多輥多室卷繞鍍膜裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開一種多輥多室卷繞鍍膜裝置，包括多個相互獨立的真空室，多個真空室包括放卷室、收卷室和至少一個鍍膜室，放卷室和收卷室分別設于鍍膜室的兩側(cè)，任意兩個相鄰的真空室之間設有真空鎖；鍍膜室內(nèi)設有呈上下分布的多個水冷鼓，每個水冷鼓的一側(cè)至少分布有兩個濺射靶，每個濺射靶外周設有靶罩，靶罩底部與水冷鼓表面之間設有供卷繞基材通過用的間隙，每個靶罩內(nèi)形成獨立的濺射室。本實用新型實現(xiàn)相鄰鍍膜室內(nèi)的鍍膜工藝完全隔離，可根據(jù)膜層數(shù)量和膜層種類的不同而對鍍膜室進行設置，在一個工作周期內(nèi)完成多層復合膜的鍍制，也實現(xiàn)了濺射區(qū)域間的氣氛隔離，避免串氣現(xiàn)象，從而提高產(chǎn)品質(zhì)量。
【專利說明】
多輥多室卷繞鍍膜裝置
技術領域
[0001]本實用新型涉及卷材表面鍍膜技術領域，特別涉及一種多輥多室卷繞鍍膜裝置。
【背景技術】
[0002]柔性智能電致變色膜是一種的新型電致變色材料，它在電場作用下具有光吸收透過的可調(diào)節(jié)性，可選擇地吸收或反射外界的熱輻射和內(nèi)部的熱擴散，減少夏季保持涼爽和冬季保持溫暖而必須消耗的大量能源，同時起到改善自然光照程度、防窺的目的。目前常用于智能窗、防炫目后視鏡、高檔轎車和飛機上的調(diào)光玻璃等變色用途，是一種市場需求量較大的產(chǎn)品。
[0003]對于柔性智能電致、光致、熱致變色膜的加工，傳統(tǒng)的方式是采用單面鍍膜，需雙面鍍膜時，將工件鍍完一面后再取出復卷后放入真空室再鍍另一面，該方式的生產(chǎn)周期長，生產(chǎn)效率低，成本高。目前也有在同一真空環(huán)境中，采用臥式水平安裝雙水冷鼓的方式來加工的方法，但由于同一真空環(huán)境中，不同的鍍膜區(qū)域之間會出現(xiàn)濺射繞射，因此會出現(xiàn)污染相鄰靶材的現(xiàn)象，導致膜層質(zhì)量不高，且雙水冷鼓水平擺放，濺射靶位于水冷鼓下方，鍍膜過程中會有膜層掉落靶材表面，導致二次污染，產(chǎn)品質(zhì)量無法提高，產(chǎn)品市場競爭力不強。
[0004]在現(xiàn)有的撓性線路板鍍膜設備中，都是采用將水冷鼓、收卷輥、放卷輥等機構(gòu)置于同一真空室內(nèi)的形式。這就使得在加工過程中，每鍍一爐就需要破真空一次，收卷輥、放卷輥與鍍膜區(qū)域都處于大氣狀態(tài)下，這樣鍍膜區(qū)域會吸附水蒸氣及空氣中的粉塵而造成污染，因此難以得到高品質(zhì)膜層。另外，鍍膜室每爐都需重新抽真空，鍍膜周期加長，生產(chǎn)效率低。同時，因破真空后，每鍍一爐都需重新充入反應氣體或保護氣體，加工成本高。
[0005]在現(xiàn)有的撓性線路板鍍膜設備中，都是采用濺射靶圍繞水冷鼓來進行膜層鍍制，各濺射靶處于同一真空環(huán)境中，容易出現(xiàn)繞射污染靶材，無法得到高品質(zhì)膜層，尤其是當卷繞基材表面需要多種不同性質(zhì)的鍍膜層時，該現(xiàn)象更加明顯。
【實用新型內(nèi)容】
[0006]本實用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術的不足，提供一種鍍膜質(zhì)量高、加工成本低的多輥多室卷繞鍍膜裝置。
[0007]本實用新型的技術方案為:一種多輥多室卷繞鍍膜裝置，包括多個相互獨立的真空室，多個真空室包括放卷室、收卷室和至少一個鍍膜室，放卷室和收卷室分別設于鍍膜室的兩側(cè)，任意兩個相鄰的真空室之間設有真空鎖;鍍膜室內(nèi)設有呈上下分布的多個水冷鼓，每個水冷鼓的一側(cè)至少分布有兩個濺射靶，每個濺射靶外周設有靶罩，靶罩底部與水冷鼓表面之間設有供卷繞基材通過用的間隙，且各靶罩分別外接抽真空機組，每個靶罩內(nèi)形成獨立的濺射室。其中，每個真空室也分別外接抽真空機組，靶罩和真空室外接的抽真空機組均采用市面通用的抽真空機組即可。將放卷室、收卷室和各個鍍膜室均設置為獨立的真空室，一方面可實現(xiàn)在不同鍍膜室中進行不同的鍍膜工藝，防止不同工藝之間產(chǎn)生串氣現(xiàn)象，另一方面，根據(jù)鍍膜工藝的實際需要，可靈活的配置鍍膜室的數(shù)量，也方便對某一真空室進行維護或更換卷材、靶材等。將兩個水冷鼓設置為上下分布的形式，結(jié)合濺射靶設于水冷鼓側(cè)面，可有效防止濺射過程中膜層掉落而對靶材造成二次污染;用靶罩將各個濺射靶隔離，可實現(xiàn)對各個濺射區(qū)域進行氣氛隔離，防止產(chǎn)生串氣現(xiàn)象而影響鍍膜質(zhì)量，另外，也方便根據(jù)鍍膜工藝的實際需要對濺射靶的數(shù)量進行設置。
[0008]作為一種優(yōu)選方案，所述鍍膜室內(nèi)設有兩個水冷鼓，兩個水冷鼓外側(cè)的濺射靶分布于兩個水冷鼓中線的兩側(cè)，且位于同一水冷鼓外側(cè)的濺射靶分布于兩個水冷鼓中線的同一側(cè)，卷繞基材在兩個水冷鼓上進行雙面鍍膜，即在卷繞基材的輸送過程中，先在一個水冷鼓上進行一面的鍍膜，再在另一個水冷鼓上進行另一面的鍍膜。
[0009]作為一種優(yōu)選方案，所述鍍膜室有一個，鍍膜室內(nèi)的兩個水冷鼓為上水冷鼓和下水冷鼓，上水冷鼓的左側(cè)分布有三個派射革E，下水冷鼓的右側(cè)分布有三個派射革巴。
[0010]作為另一種優(yōu)選方案，所述鍍膜室有兩個，分別為第一鍍膜室和第二鍍膜室;第一鍍膜室內(nèi)的兩個水冷鼓為第一上水冷鼓和第一下水冷鼓，第一上水冷鼓的左側(cè)分布有兩個濺射靶，第一下水冷鼓的右側(cè)分布有兩個濺射靶;第二鍍膜室內(nèi)的兩個水冷鼓為第二上水冷鼓和第二下水冷鼓，第二上水冷鼓的右側(cè)分布有兩個濺射靶，第二下水冷鼓的左側(cè)分布有兩個濺射靶。
[0011 ]所述靶罩為底部開口的中空殼體結(jié)構(gòu)，濺射靶設于靶罩中部，靶罩一側(cè)設有抽氣口，且抽氣口外接抽真空機組。
[0012]作為一種新的真空鎖結(jié)構(gòu)，所述真空鎖包括閥座、閥蓋和閥蓋驅(qū)動機構(gòu)，閥蓋設于閥座上方，閥蓋頂部與閥蓋驅(qū)動機構(gòu)連接;閥座上設有供卷繞基材通過用的傾斜通孔，傾斜通孔與真空室側(cè)壁上的進料孔連通。該真空鎖結(jié)構(gòu)簡單而小巧，可根據(jù)需要直接在各真空室上加裝即可，不影響真空室的現(xiàn)有結(jié)構(gòu)，其制造成本也低。
[0013]所述閥座上，傾斜通孔的進口端位于閥座的頂面上，傾斜通孔的出口端位于閥座的側(cè)壁上，出口端與真空室側(cè)壁上的進料孔相連接;閥蓋的底面為平面，閥座的頂面也為平面，閥座的側(cè)壁與真空室側(cè)壁固定連接;真空鎖處于關閉狀態(tài)時，閥蓋的底面與閥座的頂面緊密相接，且閥蓋底面覆蓋于傾斜通孔的進口端上。
[0014]所述閥蓋驅(qū)動機構(gòu)包括氣缸和密封座，閥蓋和閥座設于相鄰兩個真空室中的一個真空室內(nèi)，氣缸通過密封座固定于該真空室的外壁上，氣缸的末端伸入真空室內(nèi)，并與閥蓋的頂面固定連接;閥蓋驅(qū)動機構(gòu)帶動閥蓋上升或下降。
[0015]在鍍膜裝置正常進行鍍膜工藝時，真空鎖處于開啟狀態(tài)；當需要進行換卷或?qū)δ硞€真空室進行維護時，關閉真空鎖，開啟相應的真空室即可。關閉真空鎖時，啟動氣缸，氣缸推動閥蓋下降，直至閥蓋底面貼緊于閥座頂面上，使閥蓋底面覆蓋于傾斜通孔的進口端，從而將相鄰的兩個真空室隔離，各自形成獨立的腔體，以保證不需要開啟的真空室內(nèi)的潔凈度和真空度。
[0016]所述鍍膜室中，與收卷室相接的鍍膜室內(nèi)還設有前離子處理機構(gòu)，且前離子處理機構(gòu)設于多個水冷鼓的進口端;與放卷室相接的鍍膜室內(nèi)還設有后離子處理機構(gòu)，且后離子處理機構(gòu)設于多個水冷鼓的出口端。前離子處理機構(gòu)和后離子處理機構(gòu)均采用目前通用的離子處理機構(gòu)即可。
[0017]所述鍍膜室外側(cè)還設有靶車，靶車底部設置導軌，兩個水冷鼓設于靶車上，靶車沿著導軌移動將兩個水冷鼓送入或送出鍍膜室。當需要對某一鍍膜室進行水冷鼓的更換或維護時，只要關閉其兩側(cè)的真空鎖，通過靶車將水冷鼓帶出鍍膜室進行維護或更換即可，維護方便快捷，也不影響其它真空室的潔凈度和真空度。
[0018]上述多輥多室卷繞鍍膜裝置使用時，其原理是:放卷室放出卷繞基材后，由真空鎖處進入鍍膜室，先經(jīng)過前離子處理機構(gòu)進行離子處理，然后在鍍膜室內(nèi)的一個水冷鼓處進行一面鍍膜，再進入另一個水冷鼓處進行另一面的鍍膜，當鍍膜裝置中設有多個鍍膜室時，卷繞基材依次通過各個鍍膜室內(nèi)進行鍍膜，最后由后離子處理機構(gòu)進行離子處理后，送入收卷室進行收卷。
[0019]本實用新型相對于現(xiàn)有技術，具有以下有益效果:
[0020]本多輥多室卷繞鍍膜裝置通過將各個功能機構(gòu)設置在獨立的真空室中，使相鄰鍍膜室內(nèi)的鍍膜工藝完全隔離，可根據(jù)膜層數(shù)量和膜層種類的不同而對鍍膜室進行設置，實現(xiàn)在一個工作周期內(nèi)完成多層復合膜的鍍制，從而得到高品質(zhì)膜層。
[0021]本多輥多室卷繞鍍膜裝置通過在任意相鄰的兩個真空室之間設置真空鎖，實現(xiàn)在關閉真空鎖后，鍍膜室內(nèi)保持真空狀態(tài)，從而縮短后續(xù)的抽真空時間，提高生產(chǎn)效率。另外，在破真空后，裝拆工件時，大氣中粉塵或水份也無法進入鍍膜室，使鍍膜室內(nèi)保持潔凈無污染，從而實現(xiàn)工藝的重復性與穩(wěn)定性。
[0022]本多輥多室卷繞鍍膜裝置通過將各個濺射靶隔離，形成各自獨立的濺射區(qū)域，實現(xiàn)了濺射區(qū)域間的氣氛隔離，避免串氣現(xiàn)象，從而提高產(chǎn)品質(zhì)量，也方便了濺射靶數(shù)量的靈活調(diào)節(jié)。
[0023]本多輥多室卷繞鍍膜裝置通過將鍍膜室的兩個水冷鼓設置為上下分布的結(jié)構(gòu)形式，一方面可使鍍膜室結(jié)構(gòu)緊湊，節(jié)省空間，縮短抽真空時間，從而提高效率，降低生產(chǎn)成本，另一方面也可有效防止鍍膜過程中膜層滴落，提高產(chǎn)品質(zhì)量。
【附圖說明】
[0024]圖1為本多輥多室卷繞鍍膜裝置實施例1的結(jié)構(gòu)示意圖(圖中未示出真空鎖的閥蓋驅(qū)動機構(gòu))。
[0025]圖2為圖1中單個水冷鼓外側(cè)濺射靶的分布結(jié)構(gòu)示意圖。
[0026]圖3為圖1中真空鎖的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0027]圖4為圖3中A方向上本真空鎖裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0028]圖5為本多輥多室卷繞鍍膜裝置實施例2的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0029]圖6為本多輥多室卷繞鍍膜裝置實施例3的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0030]圖7為本多輥多室卷繞鍍膜裝置實施例4的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0031 ]圖8為本多輥多室卷繞鍍膜裝置實施例5的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0032]圖9為本多輥多室卷繞鍍膜裝置實施例6的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0033]下面結(jié)合實施例，對本實用新型作進一步的詳細說明，但本實用新型的實施方式不限于此。
[0034]實施例1
[0035]本實施例一種多輥多室卷繞鍍膜裝置，如圖1所示，包括多個相互獨立的真空室，多個真空室包括放卷室1、收卷室2和一個鍍膜室3，放卷室和收卷室分別設于鍍膜室的兩側(cè)，任意兩個相鄰的真空室之間設有真空鎖4;鍍膜室內(nèi)設有呈上下分布的兩個水冷鼓5，每個水冷鼓的一側(cè)至少分布有兩個濺射靶6，每個濺射靶外周設有靶罩7，靶罩底部與水冷鼓表面之間設有供卷繞基材通過用的間隙，且各靶罩分別外接抽真空機組，每個靶罩內(nèi)形成獨立的濺射室。其中，每個真空室也分別外接抽真空機組，靶罩和真空室外接的抽真空機組均采用市面通用的抽真空機組即可。將放卷室、收卷室和各個鍍膜室均設置為獨立的真空室，一方面可實現(xiàn)在不同鍍膜室中進行不同的鍍膜工藝，防止不同工藝之間產(chǎn)生串氣現(xiàn)象，另一方面，根據(jù)鍍膜工藝的實際需要，可靈活的配置鍍膜室的數(shù)量，也方便對某一真空室進行維護或更換卷材、靶材等。將兩個水冷鼓設置為上下分布的形式，結(jié)構(gòu)濺射靶設于水冷鼓側(cè)面，可有效防止濺射過程中膜層掉落而對靶材造成二次污染;用靶罩將各個濺射靶隔離，可實現(xiàn)對各個濺射區(qū)域進行氣氛隔離，防止產(chǎn)生串氣現(xiàn)象而影響鍍膜質(zhì)量，另外，也方便根據(jù)鍍膜工藝的實際需要對濺射靶的數(shù)量進行設置。
[0036]其中，如圖2所示，靶罩為底部開口的中空殼體結(jié)構(gòu)，濺射靶設于靶罩中部，靶罩一側(cè)設有抽氣口 7-1，且抽氣口外接抽真空機組。
[0037]鍍膜室內(nèi)，兩個水冷鼓外側(cè)的濺射靶分布于兩個水冷鼓中線5-1的兩側(cè)，且位于同一水冷鼓外側(cè)的濺射靶分布于兩個水冷鼓中線的同一側(cè)，卷繞基材在兩個水冷鼓上進行雙面鍍膜，即在卷繞基材的輸送過程中，先在一個水冷鼓上進行一面的鍍膜，再在另一個水冷鼓上進行另一面的鍍膜。鍍膜室內(nèi)的兩個水冷鼓為上水冷鼓和下水冷鼓，上水冷鼓的左側(cè)分布有三個派射革E，下水冷鼓的右側(cè)分布有三個派射革巴。
[0038]如圖3或圖4所示，真空鎖包括閥座4-1、閥蓋4-2和閥蓋驅(qū)動機構(gòu)，閥蓋設于閥座上方，閥蓋頂部與閥蓋驅(qū)動機構(gòu)連接；閥座上設有供卷繞基材通過用的傾斜通孔4-3，傾斜通孔與真空室側(cè)壁上的進料孔4-4連通。該真空鎖結(jié)構(gòu)簡單而小巧，可根據(jù)需要直接在各真空室上加裝即可，不影響真空室的現(xiàn)有結(jié)構(gòu)，其制造成本也低。閥座上，傾斜通孔的進口端位于閥座的頂面上，傾斜通孔的出口端位于閥座的側(cè)壁上，出口端與真空室側(cè)壁上的進料孔相連接；閥蓋的底面為平面，閥座的頂面也為平面，閥座的側(cè)壁與真空室側(cè)壁固定連接;真空鎖處于關閉狀態(tài)時，閥蓋的底面與閥座的頂面緊密相接，且閥蓋底面覆蓋于傾斜通孔的進口端上。閥座的截面形狀為三角形，傾斜通孔的進口端位于閥座的頂面中部，傾斜通孔的出口端位于閥座的側(cè)壁中部。閥蓋的截面形狀為倒置的T形，便于利用氣缸的動力，使閥蓋底面貼緊于閥座頂面上，從而實現(xiàn)密封的目的。傾斜通孔的截面形狀為長條狀的矩形或跑道形，其形狀主要是配合卷繞基材的截面形狀即可。閥蓋驅(qū)動機構(gòu)包括氣缸4-5和密封座4-6，閥蓋和閥座設于相鄰兩個真空室中的一個真空室內(nèi)，氣缸通過密封座固定于該真空室的外壁上，氣缸的末端伸入真空室內(nèi)，并與閥蓋的頂面固定連接;閥蓋驅(qū)動機構(gòu)帶動閥蓋上升或下降。在鍍膜裝置正常進行鍍膜工藝時，真空鎖處于開啟狀態(tài)；當需要進行換卷或?qū)δ硞€真空室進行維護時，關閉真空鎖，開啟相應的真空室即可。關閉真空鎖時，啟動氣缸，氣缸推動閥蓋下降，直至閥蓋底面貼緊于閥座頂面上，使閥蓋底面覆蓋于傾斜通孔的進口端，從而將相鄰的兩個真空室隔離，各自形成獨立的腔體，以保證不需要開啟的真空室內(nèi)的潔凈度和真空度。
[0039]如圖1所示，鍍膜室中，與收卷室相接的鍍膜室內(nèi)還設有前離子處理機構(gòu)8，且前離子處理機構(gòu)設于多個水冷鼓的進口端;與放卷室相接的鍍膜室內(nèi)還設有后離子處理機構(gòu)9，且后離子處理機構(gòu)設于多個水冷鼓的出口端。前離子處理機構(gòu)和后離子處理機構(gòu)均采用目前通用的離子處理機構(gòu)即可。
[0040]鍍膜室外側(cè)還設有靶車，靶車底部設置導軌，兩個水冷鼓設于靶車上，靶車沿著導軌移動將兩個水冷鼓送入或送出鍍膜室。當需要對某一鍍膜室進行水冷鼓的更換或維護時，只要關閉其兩側(cè)的真空鎖，通過靶車將水冷鼓帶出鍍膜室進行維護或更換即可，維護方便快捷，也不影響其它真空室的潔凈度和真空度。其中，靶車及導軌可采用現(xiàn)有通用的靶車及導軌。
[0041]上述多輥多室卷繞鍍膜裝置使用時，其原理是:放卷室放出卷繞基材后，由真空鎖處進入鍍膜室，先經(jīng)過前離子處理機構(gòu)進行離子處理，然后在鍍膜室內(nèi)的一個水冷鼓處進行一面鍍膜，再進入另一個水冷鼓處進行另一面的鍍膜，最后由后離子處理機構(gòu)進行離子處理后，送入收卷室進行收卷。
[0042]實施例2
[0043]本實施例一種多輥多室卷繞鍍膜裝置，其結(jié)構(gòu)如圖5所示，與實施例1相比較，其不同之處在于:鍍膜室有兩個，分別為第一鍍膜室和第二鍍膜室;第一鍍膜室內(nèi)的兩個水冷鼓為第一上水冷鼓和第一下水冷鼓，第一上水冷鼓的左側(cè)分布有三個濺射靶，第一下水冷鼓的右側(cè)分布有三個濺射靶;第二鍍膜室內(nèi)的兩個水冷鼓為第二上水冷鼓和第二下水冷鼓，第二上水冷鼓的右側(cè)分布有三個派射革E，第二下水冷鼓的左側(cè)分布有三個派射革巴。
[0044]該多輥多室卷繞鍍膜裝置使用時，其原理是:放卷室放出卷繞基材后，由真空鎖處進入鍍膜室，先經(jīng)過前離子處理機構(gòu)進行離子處理，然后在鍍膜室內(nèi)的一個水冷鼓處進行一面鍍膜，再進入另一個水冷鼓處進行另一面的鍍膜，卷繞基材依次通過各個鍍膜室內(nèi)進行鍍膜，最后由后離子處理機構(gòu)進行離子處理后，送入收卷室進行收卷。
[0045]實施例3
[0046]本實施例一種多輥多室卷繞鍍膜裝置，其結(jié)構(gòu)如圖6所示，與實施例1相比較，其不同之處在于:鍍膜室有兩個，分別為第一鍍膜室和第二鍍膜室;第一鍍膜室內(nèi)的兩個水冷鼓為第一上水冷鼓和第一下水冷鼓，第一上水冷鼓的左側(cè)分布有兩個濺射靶，第一下水冷鼓的右側(cè)分布有兩個濺射靶;第二鍍膜室內(nèi)的兩個水冷鼓為第二上水冷鼓和第二下水冷鼓，第二上水冷鼓的右側(cè)分布有兩個濺射靶，第二下水冷鼓的左側(cè)分布有兩個濺射靶。
[0047]該多輥多室卷繞鍍膜裝置使用時，其原理是:放卷室放出卷繞基材后，由真空鎖處進入鍍膜室，先經(jīng)過前離子處理機構(gòu)進行離子處理，然后在鍍膜室內(nèi)的一個水冷鼓處進行一面鍍膜，再進入另一個水冷鼓處進行另一面的鍍膜，卷繞基材依次通過各個鍍膜室內(nèi)進行鍍膜，最后由后離子處理機構(gòu)進行離子處理后，送入收卷室進行收卷。
[0048]實施例4
[0049]本實施例一種多輥多室卷繞鍍膜裝置，其結(jié)構(gòu)如圖7所示，與實施例1相比較，其不同之處在于:鍍膜室有四個，分別為第一鍍膜室、第二鍍膜室、第三鍍膜室和第四鍍膜室;第一鍍膜室內(nèi)的兩個水冷鼓為第一上水冷鼓和第一下水冷鼓，第一上水冷鼓的左側(cè)分布有三個濺射靶，第一下水冷鼓的右側(cè)分布有三個濺射靶;第二鍍膜室內(nèi)的兩個水冷鼓為第二上水冷鼓和第二下水冷鼓，第二上水冷鼓的右側(cè)分布有三個濺射靶，第二下水冷鼓的左側(cè)分布有三個濺射靶;第三鍍膜室內(nèi)的兩個水冷鼓為第三上水冷鼓和第三下水冷鼓，第三上水冷鼓的左側(cè)分布有三個濺射靶，第三下水冷鼓的右側(cè)分布有三個濺射靶;第四鍍膜室內(nèi)的兩個水冷鼓為第四上水冷鼓和第四下水冷鼓，第四上水冷鼓的右側(cè)分布有三個濺射靶，第四下水冷鼓的左側(cè)分布有三個濺射靶。
[0050]該多輥多室卷繞鍍膜裝置使用時，其原理是:放卷室放出卷繞基材后，由真空鎖處進入鍍膜室，先經(jīng)過前離子處理機構(gòu)進行離子處理，然后在鍍膜室內(nèi)的一個水冷鼓處進行一面鍍膜，再進入另一個水冷鼓處進行另一面的鍍膜，卷繞基材依次通過各個鍍膜室內(nèi)進行鍍膜，最后由后離子處理機構(gòu)進行離子處理后，送入收卷室進行收卷。
[0051 ] 實施例5
[0052]本實施例一種多輥多室卷繞鍍膜裝置，其結(jié)構(gòu)如圖8所示，與實施例1相比較，其不同之處在于:鍍膜室有四個，分別為第一鍍膜室、第二鍍膜室、第三鍍膜室和第四鍍膜室;第一鍍膜室內(nèi)的兩個水冷鼓為第一上水冷鼓和第一下水冷鼓，第一上水冷鼓的左側(cè)分布有兩個濺射靶，第一下水冷鼓的右側(cè)分布有兩個濺射靶;第二鍍膜室內(nèi)的兩個水冷鼓為第二上水冷鼓和第二下水冷鼓，第二上水冷鼓的右側(cè)分布有兩個濺射靶，第二下水冷鼓的左側(cè)分布有兩個濺射靶;第三鍍膜室內(nèi)的兩個水冷鼓為第三上水冷鼓和第三下水冷鼓，第三上水冷鼓的左側(cè)分布有兩個濺射靶，第三下水冷鼓的右側(cè)分布有兩個濺射靶;第四鍍膜室內(nèi)的兩個水冷鼓為第四上水冷鼓和第四下水冷鼓，第四上水冷鼓的右側(cè)分布有兩個濺射靶，第四下水冷鼓的左側(cè)分布有兩個濺射靶。
[0053]該多輥多室卷繞鍍膜裝置使用時，其原理是:放卷室放出卷繞基材后，由真空鎖處進入鍍膜室，先經(jīng)過前離子處理機構(gòu)進行離子處理，然后在鍍膜室內(nèi)的一個水冷鼓處進行一面鍍膜，再進入另一個水冷鼓處進行另一面的鍍膜，卷繞基材依次通過各個鍍膜室內(nèi)進行鍍膜，最后由后離子處理機構(gòu)進行離子處理后，送入收卷室進行收卷。
[0054]實施例6
[0055]本實施例一種多輥多室卷繞鍍膜裝置，其結(jié)構(gòu)如圖9所示，與實施例1相比較，其不同之處在于:鍍膜室有兩個，分別為第一鍍膜室和第二鍍膜室;每個鍍膜室內(nèi)有四個水冷鼓;第一鍍膜室內(nèi)的四個水冷鼓由上至下依次為第一上水冷鼓、第一下水冷鼓、第二上水冷鼓和第二下水冷鼓，第一上水冷鼓、第二上水冷鼓的左側(cè)分布有兩個濺射靶，第一下水冷鼓、第二下水冷鼓的右側(cè)分布有兩個濺射靶;第二鍍膜室內(nèi)的四個水冷鼓由上至下依次為第三上水冷鼓、第二下水冷鼓、第四上水冷鼓和第四下水冷鼓，第三上水冷鼓、第四上水冷鼓的右側(cè)分布有兩個濺射靶，第三下水冷鼓、第四下水冷鼓的左側(cè)分布有兩個濺射靶。
[0056]如上所述，便可較好地實現(xiàn)本實用新型，上述實施例僅為本實用新型的較佳實施例，并非用來限定本實用新型的實施范圍；即凡依本【實用新型內(nèi)容】所作的均等變化與修飾，都為本實用新型權(quán)利要求所要求保護的范圍所涵蓋。
【主權(quán)項】
1.多輥多室卷繞鍍膜裝置，其特征在于，包括多個相互獨立的真空室，多個真空室包括放卷室、收卷室和至少一個鍍膜室，放卷室和收卷室分別設于鍍膜室的兩側(cè)，任意兩個相鄰的真空室之間設有真空鎖;鍍膜室內(nèi)設有呈上下分布的多個水冷鼓，每個水冷鼓的一側(cè)至少分布有兩個濺射靶，每個濺射靶外周設有靶罩，靶罩底部與水冷鼓表面之間設有供卷繞基材通過用的間隙，每個靶罩內(nèi)形成獨立的濺射室。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多輥多室卷繞鍍膜裝置，其特征在于，所述鍍膜室內(nèi)設有兩個水冷鼓，兩個水冷鼓外側(cè)的濺射靶分布于兩個水冷鼓中線的兩側(cè)，且位于同一水冷鼓外側(cè)的濺射靶分布于兩個水冷鼓中線的同一側(cè)，卷繞基材在兩個水冷鼓上進行雙面鍍膜。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的多輥多室卷繞鍍膜裝置，其特征在于，所述鍍膜室有一個，鍍膜室內(nèi)的兩個水冷鼓為上水冷鼓和下水冷鼓，上水冷鼓的左側(cè)分布有三個濺射靶，下水冷鼓的右側(cè)分布有三個派射革巴。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的多輥多室卷繞鍍膜裝置，其特征在于，所述鍍膜室有兩個，分別為第一鍍膜室和第二鍍膜室;第一鍍膜室內(nèi)的兩個水冷鼓為第一上水冷鼓和第一下水冷鼓，第一上水冷鼓的左側(cè)分布有兩個濺射靶，第一下水冷鼓的右側(cè)分布有兩個濺射靶;第二鍍膜室內(nèi)的兩個水冷鼓為第二上水冷鼓和第二下水冷鼓，第二上水冷鼓的右側(cè)分布有兩個濺射靶，第二下水冷鼓的左側(cè)分布有兩個濺射靶。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多輥多室卷繞鍍膜裝置，其特征在于，所述靶罩為底部開口的中空殼體結(jié)構(gòu)，濺射靶設于靶罩中部，靶罩一側(cè)設有抽氣口。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多輥多室卷繞鍍膜裝置，其特征在于，所述真空鎖包括閥座、閥蓋和閥蓋驅(qū)動機構(gòu)，閥蓋設于閥座上方，閥蓋頂部與閥蓋驅(qū)動機構(gòu)連接；閥座上設有供卷繞基材通過用的傾斜通孔，傾斜通孔與真空室側(cè)壁上的進料孔連通。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的多輥多室卷繞鍍膜裝置，其特征在于，所述閥座上，傾斜通孔的進口端位于閥座的頂面上，傾斜通孔的出口端位于閥座的側(cè)壁上，出口端與真空室側(cè)壁上的進料孔相連接;閥蓋的底面為平面，閥座的頂面也為平面，閥座的側(cè)壁與真空室側(cè)壁固定連接;真空鎖處于關閉狀態(tài)時，閥蓋的底面與閥座的頂面緊密相接，且閥蓋底面覆蓋于傾斜通孔的進口端上。8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的多輥多室卷繞鍍膜裝置，其特征在于，所述閥蓋驅(qū)動機構(gòu)包括氣缸和密封座，閥蓋和閥座設于相鄰兩個真空室中的一個真空室內(nèi)，氣缸通過密封座固定于該真空室的外壁上，氣缸的末端伸入真空室內(nèi)，并與閥蓋的頂面固定連接;閥蓋驅(qū)動機構(gòu)帶動閥蓋上升或下降。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多輥多室卷繞鍍膜裝置，其特征在于，所述鍍膜室中，與收卷室相接的鍍膜室內(nèi)還設有前離子處理機構(gòu)，且前離子處理機構(gòu)設于多個水冷鼓的進口端；與放卷室相接的鍍膜室內(nèi)還設有后離子處理機構(gòu)，且后離子處理機構(gòu)設于多個水冷鼓的出口端。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多輥多室卷繞鍍膜裝置，其特征在于，所述鍍膜室外側(cè)還設有靶車，靶車底部設置導軌，兩個水冷鼓設于靶車上，靶車沿著導軌移動將兩個水冷鼓送入或送出鍍膜室。
【文檔編號】C23C14/56GK205420540SQ201520984449
【公開日】2016年8月3日
【申請日】2015年11月30日
【發(fā)明人】朱文廓, 朱剛勁, 朱剛毅
【申請人】廣東騰勝真空技術工程有限公司