一種pecvd沉積系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及PECVD領(lǐng)域，尤其涉及一種PECVD沉積系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]硅基異質(zhì)結(jié)電池是一種利用晶體硅基板和非晶硅薄膜制成的混合型太陽(yáng)能電池。在硅基異質(zhì)結(jié)電池，正反兩面的疊層結(jié)構(gòu)可以是對(duì)稱結(jié)構(gòu)。鈍化層除摻雜層外，是完全對(duì)稱的結(jié)構(gòu)。沉積的順序可以是i/n，也可以先沉積i/p層。PECVD系統(tǒng)是模塊化系統(tǒng)，將硅片制絨及清洗處理之后，硅片通過上料機(jī)構(gòu)放置到載板上，進(jìn)入預(yù)熱腔室，然后完成i，η (或Ρ)層沉積，之后通過具有冷卻功能的冷卻機(jī)構(gòu)進(jìn)入下料機(jī)構(gòu)。硅片在下料機(jī)構(gòu)通過彈夾機(jī)構(gòu)進(jìn)行翻轉(zhuǎn)后轉(zhuǎn)移到下一 PECVD系統(tǒng)進(jìn)行另一面鈍化層的沉積。
[0003]其中，硅片進(jìn)入PECVD系統(tǒng)反應(yīng)時(shí)是通過放在載板上來(lái)實(shí)現(xiàn)，因此載板有些部分會(huì)有硅的沉積，而載板從大氣進(jìn)入腔室，加熱到冷卻的這種循環(huán)很容易使在載板上的沉積硅剝落到各個(gè)腔室內(nèi)，造成沉積鈍化膜質(zhì)量的下降。
[0004]實(shí)際應(yīng)用中，因?yàn)楣璩练e的薄膜很薄，一般在5-50nm之間，因此，PECVD系統(tǒng)的各個(gè)腔室一般在200-500次沉積之后進(jìn)行一次清洗，但是這樣的清洗頻率對(duì)于載板的清洗往往太低效。因此載板和各個(gè)腔室如果進(jìn)行同步清洗，會(huì)嚴(yán)重影響整個(gè)系統(tǒng)的正常運(yùn)行。
[0005]因此，需要開發(fā)一種更有效的清洗載板的沉積系統(tǒng)，克服現(xiàn)有加工設(shè)備上存在的不足。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷，提供一種PECVD沉積系統(tǒng)，其改善了沉積質(zhì)量，也提高了設(shè)備稼動(dòng)率和生產(chǎn)良率。
[0007]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案:
[0008]一種PECVD沉積系統(tǒng)，其特征在于，包括:多個(gè)處理腔室及載板傳送裝置；所述多個(gè)處理腔室至少包括上料機(jī)構(gòu)及下料機(jī)構(gòu)；所述載板傳送裝置可循環(huán)的將載板從上料機(jī)構(gòu)傳送進(jìn)入其他的處理腔室，在多個(gè)處理腔室中傳送，并從下料機(jī)構(gòu)傳送出處理腔室；所述載板傳送裝置上設(shè)有載板分送機(jī)構(gòu)，載板進(jìn)入載板分送機(jī)構(gòu)后由其分送到載板清洗室內(nèi)進(jìn)行清洗或者留在載板傳送裝置上；載板清洗室將清洗好后的載板傳送到載板傳送裝置。
[0009]優(yōu)選的，所述處理腔室包括預(yù)熱腔室:用于對(duì)PECVD基板進(jìn)行預(yù)熱處理；沉積腔室:用于對(duì)預(yù)熱好的PECVD基板進(jìn)行膜層的沉積；冷卻腔室:用于對(duì)沉積好的PECVD基板進(jìn)行冷卻。
[0010]優(yōu)選的，所述PECVD基板為硅片。
[0011]優(yōu)選的，所述載板分送機(jī)構(gòu)還設(shè)有載板入料口，載板通過載板入料口傳輸?shù)捷d板傳送裝置上。
[0012]優(yōu)選的，所述載板傳送裝置為載板傳送軌道。
[0013]本實(shí)用新型采用以上技術(shù)方案，通過設(shè)計(jì)載板分送機(jī)構(gòu)，可以通過載板分送機(jī)構(gòu)將沉積硅的載板輸入到清洗室內(nèi)進(jìn)行單獨(dú)清洗，同時(shí)載板分送機(jī)構(gòu)也同時(shí)將清洗好的載板輸送到上料機(jī)構(gòu)，保證了整個(gè)沉積系統(tǒng)的正常運(yùn)行時(shí)間，使得沉積的鈍化膜質(zhì)量不受載板上的硅剝落影響，提高了設(shè)備稼動(dòng)率、生產(chǎn)效率和沉積質(zhì)量。
【附圖說(shuō)明】
[0014]圖1為本實(shí)用新型PECVD沉積系統(tǒng)實(shí)施例1的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0015]圖2為本實(shí)用新型PECVD沉積系統(tǒng)實(shí)施例2的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0016]為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。
[0017]實(shí)施例1:
[0018]如圖1所示，本實(shí)用新型公開了一種PECVD沉積系統(tǒng)，其包括:多個(gè)處理腔室1及載板傳送裝置2 ;所述多個(gè)處理腔室1包括上料機(jī)構(gòu)11、預(yù)熱腔室12:用于對(duì)基板進(jìn)行預(yù)熱處理；沉積腔室13:用于對(duì)預(yù)熱好的基板進(jìn)行膜層的沉積、冷卻腔室14:用于對(duì)沉積好的基板進(jìn)行冷卻、下料機(jī)構(gòu)15，所述載板傳送裝置2為可循環(huán)的傳送裝置，處理腔室1中上料機(jī)構(gòu)11的進(jìn)口與下料機(jī)構(gòu)15的出口通過載板傳送裝置2相連接，載板由上料機(jī)構(gòu)11的進(jìn)口進(jìn)入處理腔室，由上料機(jī)構(gòu)11傳送至預(yù)熱腔室對(duì)基板進(jìn)行預(yù)熱處理；由預(yù)熱腔室12傳送至沉積腔室13對(duì)預(yù)熱好的基板進(jìn)行膜層的沉積；由沉積腔室13傳送至冷卻腔室14對(duì)沉積好膜層的基板進(jìn)行冷卻；最后由冷卻腔室14傳送至下料機(jī)構(gòu)15將沉積好的基板送出。所述載板傳送裝置2上設(shè)有載板分送機(jī)構(gòu)21，載板3進(jìn)入載板分送機(jī)構(gòu)21，然后其中一部分載板31由載板分送機(jī)構(gòu)21分送到載板清洗室4內(nèi)進(jìn)行清洗，一部分載板32由載板分送機(jī)構(gòu)21分送到載板傳送裝置2上，載板傳送裝置2將載板32輸送到上料機(jī)構(gòu)內(nèi)11，以維持正常的整個(gè)沉積系統(tǒng)的正常運(yùn)行，同時(shí)，所述載板分送機(jī)構(gòu)21還設(shè)有載板入料口 22，清洗好的載板33通過載板入料口 22傳輸?shù)捷d板傳送裝置2上，滿足沉積系統(tǒng)對(duì)載板的需求。其中，所述載板傳送裝置2為載板傳送軌道，所述PECVD基板為硅片。
[0019]實(shí)施例2:
[0020]如圖2所示，與實(shí)施例一不同的是，本實(shí)施例中，載板分送機(jī)構(gòu)21設(shè)在上料機(jī)構(gòu)11偵k并且設(shè)有多個(gè)沉積腔室13。
[0021 ] 本實(shí)用新型沉積系統(tǒng)中各個(gè)腔室的清洗頻率和載板清洗室的清洗頻率可以設(shè)定不一致，載板可通過載板分送機(jī)構(gòu)由預(yù)先可設(shè)定清洗頻率輸出載板在腔室外進(jìn)行清洗，提高系統(tǒng)正常運(yùn)行時(shí)間。同時(shí)沉積的鈍化膜質(zhì)量不受載板的硅剝落影響，提高了設(shè)備稼動(dòng)率、生產(chǎn)效率和沉積質(zhì)量。
[0022]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種PECVD沉積系統(tǒng)，其特征在于，包括:多個(gè)處理腔室及載板傳送裝置；所述多個(gè)處理腔室至少包括上料機(jī)構(gòu)及下料機(jī)構(gòu)；所述載板傳送裝置可循環(huán)的將載板從上料機(jī)構(gòu)傳送進(jìn)入其他的處理腔室，在多個(gè)處理腔室中傳送，并從下料機(jī)構(gòu)傳送出處理腔室；所述載板傳送裝置上設(shè)有載板分送機(jī)構(gòu)，載板進(jìn)入載板分送機(jī)構(gòu)后由其分送到載板清洗室內(nèi)進(jìn)行清洗或者留在載板傳送裝置上；載板清洗室將清洗好后的載板傳送到載板傳送裝置。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的PECVD沉積系統(tǒng)，其特征在于，所述處理腔室包括預(yù)熱腔室:用于對(duì)PECVD基板進(jìn)行預(yù)熱處理；沉積腔室:用于對(duì)預(yù)熱好的PECVD基板進(jìn)行膜層的沉積；冷卻腔室:用于對(duì)沉積好的PECVD基板進(jìn)行冷卻。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的PECVD沉積系統(tǒng)，其特征在于，所述PECVD基板為硅片。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的PECVD沉積系統(tǒng)，其特征在于，所述載板分送機(jī)構(gòu)還設(shè)有載板入料口，載板通過載板入料口傳輸?shù)捷d板傳送裝置上。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的PECVD沉積系統(tǒng)，其特征在于，所述載板傳送裝置為載板傳送軌道。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種PECVD沉積系統(tǒng)，其包括：多個(gè)處理腔室及載板傳送裝置；所述多個(gè)處理腔室至少包括上料機(jī)構(gòu)及下料機(jī)構(gòu)；所述載板傳送裝置可循環(huán)的將載板從上料機(jī)構(gòu)傳送進(jìn)入其他的處理腔室，在多個(gè)處理腔室中傳送，并從下料機(jī)構(gòu)傳送出處理腔室；所述載板傳送裝置上設(shè)有載板分送機(jī)構(gòu)，載板進(jìn)入載板分送機(jī)構(gòu)后由其分送到載板清洗室內(nèi)進(jìn)行清洗或者留在載板傳送裝置上；載板清洗室將清洗好后的載板傳送到載板傳送裝置。通過載板分送機(jī)構(gòu)將沉積硅的載板輸入到清洗室內(nèi)進(jìn)行單獨(dú)清洗使得沉積的鈍化膜質(zhì)量不受硅剝落影響，提高了生產(chǎn)效率和沉積質(zhì)量。
【IPC分類】C23C16/44
【公開號(hào)】CN205077136
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520686126
【發(fā)明人】楊與勝, 王樹林, 倪鵬玉, 李鵬飛, 陳劍雨
【申請(qǐng)人】鈞石(中國(guó))能源有限公司
【公開日】2016年3月9日
【申請(qǐng)日】2015年9月7日