地為5至200nm，尤其10至lOOnm，或者20至50nmo
[0026]第一涂層優(yōu)選包括，直接地在該金屬(特別地銀)層下方或在該任選的下阻隔層下方，潤濕層，其功能是提高該金屬(特別地銀)層的濕潤和粘結(jié)。氧化鋅，尤其當(dāng)用鋁摻雜的氧化鋅，被證明在這方面是特別有利的。
[0027]第一涂層還可以包含，直接地在該潤濕層下方，光滑層，其是部分地或者完全地?zé)o定形的混合氧化物(因此具有非常低的粗糙度)，其功能是促進(jìn)潤濕層沿著優(yōu)先的結(jié)晶取向的生長，這通過外延現(xiàn)象促進(jìn)銀結(jié)晶。該光滑層優(yōu)選由至少兩種選自以下的金屬的混合氧化物組成:Sn、Zn、In、Ga和Sb。優(yōu)選的氧化物是銻摻雜的氧化銦錫。
[0028]在第一涂層中，該潤濕層或該任選的光滑層優(yōu)選被直接地沉積在第一電介質(zhì)層上。第一電介質(zhì)層優(yōu)選地被直接地沉積在該基材上。為了最佳地調(diào)節(jié)該堆疊體的光學(xué)性質(zhì)(尤其在反射中的外觀)，作為替代方案，第一電介質(zhì)層可以被沉積在另一個氧化物或氮化物層(例如二氧化鈦層)上。
[0029]在第二涂層內(nèi)，第二電介質(zhì)層可以被直接地沉積在該金屬(特別地銀)層上，或優(yōu)選在上阻隔涂層上，或在其它用于調(diào)節(jié)該堆疊體的光學(xué)性質(zhì)的氧化物或氮化物層上。例如，氧化鋅層，尤其用鋁摻雜的氧化鋅層，或氧化錫層，可以被設(shè)置在上阻隔層和第二電介質(zhì)層之間，該第二電介質(zhì)層優(yōu)選地由氮化硅制成。氧化鋅，尤其鋁-摻雜的氧化鋅，允許改善在該金屬(特別地銀)和該上層之間的粘合作用。
[0030]因此，該涂層(在處理之前或之后)優(yōu)選包括至少一個Zn0/Ag/Zn0序列。該氧化鋅可以用鋁摻雜。下阻隔層可以被設(shè)置在銀層和下鄰層之間。替代地或累積地，上阻隔層可以被設(shè)置在銀層和下鄰層之間。
[0031]最后，第二涂層在上面可以有頂層，有時在本領(lǐng)域中被稱為“外涂層”。該堆疊體的最后層，因此與環(huán)境空氣接觸，其用來保護(hù)堆疊體不受任何機(jī)械侵蝕(劃痕等等)或者化學(xué)侵蝕。這種外涂層通常是非常薄的以便不干擾該堆疊體在反射中的外觀(它的厚度典型地為l-5nm)。它優(yōu)選基于氧化鈦或混合氧化錫鋅，其尤其用銻摻雜，以亞化學(xué)計量的形式進(jìn)行沉積。
[0032]該堆疊體可以包含一個或多個金屬(特別地銀)層，尤其兩或三個銀層。當(dāng)多個金屬(特別地銀)層存在時，上面介紹的一般結(jié)構(gòu)可以進(jìn)行重復(fù)。在這種情況下，與給出的金屬(特別地銀)層的有關(guān)的第二涂層(并因此位于這種金屬層的上面)通常與第一涂層(其與下一個金屬層有關(guān))重合。
[0033]基于氧化鈦的薄層具有是自清潔的特殊性質(zhì)，自清潔通過在紫外輻射作用下促進(jìn)有機(jī)化合物的退化和在水流作用下除去無機(jī)污物(粉塵)來進(jìn)行。它們的物理厚度優(yōu)選地為2至50nm，特別地5至20nm，包括端值。
[0034]如上所述的涂層的結(jié)構(gòu)同樣對于該涂層在激光處理之前和在所述激光處理之后都是有效的。實際上，金屬層的反潤濕不改變層的順序。然而，金屬層的反潤濕改變了該涂層的厚度，其變得不規(guī)則的:在用金屬涂覆的區(qū)域中是較厚的，在未涂覆的區(qū)域中是較薄的。在后者區(qū)域中，金屬的反潤濕也具有通過金屬層(例如潤濕層)預(yù)先分離的層與上阻隔層接觸。
[0035]根據(jù)本發(fā)明，至少一個激光裝置發(fā)射以至少一根線的形式聚焦在所述涂層上的激光輻射。所述或者每根線在下文中將被稱為"激光線"。
[0036]激光通常由包含一個或多個激光源以及用于成形并重定向的光學(xué)器件的組件組成。
[0037]該激光源典型地是激光二極管或者纖維或者盤形激光器。激光二極管允許經(jīng)濟(jì)地實現(xiàn)相對于電源功率的高功率密度(對于小的體積而言)。纖維激光器的體積是甚至更小的，并且獲得的線功率密度可以是甚至更高的，然而具有更大的成本。
[0038]產(chǎn)生自激光源的輻射可以是連續(xù)的或者脈沖的，優(yōu)選是連續(xù)的。當(dāng)該輻射是脈沖的時候，重復(fù)頻率有利地是至少10kHz，特別地15kHz，甚至20kHz，以便與所使用的高行進(jìn)速度是可相容的。
[0039]該激光輻射的波長優(yōu)選在200至2000nm，特別地500至1500nm范圍內(nèi)。在至少選自808nm、880nm、915nm、940nm或者980nm的波長發(fā)射的高功率激光二極管已經(jīng)證明是特別適合的，銀和金令人滿意地吸收這種類型輻射。
[0040]該用于成形和重定向的光學(xué)裝置優(yōu)選包含透鏡和反射鏡，并且用作為用于輻射的定位、均勻化和聚焦的工具。
[0041]定位工具的目的是必要時沿著線設(shè)置由激光源發(fā)射的輻射。它們優(yōu)選包含反射鏡。均勻化工具的目的是使激光源的空間輪廓重疊以獲得沿著整個線均勻的線功率密度。均勻化工具優(yōu)選包含允許使入射光束分離為二次光束并且使二次光束再組合為均勻線的透鏡。輻射的聚焦工具允許使輻射以具有希望長度和寬度的線的形式聚焦在待處理的涂層上。聚焦工具優(yōu)選包含聚光透鏡。
[0042]所述或者每根線具有長度和寬度。術(shù)語線的“長度”理解為表示該線的在該涂層的表面上進(jìn)行測量的最大維度，和術(shù)語“寬度”理解為表示在相對于最大維度的方向橫交的方向中的維度。按照在激光領(lǐng)域中的習(xí)慣，該線的寬度w對應(yīng)于在該光束的軸(在那里輻射強(qiáng)度為最大值)和點(diǎn)(在那里，輻射強(qiáng)度等于最大強(qiáng)度乘以Ι/e2)之間的距離(沿著這種橫交方向)。如果激光線的縱向軸被稱為X，可以沿著這種軸定義寬度分布，稱為w(x)。
[0043]所述或者每根激光線的平均寬度優(yōu)選為至少35微米，特別地在40至100微米或者40至70微米范圍中。在整個本文中，術(shù)語“平均”理解為表示算術(shù)平均值。在該線的整個長度上，寬度分布是窄的以避免任何處理不均勻性。因此，在最大寬度和最小寬度之間的差值優(yōu)選為該平均寬度的值的最多10%。這種數(shù)字優(yōu)選為最多5%甚至3%。
[0044]所述或者每根激光線的長度優(yōu)選為至少10cm或者20cm，特別地在30至100cm，特別地30至75厘米，甚至30至60cm的范圍內(nèi)。例如，對于具有3.3m的寬度的基材，可以使用11根具有30厘米長度的線。
[0045]該用于成形和重定向的光學(xué)裝置，特別地定位工具可以手動地或者借助于允許遠(yuǎn)距離地調(diào)節(jié)它們的位置的調(diào)節(jié)器進(jìn)行調(diào)節(jié)。這些調(diào)節(jié)器(典型地壓電電動機(jī)或者墊塊(cales))可以手動地進(jìn)行控制和/或自動地進(jìn)行調(diào)節(jié)。在后者情況下，優(yōu)選使調(diào)節(jié)器與檢測器以及與反饋回路連接。
[0046]至少一部分激光組件，甚至所有激光組件，優(yōu)選被布置在密封盒子中，該盒子有利地進(jìn)行冷卻，尤其進(jìn)行通風(fēng)，以便確保激光組件的熱穩(wěn)定性。
[0047]激光組件優(yōu)選被安裝在稱為“橋”的基于金屬元素，典型地由鋁制成的剛性結(jié)構(gòu)上。該結(jié)構(gòu)優(yōu)選不包含大理石片。該橋優(yōu)選與輸送工具平行地進(jìn)行設(shè)置使得所述或者每根激光線的焦平面保持與待處理的基材的表面平行。優(yōu)選，該橋包括至少四個腳，其高度可以分別地進(jìn)行調(diào)節(jié)以確保在任何情況下平行定位。該調(diào)節(jié)可以通過位于每個腳的發(fā)動機(jī)手動地或者自動地(通過與距離傳感器相連)提供。該橋的高度可以進(jìn)行改變(手動地或者自動地)以考慮待處理的基材的厚度并且以因此保證該基材的平面與所述或者每根激光線的焦平面重合。
[0048]所述或者每個薄金屬層的反潤濕可以通過作用于激光的線功率密度和/或基材的行進(jìn)速度而獲得。在相同的線功率密度時，對于低于閾值的行進(jìn)速度將獲得該反潤濕。相反地，在相同的行進(jìn)速度時，對于高于閾值的線功率密度，將獲得該反潤濕。
[0049]對于給定的涂層(特別地給定的吸收作用)，反潤濕將從一定的在線功率密度(必要時除以占空比的平方根)和行進(jìn)速度的平方根之間的比率值開始而獲得。
[0050]這些閾值取決于多種因素:這種金屬層的種類，它的厚度，堆疊體的層的類型和它們的厚度。對于給定的涂層，可以容易地通過逐漸提高激光的功率或者通過降低行進(jìn)速度直至觀察到幾何圖案的出現(xiàn)來確定適當(dāng)?shù)墓β驶蛘咝羞M(jìn)速度。低于最小功率或高于最大速度(對于獲得反潤濕而言)，該金屬層保持連續(xù)的，和該處理首先具有改善金屬層的結(jié)晶和它的電子性質(zhì)和低發(fā)射率性質(zhì)的效果。
[0051 ]特別地對于包含具有大約10nm的物理厚度的單一銀層的堆疊體，在線功率密度和行進(jìn)速度的平方根之間的比率有利地為至少13或者14，特別地14至15W.min1/2.cm—V2。
[0052]除以該激光源的占空比(rapportcyclique)的平方根的線功率密度優(yōu)選為至少300ff/cm，有利地350或者400W/cm，特別地450W/cm，甚至500W/cm甚至550W/cm。除以該占空比的平方根的線功率密度甚至有利地為至少600W/cm，特別地800W/cm，甚至1000W/cm。當(dāng)激光輻射是連續(xù)的時候，占空比等于1，使得該數(shù)字對應(yīng)于線功率密度。線功率密度在使所述或者每根激光線聚焦在涂層上的位置上進(jìn)行測量。它可以通過沿著該線設(shè)置功率檢測器(例如量熱式功率計，特別地如來自Coherent Inc公司的Beam Finder功率計)進(jìn)行測量。該功率有利地在所述或