一種能控制電場強度的濺射鍍膜裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型屬于濺射技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種能控制電場強度的濺射鍍膜裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]濺射鍍膜被廣泛應(yīng)用在玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體等領(lǐng)域。一種現(xiàn)有真空濺射鍍膜裝置設(shè)置有濺射腔體，設(shè)置在腔體內(nèi)的傳遞輥，設(shè)置在傳遞輥之間并與腔體底部連接的擋板，以及設(shè)置在腔體內(nèi)的陰極靶材。腔體底部作為陽極，在放電氣體的撞擊作用下，陰極靶材中的原子朝向陽極飛濺出來并沉積在傳遞輥上的玻璃，以完成玻璃的鍍膜加工。設(shè)置在傳遞輥之間的擋板為金屬材質(zhì)，可攔截陰極靶材濺出的原子或分子，防止陰極靶材濺出的原子或分子從傳遞輥之間的空隙或者兩個玻璃之間的空隙沉積到傳遞輥面上或者其他器件上。該擋板的截面呈U形，且需要與腔體底部呈絕緣設(shè)置，否則容易引起陰極靶材產(chǎn)生放電打弧等現(xiàn)象，從而嚴(yán)重影響到玻璃鍍膜質(zhì)量和生產(chǎn)效率。目前，現(xiàn)有的做法是采用L形板將擋板固定于腔體底部，然而這種方式仍然容易造成擋板與腔體的導(dǎo)通。
[0003]同時，現(xiàn)有的濺射鍍膜裝置的磁場和電場都是固定的，而且電場強度不能夠根據(jù)實際需要來調(diào)節(jié)，從而會影響工作效率和生產(chǎn)質(zhì)量，不能滿足現(xiàn)在工業(yè)快速發(fā)展的需要，因此需要設(shè)計出一種既能維護方便，又能控制電場強度的濺射鍍膜裝置。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]本實用新型的目的在于提供一種能控制電場強度的濺射鍍膜裝置，以解決上述【背景技術(shù)】中提出的問題。
[0005]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術(shù)方案:一種能控制電場強度的濺射鍍膜裝置，包括腔體、鍍膜腔室、靶材、傳遞輥、擋板組件、陰極板、陽極板、A磁鐵塊、B磁鐵塊、電線、進口、出口、真空進氣裝置、控制器，所述鍍膜腔室設(shè)置在腔體的內(nèi)部，所述陰極板設(shè)置在鍍膜腔室的底部，所述傳遞輥和擋板組件均設(shè)置在陰極板的上側(cè)，且擋板組件間隔設(shè)置在傳遞輥之間，所述陽極板設(shè)置在腔體的頂部，且設(shè)置在鍍膜腔室內(nèi)，所述靶材設(shè)置在陽極板的下側(cè)，所述A磁鐵塊設(shè)置在鍍膜腔室的左側(cè)，所述B磁鐵塊設(shè)置在鍍膜腔室的右側(cè)，所述電線分別與控制器、陰極板和陽極板電性連接，所述進口設(shè)置在腔體左側(cè)的中部上，所述出口設(shè)置在腔體的右側(cè)，所述真空進氣裝置設(shè)置在腔體的頂部上，所述控制器安裝在腔體右側(cè)的上部。
[0006]優(yōu)選的，所述電線和腔體之間的連接部設(shè)有密封件。
[0007]優(yōu)選的，所述真空進氣裝置由鋼瓶閥、流量計和進氣閥組成，所述鋼瓶閥、流量計和進氣閥從上到下依次安裝在通向鍍膜腔室的進氣管道上。
[0008]優(yōu)選的，所述擋板組件由固定板、絕緣件和擋板組成，所述固定板與腔體的底部固定連接，所述絕緣件設(shè)置在固定板與擋板之間。
[0009]本實用新型的技術(shù)效果和優(yōu)點:該能控制電場強度的濺射鍍膜裝置，其靶材可以設(shè)置成旋轉(zhuǎn)陰極的形式，以提高鍍膜性能；在鍍膜過程中，擋板需保證與腔體的底部也即陽極電性絕緣設(shè)置，否則將引起陰極放電打弧現(xiàn)象，嚴(yán)重影響鍍膜良率；控制器能夠?qū)φ婵諡R射鍍膜裝置中的電流大小控制，從而控制粒子的運動速度、軌跡和密度，可以根據(jù)實際需要來調(diào)節(jié)電場強度的大小，因此能夠滿足實際工業(yè)發(fā)展的需要；通過對擋板組件作模組化設(shè)計，并借助絕緣件的設(shè)置，不但可保證擋板與腔體的絕緣性能，還能優(yōu)化擋板組件的組裝效率，使擋板組件拆裝更為便利；腔體內(nèi)完全是一個真空狀態(tài)，其真空度要達10 X 10 3以上，符合實際要求；該能控制電場強度的濺射鍍膜裝置具有操作簡單，維護方便，工作效率高等優(yōu)點，具有市場推廣價值。
【附圖說明】
[0010]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]圖中:1腔體、2鍍膜腔室、3靶材、4傳遞輥、5擋板組件、6陰極板、7陽極板、8 A磁鐵塊、9 B磁鐵塊、10電線、11進口、12出口、13真空進氣裝置、14控制器。
【具體實施方式】
[0012]下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。
[0013]本實用新型提供了如圖1所示的一種能控制電場強度的濺射鍍膜裝置，包括腔體1、鍍膜腔室2、靶材3、傳遞輥4、擋板組件5、陰極板6、陽極板7、A磁鐵塊8、B磁鐵塊9、電線10、進口 11、出口 12、真空進氣裝置13、控制器14，所述鍍膜腔室2設(shè)置在腔體I的內(nèi)部，所述陰極板6設(shè)置在鍍膜腔室2的底部，所述傳遞輥4和擋板組件5均設(shè)置在陰極板6的上側(cè)，且擋板組件5間隔設(shè)置在傳遞輥4之間，所述擋板組件5由固定板、絕緣件和擋板組成，所述固定板與腔體的底部固定連接，所述絕緣件設(shè)置在固定板與擋板之間，所述陽極板7設(shè)置在腔體I的頂部，且設(shè)置在鍍膜腔室2內(nèi)，所述靶材3設(shè)置在陽極板7的下側(cè)，所述A磁鐵塊8設(shè)置在鍍膜腔室2的左側(cè)，所述B磁鐵塊9設(shè)置在鍍膜腔室2的右側(cè)，所述電線10分別與控制器14、陰極板6和陽極板7電性連接，所述電線10和腔體I之間的連接部設(shè)有密封件，所述進口 11設(shè)置在腔體I左側(cè)的中部上，所述出口 12設(shè)置在腔體I的右側(cè)，所述真空進氣裝置13設(shè)置在腔體I的頂部上，所述真空進氣裝置13由鋼瓶閥、流量計和進氣閥組成，所述鋼瓶閥、流量計和進氣閥從上到下依次安裝在通向鍍膜腔室的進氣管道上，所述控制器14安裝在腔體I右側(cè)的上部。
[0014]工作原理:濺射鍍膜是在真空濺射槽內(nèi)進行的，真空度要達10 X 10 3以上，充入一定量惰性氣體，以靶材作為陰極，工件作為陽極，在兩電極間加上高壓使惰性氣體電離，Ar+離子被陰極的負(fù)高壓(-500V)加速，以高速轟擊靶材，從靶面飛濺出來的粒子以足夠的速度飛向陽極工件并沉積在其表面上，形成鍍層；在該真空濺射鍍膜裝置，工作時，打開控制器，根據(jù)工件操作需要調(diào)節(jié)電流控制裝置的電流強度，從而控制電場的強度，然后把工件從腔體I的進口 11進入腔體I內(nèi)，并在傳遞輥4上運行，在通過腔體I的過程中，工件表面被鍍膜，接著從腔體I的出口 12到達腔體I外部以進入下一工序。
[0015]盡管已經(jīng)示出和描述了本實用新型的實施例，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以理解在不脫離本實用新型的原理和精神的情況下可以對這些實施例進行多種變化、修改、替換和變型，本實用新型的范圍由所附權(quán)利要求及其等同物限定。
【主權(quán)項】
1.一種能控制電場強度的濺射鍍膜裝置，包括腔體(I)、鍍膜腔室(2)、靶材(3)、傳遞輥(4)、擋板組件(5)、陰極板(6)、陽極板(7)、A磁鐵塊(8)、B磁鐵塊(9)、電線(10)、進口(11)、出口(12)、真空進氣裝置(13)、控制器(14)，其特征在于:所述鍍膜腔室⑵設(shè)置在腔體(I)的內(nèi)部，所述陰極板(6)設(shè)置在鍍膜腔室(2)的底部，所述傳遞輥(4)和擋板組件(5)均設(shè)置在陰極板(6)的上側(cè)，且擋板組件(5)間隔設(shè)置在傳遞輥(4)之間，所述陽極板(7)設(shè)置在腔體(I)的頂部，且設(shè)置在鍍膜腔室(2)內(nèi)，所述靶材(3)設(shè)置在陽極板(7)的下側(cè)，所述A磁鐵塊⑶設(shè)置在鍍膜腔室(2)的左側(cè)，所述B磁鐵塊(9)設(shè)置在鍍膜腔室(2)的右側(cè)，所述電線(10)分別與控制器(14)、陰極板(6)和陽極板(7)電性連接，所述進口(11)設(shè)置在腔體(I)左側(cè)的中部上，所述出口(12)設(shè)置在腔體(I)的右側(cè)，所述真空進氣裝置(13)設(shè)置在腔體(I)的頂部上，所述控制器(14)安裝在腔體(I)右側(cè)的上部。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能控制電場強度的濺射鍍膜裝置，其特征在于:所述電線(10)和腔體⑴之間的連接部設(shè)有密封件。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能控制電場強度的濺射鍍膜裝置，其特征在于:所述真空進氣裝置(13)由鋼瓶閥、流量計和進氣閥組成，所述鋼瓶閥、流量計和進氣閥從上到下依次安裝在通向鍍膜腔室的進氣管道上。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能控制電場強度的濺射鍍膜裝置，其特征在于:所述擋板組件(5)由固定板、絕緣件和擋板組成，所述固定板與腔體的底部固定連接，所述絕緣件設(shè)置在固定板與擋板之間。
【專利摘要】本實用新型公開了一種能控制電場強度的濺射鍍膜裝置,所述鍍膜腔室設(shè)置在腔體的內(nèi)部，所述陰極板設(shè)置在鍍膜腔室的底部，所述陽極板設(shè)置在腔體的頂部，且設(shè)置在鍍膜腔室內(nèi)，所述靶材設(shè)置在陽極板的下側(cè)，所述進口設(shè)置在腔體左側(cè)的中部上，所述出口設(shè)置在腔體的右側(cè)，所述真空進氣裝置設(shè)置在腔體的頂部上，所述控制器安裝在腔體右側(cè)的上部。該能控制電場強度的濺射鍍膜裝置，控制器能夠?qū)φ婵諡R射鍍膜裝置中的電流大小控制，從而控制粒子的運動速度、軌跡和密度，可以根據(jù)實際需要來調(diào)節(jié)電場強度的大小，因此能夠滿足實際工業(yè)發(fā)展的需要；該能控制電場強度的濺射鍍膜裝置具有操作簡單，維護方便，工作效率高等優(yōu)點，具有市場推廣價值。
【IPC分類】C23C14/34, C23C14/54
【公開號】CN204874721
【申請?zhí)枴緾N201520494541
【發(fā)明人】陳斌
【申請人】陳斌
【公開日】2015年12月16日
【申請日】2015年7月8日