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      多晶硅生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的高溫廢氮?dú)獾幕厥绽醚b置制造方法

      文檔序號(hào):12870閱讀:410來(lái)源:國(guó)知局
      專(zhuān)利名稱(chēng):多晶硅生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的高溫廢氮?dú)獾幕厥绽醚b置制造方法
      【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型提供一種多晶硅生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的高溫廢氮?dú)獾幕厥绽醚b置,包括:過(guò)濾單元,其輸入端接入高溫廢氮?dú)?,其輸出端與冷卻單元的輸入端相連,用于去除高溫廢氮?dú)庵械墓腆w顆粒雜質(zhì),并將已去除固體顆粒雜質(zhì)的高溫廢氮?dú)廨敵鲋晾鋮s單元;冷卻單元,其輸出端與吸附單元的第一輸入端相連,用于對(duì)已去除固體顆粒雜質(zhì)的高溫廢氮?dú)膺M(jìn)行降溫處理,并將低溫廢氮?dú)廨敵鲋廖絾卧?;吸附單元,其輸出端與氮?dú)庥脩?hù)相連,其內(nèi)填裝有吸附劑,用于去除低溫廢氮?dú)庵械臍怏w雜質(zhì),并將純化后的低溫氮?dú)廨敵鲋恋獨(dú)庥脩?hù)。本實(shí)用新型所述回收利用裝置不但能有效回收利用高溫廢氮?dú)庵械牡獨(dú)?,還能有效降低高溫廢氮?dú)鈱?duì)環(huán)境的污染。
      【專(zhuān)利說(shuō)明】多晶硅生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的高溫廢氮?dú)獾幕厥绽醚b置

      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實(shí)用新型涉及多晶硅生產(chǎn)【技術(shù)領(lǐng)域】,具體涉及一種多晶硅生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的高溫廢氮?dú)獾幕厥绽醚b置,以回收利用在多晶硅生產(chǎn)的各個(gè)工序中所產(chǎn)生的高溫廢氮?dú)狻?br>
      【背景技術(shù)】
      [0002]在多晶硅生產(chǎn)行業(yè)中,氮?dú)馐且环N重要的公用工程介質(zhì),常用以吹掃、置換、加熱及保護(hù)氣使用。為保證多晶硅的生產(chǎn)質(zhì)量及生產(chǎn)安全要求,對(duì)氮?dú)獾募兌纫筝^高,且在生產(chǎn)中用量較大。
      [0003]在實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中,氮?dú)馔ǔW鳛橐淮涡允褂玫墓霉こ探橘|(zhì),即作為一次性使用的氣體,在生產(chǎn)中用量較大,待吹掃、置換、加熱使用完畢之后就形成廢氮?dú)?,其主要包含氮?dú)?,以及微量的氯硅烷氣體、氯化氫氣體和硅粉等雜質(zhì),且通常溫度較高。在目前的多晶硅行業(yè)中,一般直接將該高溫廢氮?dú)庖苑趴盏男问竭M(jìn)行處理,而未做進(jìn)一步的回收利用,也就是說(shuō),目前尚未有一種高溫廢氮?dú)獾幕厥绽霉に嚹軐⒏邷貜U氮?dú)庵械牡獨(dú)庵匦禄厥绽?,這不但造成廢氮?dú)庵械獨(dú)獾拇罅坷速M(fèi),增加企業(yè)的生產(chǎn)成本,導(dǎo)致企業(yè)的生產(chǎn)效率較低,還會(huì)對(duì)環(huán)境造成一定的污染。
      [0004]因此,在多晶硅生產(chǎn)過(guò)程中,如何能有效地回收利用高溫廢氮?dú)庵械牡獨(dú)獬蔀榱诵袠I(yè)內(nèi)亟待解決的問(wèn)題。
      實(shí)用新型內(nèi)容
      [0005]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中所存在的上述缺陷,提供一種多晶硅生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的高溫廢氮?dú)獾幕厥绽醚b置,其不但能有效回收利用高溫廢氮?dú)庵械牡獨(dú)?,還能有效降低高溫廢氮?dú)鈱?duì)環(huán)境的污染。
      [0006]解決本實(shí)用新型技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:
      [0007]所述多晶硅生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的高溫廢氮?dú)獾幕厥绽醚b置包括:過(guò)濾單元、冷卻單元和吸附單元,
      [0008]所述過(guò)濾單元的輸入端接入所述高溫廢氮?dú)?,其輸出端與冷卻單元的輸入端相連,用于去除所述高溫廢氮?dú)庵械墓腆w顆粒雜質(zhì),并將已去除固體顆粒雜質(zhì)的高溫廢氮?dú)廨敵鲋晾鋮s單元;
      [0009]所述冷卻單元的輸出端與吸附單元的第一輸入端相連,用于對(duì)所述已去除固體顆粒雜質(zhì)的高溫廢氮?dú)膺M(jìn)行降溫處理,以形成低溫廢氮?dú)?,并將所述低溫廢氮?dú)廨敵鲋廖絾卧?
      [0010]所述吸附單元的輸出端與氮?dú)庥脩?hù)相連,其內(nèi)填裝有吸附劑,用于去除所述低溫廢氮?dú)庵械臍怏w雜質(zhì),以形成純化后的低溫氮?dú)?,并將所述純化后的低溫氮?dú)廨敵鲋恋獨(dú)庥脩?hù)。
      [0011]優(yōu)選地,所述回收利用裝置還包括增壓?jiǎn)卧鲈鰤簡(jiǎn)卧妮斎攵伺c冷卻單元的輸出端相連,所述增壓?jiǎn)卧妮敵龆伺c吸附單元的第一輸入端相連,用于對(duì)所述低溫廢氮?dú)膺M(jìn)行增壓處理,并將增壓后的低溫廢氮?dú)廨敵鲋廖絾卧?br> [0012]優(yōu)選地,所述增壓?jiǎn)卧糜趯⑺龅蜏貜U氮?dú)庠鰤褐?.20MPaG?0.60MPaG。
      [0013]優(yōu)選地,所述回收利用裝置還包括緩沖單元,所述緩沖單元的輸入端與吸附單元的輸出端相連,所述緩沖單元的輸出端與氮?dú)庥脩?hù)相連,用于對(duì)所述純化后的低溫氮?dú)膺M(jìn)行穩(wěn)壓處理,并將穩(wěn)壓后的低溫氮?dú)廨敵鲋恋獨(dú)庥脩?hù)。
      [0014]優(yōu)選地,所述回收利用裝置還包括加熱單元,所述加熱單元的輸入端接入部分所述純化后的低溫氮?dú)猓黾訜釂卧妮敵龆伺c吸附單元的第二輸入端相連,用于對(duì)部分所述純化后的低溫氮?dú)膺M(jìn)行加熱處理,并將加熱后的部分所述純化后的低溫氮?dú)廨敵鲋廖絾卧?,以?duì)所述吸附單元中的吸附劑進(jìn)行再生處理。
      [0015]優(yōu)選地,所述加熱單元用于將部分所述純化后的低溫氮?dú)饧訜嶂?00°C?200°C。
      [0016]優(yōu)選地,所述冷卻單元用于將所述已去除固體顆粒雜質(zhì)的高溫廢氮?dú)饨禍刂?0°C?35°C。
      [0017]優(yōu)選地,所述氣體雜質(zhì)包括氯硅烷氣體雜質(zhì)和氯化氫氣體雜質(zhì),所述吸附單元內(nèi)填裝的吸附劑包括活性炭吸附劑。
      [0018]優(yōu)選地,所述吸附單元內(nèi)填裝的吸附劑還包括分子篩吸附劑。
      [0019]優(yōu)選地,所述活性炭吸附劑填裝在吸附單元的下部,所述分子篩吸附劑填裝在吸附單元的上部;所述吸附單元的第一輸入端位于吸附單元的下部,所述吸附單元的輸出端位于吸附單元的頂部。
      [0020]有益效果:
      [0021]本實(shí)用新型所述回收利用裝置能夠有效去除高溫廢氮?dú)庵械墓璺鄣裙腆w顆粒雜質(zhì),以及氯硅烷氣體和氯化氫氣體等氣體雜質(zhì),以形成純化后的氮?dú)獠⑤敵鲋恋獨(dú)庥脩?hù),從而能有效回收利用在多晶硅生產(chǎn)的各個(gè)工序中產(chǎn)生的高溫廢氮?dú)庵械牡獨(dú)?,降低了企業(yè)的生產(chǎn)成本,提高了企業(yè)的生產(chǎn)效率,此外,由于所述高溫廢氮?dú)庵械墓腆w顆粒雜質(zhì)和氣體雜質(zhì)已被去除,故所述回收利用裝置還有效降低了高溫廢氮?dú)鈱?duì)環(huán)境的污染,因此達(dá)到了節(jié)能減排的目的。

      【附圖說(shuō)明】

      [0022]圖1為本實(shí)用新型所述多晶硅生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的高溫廢氮?dú)獾幕厥绽醚b置的結(jié)構(gòu)示意圖。
      [0023]圖中:1 一過(guò)濾單元;2 —冷卻單元;3 —增壓?jiǎn)卧? 一吸附單元;5 —緩沖單元;6 —加熱單元;a —高溫廢氮?dú)?;b —已去除固體顆粒雜質(zhì)的高溫廢氮?dú)?;c 一低溫廢氮?dú)?;d 一冷介質(zhì)上水;e —冷介質(zhì)回水;f 一增壓后的低溫廢氮?dú)?;g —純化后的低溫氮?dú)猓籫’ -第一部分純化低溫氮?dú)?;g" —第二部分純化低溫氮?dú)獬鲆环€(wěn)壓后的低溫氮?dú)?;i 一第一部分穩(wěn)壓低溫氮?dú)?;j 一第二部分穩(wěn)壓低溫氮?dú)?;k 一第二部分穩(wěn)壓尚溫氮?dú)?;k’ 一第二部分純化高溫氮?dú)狻?br>
      【具體實(shí)施方式】
      [0024]為使本領(lǐng)域技術(shù)人員更好地理解本實(shí)用新型的技術(shù)方案,下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
      [0025]實(shí)施例:
      [0026]本實(shí)施例提供一種多晶硅生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的高溫廢氮?dú)獾幕厥绽醚b置,用于回收利用在多晶硅生產(chǎn)的各個(gè)工序(例如提純工序、合成工序、氫化工序,還原工序以及尾氣回收工序等)中所產(chǎn)生的高溫廢氮?dú)狻T诙嗑Ч枭a(chǎn)的各個(gè)工序中,作為公用工程介質(zhì)的氮?dú)庠谂c物料系統(tǒng)進(jìn)行接觸的過(guò)程中極易引入硅粉(即固體顆粒雜質(zhì))、氯硅烷氣體和氯化氫氣體(即氣體雜質(zhì))等雜質(zhì),從而形成高溫廢氮?dú)猓錅囟容^高、壓力較低,一般地,溫度為50°C?200°C,壓力為0.05MPaG?0.1OMPaG,若按照質(zhì)量分?jǐn)?shù)來(lái)計(jì)算,則所述高溫廢氮?dú)庵邪?6.5%?99.0%的氮?dú)狻?.5%?2.0%的硅粉、0.5%?1.0%的氯硅烷氣體,以及0.0%?0.5%的氯化氫氣體。
      [0027]如圖1所示,本實(shí)施例所述回收利用裝置包括過(guò)濾單元1、冷卻單元2、增壓?jiǎn)卧?、吸附單元4、穩(wěn)壓?jiǎn)卧?和加熱單元6。
      [0028]其中,所述過(guò)濾單元I的輸入端接入所述高溫廢氮?dú)鈇,其輸出端與冷卻單元2的輸入端相連,該輸入端作為冷卻單元2的第一輸入端(即圖1中的左上入口),用于去除高溫廢氮?dú)鈇中的固體顆粒雜質(zhì),所述固體顆粒雜質(zhì)包括硅粉和其它細(xì)小粉塵,并將已去除固體顆粒雜質(zhì)的高溫廢氮?dú)鈈輸出至冷卻單元。
      [0029]所述過(guò)濾單元I可采用現(xiàn)有的籃式過(guò)濾器,優(yōu)選其過(guò)濾精度為150目/英寸2?300目/英寸2,以充分過(guò)濾高溫廢氮?dú)鈇中的固體顆粒雜質(zhì),避免將固體顆粒雜質(zhì)帶入到后續(xù)設(shè)備并影響后續(xù)設(shè)備的運(yùn)行效果。
      [0030]所述冷卻單元2的輸出端與增壓?jiǎn)卧?的輸入端相連,該輸出端作為冷卻單元2的第一輸出端(即圖1中的右下出口),用于對(duì)所述已去除固體顆粒雜質(zhì)的高溫廢氮?dú)鈈進(jìn)行降溫處理,以形成低溫廢氮?dú)釩,并將所述低溫廢氮?dú)鈉輸出至增壓?jiǎn)卧?。
      [0031]所述冷卻單元2可包括換熱器和冷介質(zhì),所述換熱器可采用現(xiàn)有的換熱器,所述冷介質(zhì)可采用循環(huán)水、冷凍鹽水或7度水等冷介質(zhì),且冷介質(zhì)上水d從冷卻單元2的第二輸入端(即圖1中的左下入口)流入,冷介質(zhì)回水e從冷卻單元2的第二輸出端(即圖1中的右上出口)流出,使得從冷卻單元2的第一輸入端進(jìn)入的已去除固體顆粒雜質(zhì)的高溫廢氮?dú)鈈經(jīng)冷介質(zhì)換熱后,再?gòu)睦鋮s單元2的第一輸出端輸出,從而將已去除固體顆粒雜質(zhì)的高溫廢氮?dú)鈈從50°C?200°C降溫至20°C?35°C,以形成低溫廢氮?dú)釩。這里,設(shè)置冷卻單元2的目的主要是為了滿(mǎn)足吸附單元4以及后續(xù)設(shè)備的工藝溫度要求,因氣體溫度過(guò)高不利于吸附單元4對(duì)氣體雜質(zhì)的吸附。
      [0032]所述增壓?jiǎn)卧?的輸出端與吸附單元4的第一輸入端相連,用于對(duì)所述低溫廢氮?dú)鈉進(jìn)行增壓處理,并將增壓后的低溫廢氮?dú)鈌輸出至吸附單元4。
      [0033]所述增壓?jiǎn)卧?可采用現(xiàn)有的壓縮機(jī),用于將所述低溫廢氮?dú)鈉從0.05MPaG?0.1OMPaG增壓至0.20MPaG?0.60MPaG,以形成增壓后的低溫廢氮?dú)鈌。這里,設(shè)置增壓?jiǎn)卧?的目的一方面是為了滿(mǎn)足多晶硅生產(chǎn)的各個(gè)工序中氮?dú)庥脩?hù)對(duì)回收氮?dú)獾氖褂脡毫σ螅硪环矫媸菫榱吮阌谠鰤汉蟮牡蜏貜U氮?dú)鈌能夠更加順利地進(jìn)入吸附單元4內(nèi)并完成氣體雜質(zhì)的吸附。
      [0034]所述吸附單元4的輸出端與緩沖單元5的輸入端相連,其內(nèi)填裝有吸附劑,用于去除增壓后的低溫廢氮?dú)鈌中的氣體雜質(zhì),所述氣體雜質(zhì)包括氯硅烷氣體雜質(zhì)和氯化氫氣體雜質(zhì),以形成純化后的低溫氮?dú)鈍,并將所述純化后的低溫氮?dú)鈍輸出至穩(wěn)壓?jiǎn)卧?。所述吸附單元4也可稱(chēng)為吸附柱。
      [0035]所述吸附單元4內(nèi)填裝的吸附劑包括活性炭吸附劑,以最大程度地吸附增壓后的低溫廢氮?dú)鈌中的氯硅烷氣體雜質(zhì)和氯化氫氣體雜質(zhì),活性炭吸附劑的優(yōu)點(diǎn)是對(duì)氯硅烷氣體雜質(zhì)和氯化氫氣體雜質(zhì)的吸附能力較強(qiáng)且不易中毒;所述吸附單元4內(nèi)填裝的吸附劑還可包括分子篩吸附劑,用于進(jìn)一步吸附并凈化氯硅烷氣體雜質(zhì)和氯化氫氣體雜質(zhì),使得吸附單元4的輸出端輸出純化后的低溫氮?dú)鈍。
      [0036]優(yōu)選地,所述活性炭吸附劑填裝在吸附單元4的下部,所述分子篩吸附劑填裝在吸附單元4的上部;所述吸附單元4的第一輸入端位于吸附單元4的下部(即圖1中的左下入口)或底部,所述吸附單元的輸出端4位于吸附單元的頂部。如此設(shè)置,可使得增壓后的低溫廢氮?dú)鈌從吸附單元4的下部吸附口進(jìn)入,自下而上依次經(jīng)過(guò)活性炭吸附劑和分子篩吸附劑以充分吸附低溫廢氮?dú)鈌中的氯硅烷氣體雜質(zhì)和氯化氫氣體雜質(zhì),并從吸附單元4的頂部輸出純化后的低溫氮?dú)鈍。這里,活性炭吸附劑因?qū)β裙柰闅怏w雜質(zhì)和氯化氫氣體雜質(zhì)的吸附能力較強(qiáng)且不易中毒,故填裝在吸附單元4的下部而作為吸附主體,分子篩吸附劑因能夠進(jìn)一步吸附并凈化氯硅烷氣體雜質(zhì)和氯化氫氣體雜質(zhì)而輸出純化后的氮?dú)猓侍钛b在吸附單元4的上部而作為吸附客體,經(jīng)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證,從吸附單元4的頂部輸出純化后的低溫氮?dú)鈍的純度可達(dá)到99.999%以上。
      [0037]從吸附單元4輸出的純化后的低溫氮?dú)鈍已經(jīng)可以滿(mǎn)足多晶硅生產(chǎn)的各個(gè)工序中氮?dú)庥脩?hù)對(duì)其純度的要求,但是為了保證氮?dú)庥脩?hù)在使用純化后的低溫氮?dú)鈍時(shí)氣體壓力和流量的穩(wěn)定性,還需設(shè)置緩沖單元5。所述緩沖單元5的輸入端與吸附單元4的輸出端相連,所述緩沖單元5的輸出端與氮?dú)庥脩?hù)相連,用于對(duì)所述純化后的低溫氮?dú)鈍進(jìn)行穩(wěn)壓處理,以形成穩(wěn)壓后的低溫氮?dú)鈎,并將穩(wěn)壓后的低溫氮?dú)鈎輸出至氮?dú)庥脩?hù),供氮?dú)庥脩?hù)使用,從而實(shí)現(xiàn)了對(duì)高溫廢氮?dú)庵械牡獨(dú)獾幕厥绽?,避免了傳統(tǒng)的生產(chǎn)工藝中將高溫廢氮?dú)庵苯臃趴斩斐傻睦速M(fèi)以及對(duì)環(huán)境造成的污染。所述緩沖單元5可采用現(xiàn)有的氮?dú)饩彌_罐,其輸入端位于氮?dú)饩彌_罐的下部或底部,其輸出端位于氮?dú)饩彌_罐的頂部。
      [0038]為了對(duì)吸附單元4內(nèi)填充的吸附劑進(jìn)行再生,還需設(shè)置加熱單元6。所述加熱單元6的輸入端接入部分所述穩(wěn)壓后的低溫氮?dú)鈎,也就是說(shuō),穩(wěn)壓后的低溫氮?dú)鈎被分成兩部分,分別為第一部分穩(wěn)壓低溫氮?dú)鈏,其輸出至氮?dú)庥脩?hù),以及第二部分穩(wěn)壓低溫氮?dú)鈐,其輸出至加熱單元6的輸入端,且第二部分穩(wěn)壓低溫氮?dú)鈐的量占穩(wěn)壓后的低溫氮?dú)鈎總量的5%?10%。所述加熱單元6的輸出端與吸附單元4的第二輸入端相連,吸附單元4的第二輸入端位于吸附單元4的下部(即圖1中的右下入口)或底部,用于對(duì)第二部分穩(wěn)壓低溫氮?dú)鈐 (即部分所述純化后的低溫氮?dú)?進(jìn)行加熱處理,以形成第二部分穩(wěn)壓高溫氮?dú)鈑,并將第二部分穩(wěn)壓高溫氮?dú)鈑輸出至吸附單元4,以對(duì)所述吸附單元4中的吸附劑進(jìn)行再生處理,從而使得本實(shí)施例所述回收利用裝置能夠連續(xù)運(yùn)行。所述加熱單元6可采用現(xiàn)有的氮?dú)饧訜崞?,用于將第二部分穩(wěn)壓低溫氮?dú)鈐從20°C?35°C加熱至100°C?200°C,以形成第二部分穩(wěn)壓高溫氮?dú)鈑。
      [0039]此外,所述加熱單元6可不利用從緩沖單元5輸出的穩(wěn)壓后的低溫氮?dú)鈎,而是利用從吸附單元4輸出的純化后的低溫氮?dú)鈍,即所述加熱單元6的輸入端接入部分所述純化后的低溫氮?dú)鈍,也就是說(shuō),純化后的低溫氮?dú)鈍被分成兩部分,分別為第一部分純化低溫氮?dú)鈍’,其輸出至緩沖單元5的輸入端,以形成穩(wěn)壓后的低溫氮?dú)鈎供氮?dú)庥脩?hù)使用,以及第二部分純化低溫氮?dú)鈍〃,其輸出至加熱單元6的輸入端,經(jīng)加熱單元6處理后形成第二部分純化高溫氮?dú)鈑’,且第二部分純化低溫氮?dú)鈍〃的量占純化后的低溫氮?dú)鈍總量的5%?10%。
      [0040]上述實(shí)施例為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例。
      [0041]本實(shí)用新型所述回收利用裝置中的增壓?jiǎn)卧?、穩(wěn)壓?jiǎn)卧?和加熱單元6可以是可選單元,本領(lǐng)域技術(shù)人員可根據(jù)實(shí)際情況增減這些可選單元。例如,若不包括增壓?jiǎn)卧?,則冷卻單元2的第一輸出端直接與吸附單元4的第一輸入端相連。
      [0042]可以理解的是,以上實(shí)施方式僅僅是為了說(shuō)明本實(shí)用新型的原理而采用的示例性實(shí)施方式,然而本實(shí)用新型并不局限于此。對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言,在不脫離本實(shí)用新型的精神和實(shí)質(zhì)的情況下,可以做出各種變型和改進(jìn),這些變型和改進(jìn)也視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
      【權(quán)利要求】
      1.一種多晶硅生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的高溫廢氮?dú)獾幕厥绽醚b置,其特征在于,包括過(guò)濾單元、冷卻單元和吸附單元, 所述過(guò)濾單元的輸入端接入所述高溫廢氮?dú)?,其輸出端與冷卻單元的輸入端相連,用于去除所述高溫廢氮?dú)庵械墓腆w顆粒雜質(zhì),并將已去除固體顆粒雜質(zhì)的高溫廢氮?dú)廨敵鲋晾鋮s單元; 所述冷卻單元的輸出端與吸附單元的第一輸入端相連,用于對(duì)所述已去除固體顆粒雜質(zhì)的高溫廢氮?dú)膺M(jìn)行降溫處理,以形成低溫廢氮?dú)猓⑺龅蜏貜U氮?dú)廨敵鲋廖絾卧? 所述吸附單元的輸出端與氮?dú)庥脩?hù)相連,其內(nèi)填裝有吸附劑,用于去除所述低溫廢氮?dú)庵械臍怏w雜質(zhì),以形成純化后的低溫氮?dú)?,并將所述純化后的低溫氮?dú)廨敵鲋恋獨(dú)庥脩?hù)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的回收利用裝置,其特征在于,所述回收利用裝置還包括增壓?jiǎn)卧?,所述增壓?jiǎn)卧妮斎攵伺c冷卻單元的輸出端相連,所述增壓?jiǎn)卧妮敵龆伺c吸附單元的第一輸入端相連,用于對(duì)所述低溫廢氮?dú)膺M(jìn)行增壓處理,并將增壓后的低溫廢氮?dú)廨敵鲋廖絾卧?.根據(jù)權(quán)利要求2所述的回收利用裝置,其特征在于,所述增壓?jiǎn)卧糜趯⑺龅蜏貜U氮?dú)庠鰤褐?.20MPaG?0.60MPaG。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的回收利用裝置,其特征在于,所述回收利用裝置還包括緩沖單元,所述緩沖單元的輸入端與吸附單元的輸出端相連,所述緩沖單元的輸出端與氮?dú)庥脩?hù)相連,用于對(duì)所述純化后的低溫氮?dú)膺M(jìn)行穩(wěn)壓處理,并將穩(wěn)壓后的低溫氮?dú)廨敵鲋恋獨(dú)庥脩?hù)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的回收利用裝置,其特征在于,所述回收利用裝置還包括加熱單元,所述加熱單元的輸入端接入部分所述純化后的低溫氮?dú)?,所述加熱單元的輸出端與吸附單元的第二輸入端相連,用于對(duì)部分所述純化后的低溫氮?dú)膺M(jìn)行加熱處理,并將加熱后的部分所述純化后的低溫氮?dú)廨敵鲋廖絾卧?,以?duì)所述吸附單元中的吸附劑進(jìn)行再生處理。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的回收利用裝置,其特征在于,所述加熱單元用于將部分所述純化后的低溫氮?dú)饧訜嶂?00°C?200°C。7.根據(jù)權(quán)利要求1?6中任一項(xiàng)所述的回收利用裝置,其特征在于,所述冷卻單元用于將所述已去除固體顆粒雜質(zhì)的高溫廢氮?dú)饨禍刂?0°C?35°C。8.根據(jù)權(quán)利要求1?6中任一項(xiàng)所述的回收利用裝置,其特征在于,所述吸附單元的第一輸入端位于吸附單元的下部,所述吸附單元的輸出端位于吸附單元的頂部。
      【文檔編號(hào)】C01B21-04GK204281317SQ201420491705
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