蒸鍍掩膜板及其制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種蒸鍍掩膜板及其制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]有機電致發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting D1des，簡稱0LED)是自發(fā)光器件，不需要背光源，外觀輕、薄，而傳統(tǒng)的液晶顯示器(LCD)需要背光源才能工作，外觀尺寸較厚。有機發(fā)光二極管顯示器的功耗低，視角寬，屏幕響應(yīng)快，是最能符合人們未來對顯示器功能要求的技術(shù)。因此，有機發(fā)光二極管有望在不久的將來取代液晶顯示器，具有很高的市場潛力。
[0003]有機小分子發(fā)光二極管在制作過程中，目前較成熟的技術(shù)是采用真空蒸鍍技術(shù)，在器件制備過程中，有機材料會淀積在位于蒸發(fā)源上方的基板上，為形成特有的圖案，在基板下方緊貼有掩膜版，掩膜版上留有預(yù)先設(shè)計排版好的開口，最終有機材料會通過掩膜板上的開口區(qū)域，淀積到基板上面。
[0004]高PPI產(chǎn)品的制作是市場發(fā)展的方向，在蒸鍍段，高PPI產(chǎn)品往往受限于掩膜板及蒸鍍的工藝，特別是掩膜板的開口極限及厚度限制，以及蒸鍍段陰影效應(yīng)，這些因素共同導(dǎo)致蒸鍍段產(chǎn)品隨著PPI增高而開口率卻越來越小，并且像素密度越高，混色風(fēng)險也越來越大。
[0005]在蒸鍍段之前，由于來料玻璃基板制已經(jīng)作有Spacer (墊塊)凸起的支撐，其主要作用為支撐封裝的玻璃蓋板，而在蒸鍍段，由于掩膜板與玻璃基板之間存在間隙，該間隙容易引起相鄰像素混色，影響蒸鏈品質(zhì)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]基于此，針對上述問題，有必要提供一種掩膜板及其制作方法，減小混色風(fēng)險，提尚蒸鏈品質(zhì)。
[0007]—種蒸鍍掩膜板，用于顯示面板上像素區(qū)域的蒸鍍，所述顯示面板包括基板，設(shè)置于所述基板上的像素限定層，及設(shè)置于所述像素限定層上的墊塊，所述像素限定層將所述基板劃分成若干個子像素區(qū)域，所述蒸鍍掩膜板包括掩膜板本體及形成在所述掩膜板本體上的蒸鍍孔，所述蒸鍍孔貫穿所述掩膜板本體，所述掩膜板本體包括減薄區(qū)及圍繞所述減薄區(qū)設(shè)置的有效區(qū)，所述減薄區(qū)位于所述掩膜板本體對應(yīng)所述顯示面板上所述墊塊的位置，所述減薄區(qū)的厚度小于所述有效區(qū)的厚度。
[0008]在其中一個實施例中，所述減薄區(qū)的大小與所述墊塊匹配。
[0009]在其中一個實施例中，所述減薄區(qū)的厚度與所述有效區(qū)的厚度之差為3?8毫米。
[0010]在其中一個實施例中，所述減薄區(qū)圍繞所述蒸鍍孔連續(xù)設(shè)置。
[0011]在其中一個實施例中，所述子像素區(qū)域包括蒸鍍子像素區(qū)域及非蒸鍍子像素區(qū)域，所述有效區(qū)位于所述掩膜板本體對應(yīng)所述顯示面板上的所述非蒸鍍像素區(qū)域。
[0012]在其中一個實施例中，所述有效區(qū)的厚度為25?35微米。
[0013]在其中一個實施例中，所述蒸鍍孔呈陣列式分布。
[0014]—種采用上述的蒸鍍掩膜板的蒸鍍方法，包括如下步驟:
[0015]將所述蒸鍍掩膜板與所述基板設(shè)置有所述像素限定層的一側(cè)貼合，使所述蒸鍍孔位于所述基板上蒸鍍的子像素區(qū)域，所述墊塊容置于所述減薄區(qū)與所述有效區(qū)圍成的容置空間內(nèi)，所述掩膜板本體中所述有效區(qū)與所述顯示面板中對應(yīng)的所述像素限定層抵接。
[0016]—種如上述蒸鍍掩膜板的制作方法，包括如下步驟:
[0017]通過第一次構(gòu)圖工藝，在金屬基板的第一表面形成減薄區(qū)；同時，
[0018]通過第二次構(gòu)圖工藝，在所述金屬基板與所述第一表面相對設(shè)置的第二表面上形成貫穿所述金屬基板的蒸鍍孔，得到蒸鍍掩膜板。
[0019]在其中一個實施例中，所述第一次構(gòu)圖工藝具體包括如下步驟:
[0020]在金屬基板的第一表面形成光刻膠層，通過曝光、顯影，在所述光刻膠層上形成圖形化的開口，以裸露出部分所述金屬基板；
[0021]對所述金屬基板的所述第一表面對應(yīng)所述開口的位置進行刻蝕，以使所述金屬基板的所述第一表面形成所述減薄區(qū)。
[0022]上述蒸鍍掩膜板，由于掩膜板本體中對應(yīng)基板的非蒸鍍子像素區(qū)域的位置將非蒸鍍的子像素區(qū)域，消除了蒸鍍掩膜板與基板之間的間隙，提高了貼合的緊密程度，減少了混色風(fēng)險，提高了蒸鍍品質(zhì)；而且，還可以減小蒸鍍掩膜板與蒸鍍像素區(qū)域之間的距離，減少了蒸鍍的陰影效應(yīng)影響范圍，提高了子像素的有效蒸鍍面積，有效提高了開口率；此外，由于蒸鍍掩膜板與顯示面板可形成相互嵌合的圖案，顯示面板中的墊塊可對蒸鍍掩膜板的位置進行約束，避免了蒸鍍溫度升高導(dǎo)致蒸鍍掩膜板與基板之間產(chǎn)生的熱變形錯位。
【附圖說明】
[0023]圖1為本發(fā)明一實施例中蒸鍍時掩膜板與玻璃基板的貼合結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024]圖2為本發(fā)明另一實施例中蒸鍍掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖3為本發(fā)明又一實施例中蒸鍍掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖4為本發(fā)明另一實施例中蒸鍍時掩膜板與玻璃基板的貼合結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027]圖5A?5F為本發(fā)明一實施例中蒸鍍掩膜板的制作過程中各步驟的截面示意圖。
【具體實施方式】
[0028]為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的【具體實施方式】做詳細的說明。在下面的描述中闡述了很多具體細節(jié)以便于充分理解本發(fā)明。但是本發(fā)明能夠以很多不同于在此描述的其它方式來實施，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本發(fā)明內(nèi)涵的情況下做類似改進，因此本發(fā)明不受下面公開的具體實施例的限制。
[0029]請參閱圖1，其為本發(fā)明一實施例中蒸鍍掩膜板與顯示面板配合的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0030]蒸鍍掩膜板10，用于顯示面板20上像素區(qū)域的蒸鍍，顯示面板20包括基板210，設(shè)置于基板210上的像素限定層(PDL層)220，及設(shè)置于像素限定層220上的墊塊230，像素限定層220將基板210劃分成若干個子像素區(qū)域211，掩膜板包括:掩膜板本體100及形成在掩膜板本體100上的蒸鍍孔110，蒸鍍孔110貫穿掩膜板本體100，掩膜板本體100包括減薄區(qū)120及圍繞減薄區(qū)120設(shè)置的有效區(qū)130，掩膜板本體100對應(yīng)顯示面板20上的墊塊230的位置設(shè)置有減薄區(qū)120，減薄區(qū)120位于掩膜板本體100對應(yīng)顯示面板20上墊塊230的位置，減薄區(qū)120的厚度小于有效區(qū)130的厚度。
[0031]請參閱圖1，像素限定層220將基板210劃分成依次排列的若干子像素區(qū)域211，子像素區(qū)域211包括蒸鍍子像素區(qū)域211a及非蒸鍍子像素區(qū)域211b，例如，像素限定層220將基板210劃分成依次排列的紅色子像素區(qū)域、綠色子像素區(qū)域、藍色子像素區(qū)域，例如，顯示面板20中蒸鍍的子像素區(qū)域211a為綠色子像素區(qū)域，蒸鍍掩膜板10中蒸鍍孔110對應(yīng)綠色子像素區(qū)域，蒸鍍時，綠色有機材料從蒸鍍孔110穿過，淀積在綠色子像素區(qū)域。具體的，蒸鍍孔110呈陣列式分布，與基板210上呈陣列式分布的蒸鍍子像素區(qū)域一一對應(yīng)。
[0032]請一并參閱圖2，掩膜板本體100中對應(yīng)基板210的墊塊230的位置進行刻蝕處理以形成減薄區(qū)120，減薄區(qū)120的大小與墊塊230匹配，換言之，當(dāng)蒸鍍掩膜板10與顯示面板20貼合時，墊塊230容置于減薄區(qū)120與有效區(qū)130圍成的容置空間內(nèi)。具體的，減薄區(qū)120的厚度與有效區(qū)的厚度之差為3?8微米。優(yōu)選的，減薄區(qū)120中被刻蝕掉的厚度大于墊塊230的厚度，例如，墊塊230的厚度為3微米，減薄區(qū)120中被刻蝕掉的厚度為5微米，以保證墊塊230完全容置于減薄區(qū)120與有效區(qū)120形成的容置空間內(nèi)。這樣，蒸鍍掩膜板與基板之間可以緊密貼合，而且，墊塊與減薄區(qū)之間形成嵌合結(jié)構(gòu)，可以對蒸鍍掩膜板的位置進行約束，避免蒸鍍溫度升高導(dǎo)致蒸鍍掩膜板10與基板210之間產(chǎn)生的熱變形錯位。
[0033]又如，請一并參閱圖3，減薄區(qū)120圍繞蒸鍍孔110連續(xù)設(shè)置，有效區(qū)130位于掩膜板本體100對應(yīng)顯示面板20上的非蒸鍍像素區(qū)域211b，換言之，掩膜板本體100中對應(yīng)基板210上的非蒸鍍的子像素區(qū)域211b的部分的厚度大于掩膜板本體100靠近蒸鍍孔110邊緣處的厚度。即，對掩膜板本體100對應(yīng)基板210中非蒸鍍子像素的外周位置進行刻蝕處理，以使掩膜板本體100中對應(yīng)基板200中的紅色、藍色子像素區(qū)域的位置130形成凸起結(jié)構(gòu)，例如，所述凸起結(jié)構(gòu)具有圓形或環(huán)形截面，即，掩膜板本體100中對應(yīng)基板200中的紅色、藍色子像素區(qū)域的位置的厚度大于其外周位置的厚度。具體的，有效區(qū)130的厚度為25?35微米，即，掩膜板本體100中對應(yīng)基板210上紅色、藍色子像素區(qū)域的部分的厚度為25?35微米，掩膜板本體100中對應(yīng)基板210上的紅色、藍色子像素區(qū)域的位置的厚度與掩膜板本體100靠近蒸鍍孔110邊緣處的厚度之差為3?8微米，即，掩膜板本體110中對應(yīng)基板210中紅色、藍色子像素區(qū)域形成3?8微米的凸起。通過控制蒸鍍掩膜板中減薄區(qū)的厚度，在消除蒸鍍掩膜板與基板之間的間隙的同時，還可避免由于減薄區(qū)的厚度過小，降低蒸鍍掩膜板的機械強度，縮短蒸鍍掩膜板的使用壽命