者每根線的整個(gè)長(zhǎng)度上均勻地進(jìn)行分配。優(yōu)選，在最高功率和最低功率之間的差值為低于該平均功率的10%。
[0053]提供給該涂層的除以該占空比的平方根的能量密度優(yōu)選為至少20J/cm2，甚至30J/cm2。還是在這里，當(dāng)該激光輻射是連續(xù)的時(shí)候，該占空比等于1。
[0054]該基材的行進(jìn)速度有利地為至少4m/min，特別地5m/min甚至6m/min或者7m/min，或8m/min甚至9m/min或者10m/min。根據(jù)某些實(shí)施方案，該基材的行進(jìn)速度可以是至少12m/min或者15m/min，特別地20m/min甚至25或者30m/min。如上所指出，允許獲得該金屬層的反潤(rùn)濕的行進(jìn)速度取決于該堆疊體，但是可以容易地進(jìn)行測(cè)定。為了確保處理是盡可能均勻的，該基材的行進(jìn)速度在該處理期間相對(duì)于它的額定值為改變最多10%(在相對(duì)方面)，特別地2%甚至1%。
[0055]為了增強(qiáng)該處理的有效性，優(yōu)選的是，使該透射穿過(guò)該基材的和/或被涂層反射的(主要)激光輻射的至少一部分被重定向在所述基材的方向中以形成至少一個(gè)二次激光輻射，其優(yōu)選在與主激光輻射相同位置上沖擊該基材，有利地具有相同的聚焦深度和相同的輪廓。所述或者每種二次激光輻射的形成有利地使用僅僅包括選自反射鏡、棱鏡和透鏡的光學(xué)元件的光學(xué)組裝件，特別地由兩個(gè)反射鏡和透鏡或者由棱鏡和透鏡組成的光學(xué)組裝件。通過(guò)回收該損失的主要輻射的至少一部分和通過(guò)使它重定向朝向基材，該熱處理由此得到顯著地改善。選擇使用透射穿過(guò)該基材的主要輻射部分(“透射”方式)或者被該涂層反射的主要輻射部分(“反射”方式)或者任選地選擇使用該兩者取決于該涂層的性質(zhì)和該激光福射的波長(zhǎng)。
[0056]在該熱處理期間該涂層經(jīng)受的溫度優(yōu)選為至少500°C，特別地600°C，或者700°C。該反潤(rùn)濕通常不伴隨有該金屬的熔化，而是由于原子的迀移率的熱活化提高。
[0057]優(yōu)選地，在該熱處理期間，在與被涂覆面相反的一面上的基材溫度不超過(guò)100°C，特別地50°C甚至30°C。
[0058]激光線的數(shù)目可以是至少3或者4，甚至5，甚至6，或者7，甚至8，甚至9，甚至10或者11，與要處理的基材的寬度有關(guān)。激光線的數(shù)目?jī)?yōu)選地為3至11(包括端值)，特別地為5至10(包括端值)。
[0059]優(yōu)選地，設(shè)置該激光線使得可以處理該堆疊體的整個(gè)表面。根據(jù)激光線的尺寸可以設(shè)想多種布置。
[0060]所述或者每根激光線優(yōu)選與該基材的行進(jìn)方向垂直地進(jìn)行設(shè)置，或者傾斜地進(jìn)行設(shè)置。該激光線通常是彼此平行的。不同激光線可以同時(shí)地或者以時(shí)間延后方式處理該基材。舉例來(lái)說(shuō)，該激光線可以以V形，以交錯(cuò)行形式或以某一角度進(jìn)行設(shè)置。
[0061]該激光線可以與該基材的行進(jìn)方向垂直的行形式進(jìn)行布置。行的數(shù)目是例如至少2，甚至3。有利地，行的數(shù)目不大于3，以限制激光處理區(qū)的占地面積(emprise au sol)。
[0062]為了保證該基材在其整體上經(jīng)受該處理的影響，優(yōu)選地設(shè)置激光線使得存在部分重疊，即某些區(qū)域(小尺寸，典型地低于10cm或者lcm的尺寸)被處理至少兩次。
[0063]在該基材的行進(jìn)方向中，在處理相鄰區(qū)域的兩根激光線之間的距離優(yōu)選地使得該部分重疊區(qū)域具有時(shí)間返回接近于環(huán)境溫度的溫度以避免損害涂層。典型地，在處理相鄰區(qū)域的兩根激光線之間的距離有利地是在該激光線下的層的一個(gè)點(diǎn)行進(jìn)的距離的至少三倍。
[0064]或者，該激光線可以被設(shè)置在同一根線上(S卩，行的數(shù)目是1)。在這種情況下，優(yōu)選地選擇允許在涂層處獲得連續(xù)并均勻的激光線的輪廓。
[0065]該基材可以使用任何機(jī)械傳送工具，例如使用平移地運(yùn)動(dòng)的帶、輥或者托盤(pán)進(jìn)行移動(dòng)。該傳送系統(tǒng)允許控制和調(diào)節(jié)該位移速度。該輸送工具優(yōu)選包括剛性機(jī)架和多個(gè)輥。該輥的節(jié)距有利地在50至300mm的范圍內(nèi)。該輥優(yōu)選包含金屬環(huán)，典型地由鋼制成的，用塑料包帶覆蓋。該輥優(yōu)選地被安裝在具有降低間隙的托架上，典型地以每托架三個(gè)輥的比例進(jìn)行安裝。為了確保該輸送平面的完美平坦性，每個(gè)輥的位置有利地是可調(diào)節(jié)的。該輥優(yōu)選地使用由至少一個(gè)發(fā)動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)的傳動(dòng)齒輪或者鏈條，優(yōu)選切線鏈條進(jìn)行運(yùn)動(dòng)。
[0066]如果該基材用柔性有機(jī)聚合材料制成的話，它可以使用呈一系列輥形式的薄膜前進(jìn)系統(tǒng)進(jìn)行移動(dòng)。在這種情況下，平坦性可以通過(guò)適當(dāng)選擇在輥之間的距離進(jìn)行確保，同時(shí)考慮基材的厚度(并因此它的柔韌性)和該熱處理可以具有對(duì)可能的下垂的產(chǎn)生的影響。
[0067]當(dāng)然，該基材和該激光線的所有相對(duì)位置是可能的，只要該基材的表面可以被適當(dāng)?shù)卣丈洹８ǔ５?，基材將水平地或者基本上水平地進(jìn)行布置，但是它還可以垂直地進(jìn)行布置，或者以任何可能的傾斜度進(jìn)行布置。當(dāng)基材水平地進(jìn)行布置時(shí)，激光線通常進(jìn)行設(shè)置以便處理該基材的上面。該激光線還可以處理該基材的下面。在這種情況下，該基材傳送系統(tǒng)應(yīng)該允許熱量通過(guò)到達(dá)要處理的區(qū)域。這是例如當(dāng)使用傳送輥時(shí)的情況:因?yàn)樵撦伿欠珠_(kāi)的，可以在位于在兩個(gè)連續(xù)輥之間的區(qū)域中設(shè)置該激光線。
[0068]當(dāng)該基材的兩個(gè)面要進(jìn)行處理時(shí)，可以使用數(shù)個(gè)位于該基材的任一面的激光線，無(wú)論基材是在水平的、垂直的或者任何傾斜的位置中。這些激光線可以是相同的或者不同的，特別地它們的波長(zhǎng)可以是不同的，尤其適合于每個(gè)要處理的涂層。
[0069]根據(jù)本發(fā)明的激光裝置可以被集成到層沉積作業(yè)線中，例如磁場(chǎng)增強(qiáng)的陰極濺射沉積作業(yè)線(磁控管方法)或化學(xué)氣相沉積(CVD)作業(yè)線，尤其等離子體-增強(qiáng)的化學(xué)氣相沉積(PECVD)作業(yè)線，在真空下或在大氣壓下的化學(xué)氣相沉積(AP-PECVD)。通常，該作業(yè)線包括基材的搬運(yùn)裝置，沉積單元，光控制裝置和堆疊裝置。例如基材在傳送輥上運(yùn)行，連續(xù)地在每個(gè)裝置或每個(gè)單元前面通過(guò)。
[0070]該激光裝置優(yōu)選位于剛好在該涂層沉積單元之后，例如在該沉積單元的出口處。該被涂覆的基材因此可以在已經(jīng)沉積該涂層之后，在該沉積單元的出口和在光控制裝置之前，或在該光控制裝置之后并且在該基材堆疊裝置之前在線進(jìn)行處理。
[0071]在某些情況下，該激光裝置還可以被集成到該沉積單元中。例如，激光源可以被引入到該陰極濺射沉積單元的腔室之一中，特別地在其中大氣被抽空的腔室中，尤其在10—6毫巴至10—2毫巴的壓力下的腔室中。該激光裝置還可以被設(shè)置在該沉積單元外部，但為了處理位于在所述單元內(nèi)部的基材。在使用激光的情況下，為此目的，可以例如提供對(duì)所使用的輻射波長(zhǎng)是透明的窗戶，該激光輻射將穿過(guò)該窗戶能處理該層。
[0072]無(wú)論該激光裝置在沉積單元外面或被集成到在其中，這些“在線”方法優(yōu)于使用離線操作(proc6d6 en reprise)的方法，在使用離線操作的方法中在沉積步驟和激光處理之間將需要堆疊該玻璃基材。
[0073]然而，其中在與實(shí)施該沉積的地點(diǎn)不同的地點(diǎn)(例如在其中進(jìn)行該玻璃的轉(zhuǎn)化的地點(diǎn))中實(shí)施該激光處理的情況下，使用離線操作的方法可以具有益處。該激光裝置因此可以被集成到不同于該層沉積作業(yè)線的作業(yè)線中。例如，它可以被集成到多重窗玻璃(尤其雙或三重窗玻璃)的制備作業(yè)線中，或集成到層壓窗玻璃的制備作業(yè)線中，或集成到彎曲和/或淬火窗玻璃的制備作業(yè)線中。該經(jīng)層壓或者彎曲或者淬火的窗玻璃都可以用作為建筑物窗玻璃或者汽車窗玻璃。在這些不同的情況中，該激光處理優(yōu)選在制備該多層窗玻璃或?qū)訅捍安Ａе斑M(jìn)行實(shí)施。然而，該激光處理可以在制備雙重窗玻璃或者層壓窗玻璃之后進(jìn)行實(shí)施。
[0074]該激光裝置優(yōu)選被設(shè)置在密閉腔室中，該密閉腔室通過(guò)防止與激光輻射的任何接觸而允許保護(hù)人們和允許防止任何污染，特別地污染該基材，光學(xué)裝置或者處理區(qū)域。
[0075]該涂層可以通過(guò)任何類型方法被沉積在該基材上，所述方法特別地為產(chǎn)生主要為無(wú)定形的或納米晶的層的方法，如陰極濺射方法，特別地磁場(chǎng)增強(qiáng)的陰極濺射方法(磁控管方法)，等離子體-增強(qiáng)的化學(xué)氣相沉積(PECVD)方法，真空蒸發(fā)方法或溶膠凝膠法。
[0076]優(yōu)選，該涂層通過(guò)陰極濺射，尤其通過(guò)特別地磁場(chǎng)增強(qiáng)的陰極濺射方法(磁控管方法)進(jìn)行沉積。
[0077]該基材優(yōu)選由玻璃制成、由玻璃陶瓷制成或者由有機(jī)聚合材料制成。它優(yōu)選是透明的、無(wú)色的(它這時(shí)是明亮玻璃或極明亮玻璃)或有色的，例如藍(lán)色、灰色、綠色或青銅色。該玻璃優(yōu)選地是鈉-鈣-硅類型，但是它還可以是硼硅酸鹽或者鋁硼硅酸鹽類型玻璃。該優(yōu)選的有機(jī)聚合材料是聚碳酸酯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚對(duì)苯二酸乙二醇酯(PET)，聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)，或含氟聚合物，如乙烯四氟乙烯(ETFE)。
[0078]該基材有利地具有至少一個(gè)的至少lm，特別地2m，特別地3m的維度。該基材的厚度通常為0.1mm至19mm，優(yōu)選0.7至9mm，特別地2_8mm，甚至4_6mm。該基材可以是平面的或彎曲的，甚至撓性的。
[0079]該玻璃基材優(yōu)選是浮法玻璃類型，即，能