述底部盤和所述工作臺之間、所述頂部盤和所述工作臺之間均通過高精密軸承轉動連接，所述頂部盤的頂端和所述工作臺之間設置有用于調節(jié)所述底部盤和所述頂部盤的間距的絲桿。
[0020]高精密軸承可以控制底部盤和頂部盤的軸向及徑向的跳動幅度，兩者均小于30微米，確保待研磨球不會跳出豎向通孔，提高研磨效率和精度；絲桿用于調節(jié)底部盤和頂部盤之間的間距和平行度，步進精度優(yōu)選為15微米，在滿足待研磨球不會掉落的前提下確保拋光液及時被排出。
[0021]進一步地，所述頂部盤由聚四氟乙稀制成。
[0022]聚四氟乙烯制作的頂部盤的材質較軟、摩擦系統(tǒng)非常小，進而使得頂部盤的豎向通孔不會劃傷待研磨球的表面及底部的拋光布，提高研磨精度。
[0023]進一步地，所述腔體的底部設置有排液通道，所述排液通道的底部設置有盛液裝置。
[0024]腔體內的廢棄拋光液可以沿排液通道流出至盛液裝置內并進行收集處理，處理方式較為簡單。
[0025]進一步地，所述盛液裝置包括盛液盤和支撐架，所述盛液盤設置在所述排液通道的底部，所述盛液盤的底側設置有連接桿，所述支撐架包括支撐桿和至少三個支撐腳，所述連接桿的底端和所述支撐桿的頂端均設置有外螺紋并能夠通過螺紋直接頭可拆卸連接；
[0026]所述支撐桿的內部設置有階梯孔和壓桿，所述壓桿分為第一段桿和第二段桿，所述第一段桿的直徑大于所述第二段桿的直徑，所述階梯孔的臺階處與所述第一段桿之間設置有復位壓簧，所述連接桿的底端能夠將所述壓桿壓入所述階梯孔內，所述壓桿的底部直徑由上到下逐漸減小，所述支撐桿的側壁上貫穿設置有至少三個壓塊，所述支撐腳與所述支撐桿的底端外側鉸接且設置有復位扭簧，所述壓塊的兩端分別抵住所述壓桿和所述支撐腳，所述支撐腳的軸心線與所述支撐桿的軸心線之間的夾角為0° -60°。
[0027]在廢液收集過程中，需要將盛液盤的位置和高度固定，支撐桿與連接桿可以拆卸，支撐架拆卸后便于保存。壓桿設置在支撐桿的階梯孔內并可以沿支撐桿的軸心線方向滑動，復位壓簧使得壓桿脫離階梯孔，此時壓桿的直徑較小的部分接觸壓塊；當壓桿的直徑較小的部分抵住壓塊時，壓塊朝向支撐桿的內部收縮，支撐腳在復位扭簧的作用下可以與支撐桿的外側貼合收攏，當壓桿的直徑較大的部分抵住壓塊時，壓塊朝向支撐桿的外部伸出并抵住支撐腳使其伸展，支撐腳的軸心線與支撐桿的軸心線的相對轉動角度到達最大值時，支撐腳被完全固定且對支撐桿形成多點支撐。當支撐桿與連接桿通過螺紋直接頭固定時，轉動桿將第一段桿擠壓進入階梯孔內，壓桿向下運動并將壓塊朝向支撐桿的外部擠出，復位壓簧被壓縮，支撐架的各部分被固定，支撐架使盛液盤懸空，盛液盤