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      由冶金硅制備三氯硅烷的閉環(huán)方法

      文檔序號:3464953閱讀:299來源:國知局
      專利名稱:由冶金硅制備三氯硅烷的閉環(huán)方法
      由冶金硅制備三氯硅烷的閉環(huán)方法本發(fā)明涉及由冶金硅制備三氯硅烷和四氯化硅的方法。這是多級方法,其中,在第一步中由冶金硅制備三氯硅烷和四氯化硅,在第二步中進(jìn)一步處理四氯化硅形成最終產(chǎn)物三氯硅烷。本發(fā)明還涉及可在其中整體實(shí)施該方法的裝置。三氯硅烷可用于例如制備高純硅。其涉及將三氯硅烷熱分解為高純硅。三氯硅烷進(jìn)而可由冶金硅以多級工藝制備。這一方式例如由DE2919086已知。然而,已知的制備三氯硅烷的方法通常具有在冶金硅向三氯硅烷轉(zhuǎn)化的整個(gè)過程中能耗非常高的缺點(diǎn)。此外,很多已知的方法具有未能使副產(chǎn)物的形成及其再利用或進(jìn)一步利用最優(yōu)化的缺點(diǎn)。從經(jīng)濟(jì)和生態(tài)觀點(diǎn)來看,已知方法特別是在這一方面非常需要改進(jìn)。

      因而,本發(fā)明的目的是提供一種優(yōu)化的由冶金硅制備三氯硅烷的技術(shù)方案,其滿足在所提出問題方面即使最高的要求。因此,目的是在一種多級裝置(Anlage)中,將產(chǎn)物料流和熱流以如下方式關(guān)聯(lián)起來盡可能高效地利用其中所用的原料和能量來制備最終產(chǎn)物二氣娃燒。這一目的通過下文中描述的部分方法和整個(gè)方法以及部分裝置和整個(gè)裝置來實(shí)現(xiàn)。特別地,本發(fā)明提供了一種由四氯化硅通過用氫氣加氫脫氯來制備三氯硅烷的方法,其中將至少一種含有四氯化硅的原料料流和至少一種含氫的原料料流通入加氫脫氯反應(yīng)器中,在該加氫脫氯反應(yīng)器中通過供入熱量使原料和產(chǎn)物之間的熱力學(xué)平衡位置向產(chǎn)物方向移動,并且將其中含有四氯化硅、三氯硅烷、氫氣和HCl的產(chǎn)物料流導(dǎo)出加氫脫氯反應(yīng)器外,其特征在于通過熱交換器冷卻產(chǎn)物料流,并預(yù)熱被引導(dǎo)經(jīng)過相同的熱交換器的含有四氯化硅的原料料流和/或含氫的原料料流。產(chǎn)物料流任選地可能還含有副產(chǎn)物例如二氯硅烷,一氯硅烷和/或硅烷。加氫脫氯反應(yīng)器中的平衡反應(yīng)通常在700°C到1000°C,優(yōu)選850°C到950°C,以及壓力在I到IObar范圍內(nèi),優(yōu)選3到8bar,更優(yōu)選4到6bar下進(jìn)行。在根據(jù)本發(fā)明的方法中,優(yōu)選通過來自反應(yīng)器的產(chǎn)物料流將含有四氯化硅的原料料流和/或含氫的原料料流預(yù)熱到150°C到900°C的溫度水平,優(yōu)選300°C到800°C,更優(yōu)選500。。到 700。。。根據(jù)本發(fā)明的方法設(shè)想,可使冷卻的產(chǎn)物料流離開熱交換器并將其導(dǎo)入至少一個(gè)下游部分裝置(Teilanlage)中,在該部分裝置中可將四氯化硅和/或三氯硅烷和/或氫氣和/或HCl從產(chǎn)物料流中分離出來。剛剛描述的至少一個(gè)部分裝置也可以是多個(gè)部分裝置的設(shè)置,在其中每一個(gè)中可以除去上述產(chǎn)物四氯化硅、三氯硅烷、氫氣和/或HCl中的一種或多種并作為料流繼續(xù)輸送。“產(chǎn)物”四氯化硅和氫氣實(shí)際上也可以是未轉(zhuǎn)化的原料。這里可以任選地除去存在于產(chǎn)物料流中的其它副產(chǎn)物例如二氯硅烷,一氯硅烷和/或硅烷。在根據(jù)本發(fā)明的方法中設(shè)想,能夠?qū)⒎蛛x出的四氯化硅作為料流導(dǎo)入含有四氯化硅的原料料流中和/或能夠?qū)⒎蛛x出的氫氣作為料流導(dǎo)入含氫的原料料流中,其中各自彼此獨(dú)立地可優(yōu)選在熱交換器的上游實(shí)施。還設(shè)想了能夠?qū)⒎蛛x出的三氯硅烷作為最終產(chǎn)物料流回收和/或能夠?qū)⒎蛛x出的HCl作為料流進(jìn)料至硅的氫氯化反應(yīng)。特別優(yōu)選的是輸送以上全部四種分離出的料流從而相應(yīng)地利用。根據(jù)本發(fā)明設(shè)想,本方法優(yōu)選是由冶金硅制備三氯硅烷的方法,其特征在于至少一種含有四氯化硅的原料料流和至少一種含氫的原料料流來自上游的氫氯化方法,其中該氫氯化方法包括冶金娃與HCl反應(yīng)。如上文已經(jīng)提到的,用于上游氫氯化方法的至少一部分HCl可來自在熱交換器下游的部分裝置中分離出來的HCl料流。根據(jù)本發(fā)明設(shè)想能在氫氯化反應(yīng)后在冷凝器中分離出至少一部分關(guān)聯(lián)產(chǎn)物氫,并、且能在蒸餾裝置中從剩余的產(chǎn)物混合物中至少分離出四氯化硅和三氯硅烷。在根據(jù)本發(fā)明的方法中優(yōu)選的是,將在冷凝器分離出的氫氣和/或在蒸餾裝置中分離出的四氯化硅導(dǎo)入加氫脫氯反應(yīng)器中,其中更優(yōu)選通過至少一種含氫的原料料流將分離出的氫氣和/或通過至少一種含有四氯化硅的原料料流將分離出的四氯化硅導(dǎo)入加氫脫氯反應(yīng)器中。在加氫脫氯反應(yīng)器中用于加氫脫氯反應(yīng)的熱量通常由加氫脫氯反應(yīng)器布置在其中的加熱室供入。加熱室和加氫脫氯反應(yīng)器的布置可以如此設(shè)計(jì)在加熱室內(nèi)設(shè)置一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器管,加熱室優(yōu)選通過電阻加熱方式加熱,或者加熱室優(yōu)選是由燃燒氣體和燃燒空氣操作的燃燒室。在根據(jù)本發(fā)明的方法中優(yōu)選的是,可通過如下方式擴(kuò)展,將燃燒室流出的煙氣用于下游的同流換熱器以預(yù)熱燃燒空氣。任選地,還可利用從同流換熱器流出的煙氣產(chǎn)生蒸氣。根據(jù)本發(fā)明方法的一個(gè)優(yōu)選的變形中,其包括任意或全部的上述可能變形,產(chǎn)物料流和含有四氯化硅的原料料流和/或含氫的原料料流可在每一情形中在壓力下被引導(dǎo)通過熱交換器,所述熱交換器包含由陶瓷材料制備的熱交換器元件。熱交換器元件的陶瓷材料優(yōu)選選自Al2O3, AIN, Si3N4, SiCN和SiC,更優(yōu)選選自Si-滲透的SiC,等靜壓SiC,熱等靜壓SiC或在不加壓條件下燒結(jié)的SiC (SSiC)。在所有描述的根據(jù)本發(fā)明方法的變形中,也可將含有四氯化硅的原料料流和含氫的原料料流作為共同(gemeinsamer)料流被引導(dǎo)通過熱交換器。在產(chǎn)物料流和原料料流的進(jìn)口處和出口處測量的熱交換器中不同料流之間的壓力差應(yīng)不大于IObar,優(yōu)選不大于5bar,更優(yōu)選不大于Ibar,特別優(yōu)選不大于0. 2bar。另外,產(chǎn)物料流在熱交換器進(jìn)口處的壓力比產(chǎn)物料流在加氫脫氯反應(yīng)器出口處的壓力應(yīng)當(dāng)?shù)筒淮笥?bar,其中產(chǎn)物料流在熱交換器進(jìn)口處和加氫脫氯反應(yīng)器出口處的壓力應(yīng)優(yōu)選相同。加氫脫氯反應(yīng)器出口處的壓力通常在I到IObar范圍,優(yōu)選在4到6bar范圍。在根據(jù)本發(fā)明方法的所有變形中,熱交換器優(yōu)選是殼管式熱交換器。本發(fā)明還提供了使四氯化硅與氫氣反應(yīng)形成三氯硅烷的裝置,包括-設(shè)置在加熱室或燃燒室中的加氫脫氯反應(yīng)器,其中設(shè)置可優(yōu)選包括一個(gè)或多個(gè)在燃燒室中的反應(yīng)器管;-引入加氫脫氯反應(yīng)器或一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器管的設(shè)置中的至少一個(gè)針對含四氯化硅的氣體的管線和至少一個(gè)含氫氣體的管線,其中可任選地提供含四氯化硅的氣體和含氫氣體的共同管線代替分開的管線;
      -從加氫脫氯反應(yīng)器中導(dǎo)出含有三氯硅烷和含有HCl的產(chǎn)物氣體的管線;-熱交換器,其優(yōu)選是殼管式熱交換器,產(chǎn)物氣體管線和至少一個(gè)四氯化硅管線和/或至少一個(gè)氫氣管線被如此引導(dǎo)通過該熱交換器以使熱量可以從產(chǎn)物氣體管線傳遞到至少一個(gè)四氯化硅管線和/或至少一個(gè)氫氣管線,其中熱交換器可任選地包含由陶瓷材料制成的熱交換器元件;-任選地,用于在各種情況下分離出包括四氯化硅,三氯硅烷,氫氣和HCl的產(chǎn)物中的一種或多種的一個(gè)部分裝置或含多個(gè)部分裝置的設(shè)置;-任選地,可將分離出的四氯化硅優(yōu)選在熱交換器上游導(dǎo)入四氯化硅管線中的管線.-任選地,通過其可將分離出的三氯硅烷進(jìn)料至最終產(chǎn)物取出過程的管線;-任選地,可將分離出的氫氣優(yōu)選在熱交換器上游導(dǎo)入氫氣管線的管線;以及-任選地,通過其可將分離出的HCl進(jìn)料至硅的氫氯化裝置的管線。可以以如下方式擴(kuò)展上文描述的本發(fā)明的裝置以使該裝置為由冶金硅制備三氯硅烷的裝置,其特征在于該裝置還包括-上游的氫氯化裝置,任選地,至少一部分所用的HCl經(jīng)由HCl料流導(dǎo)入該氫氯化
      裝置;-用于分離出至少一部分由氫氯化裝置中的反應(yīng)產(chǎn)生的關(guān)聯(lián)產(chǎn)物氫的冷凝器,其中通過氫氣管線將氫氣導(dǎo)入加氫脫氯反應(yīng)器或一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器管的設(shè)置中;-用于從氫氯化裝置中的反應(yīng)產(chǎn)生的剩余的產(chǎn)物混合物中至少分離出四氯化硅和三氯硅烷的蒸餾裝置,其中可通過四氯化硅管線將所述四氯化硅導(dǎo)入加氫脫氯反應(yīng)器或一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器管的設(shè)置中;以及-任選地,用從燃燒室流出的煙氣預(yù)熱打算供給到燃燒室的燃燒空氣的同流換熱器;和-任選地,由同流換熱器流出的煙氣產(chǎn)生蒸氣的裝置。圖I示例和示意性示出了一種由冶金硅制備三氯硅烷的本發(fā)明的裝置,包含冶金硅氫氯化反應(yīng)的部分裝置,包含重要的料流。圖2示意性示出了包括兩個(gè)包含重要料流的蒸餾管線的本發(fā)明裝置變形,通常特別適用于在流化床反應(yīng)器中硅的氫氯化反應(yīng)。圖3示意性示出了包括兩條包含重要料流的蒸餾管線的本發(fā)明裝置變形,通常特別適用于在固定床反應(yīng)器中硅的氫氯化反應(yīng)。圖4示意性示出了一種包括包含重要料流的蒸餾管線的本發(fā)明裝置變形,通常特別適用于在流化床反應(yīng)器中硅的氫氯化反應(yīng)。圖5示意性示出了一種包括包含重要料流的蒸餾管線的本發(fā)明裝置變形,通常特別適用于在固定床反應(yīng)器中硅的氫氯化反應(yīng)。圖I中所示的本發(fā)明裝置包括設(shè)置在燃燒室15內(nèi)的加氫脫氯反應(yīng)器3,含四氯化硅的氣體的管線I和含氫氣體的管線2,兩管線都通入加氫脫氯反應(yīng)器3中,將含有三氯硅烷和含有HCl的產(chǎn)物氣體從加氫脫氯反應(yīng)器3中導(dǎo)出的管線4,以及熱交換器5,產(chǎn)物氣體管線4和四氯化硅管線I和氫氣管線2被引導(dǎo)通過該熱交換器,以使熱量能夠從產(chǎn)物氣體管線4轉(zhuǎn)移到四氯化硅管線I和氫氣管線2。所述裝置進(jìn)一步包括用于分離出四氯化硅8、、三氯硅烷9、氫氣10和HCl 11的部分裝置7。在此情況下,將分離出的四氯化硅通過管線8導(dǎo)入四氯化硅管線I中,將分離出的三氯硅烷通過管線9進(jìn)料至最終產(chǎn)物取出過程,將分離出的氫氣通過管線10導(dǎo)入氫氣管線2以及將分離出的HCl通過管線11進(jìn)料至硅的氫氯化裝置12中。裝置此外包括用于分離出從氫氯化裝置12中的反應(yīng)產(chǎn)生的關(guān)聯(lián)產(chǎn)物氫的冷凝器13,其中將這些氫氣通過氫氣管線2經(jīng)由熱交換器5導(dǎo)入加氫脫氯反應(yīng)器3。還示出了經(jīng)由冷凝器13來自氫氯化裝置12的產(chǎn)物混合物中分離出四氯化硅I和三氯硅烷(TCS)以及低沸物(LS)和高沸物(HS)的蒸餾裝置14。該裝置最后還包括用從燃燒室15流出的煙氣20預(yù)熱打算供給到燃燒室15的燃燒空氣19的同流換熱器16,以及借助從同流換熱器16流出的煙氣20產(chǎn)生蒸氣的裝置17。
      、
      附圖
      標(biāo)記列表(I)含有四氯化硅的原料料流(2)含氫的原料料流(1,2)共同的原料料流(3)加氫脫氯反應(yīng)器(3a, 3b, 3c)反應(yīng)器管(4)產(chǎn)物料流(5)熱交換器(6)冷卻的產(chǎn)物料流(7)下游的部分裝置(7a, 7b, 7c)多個(gè)部分裝置的設(shè)置(8)在(7)或(7a,7b,7c)中分離出的四氯化硅料流(9)在(7)或(7a,7b,7c)中分離出的最終產(chǎn)物料流(10)在(7)或(7a, 7b, 7c)中分離出的氫氣料流(11)在(7)或(7a,7b,7c)中分離出的HCl料流(12)上游氫氯化方法或裝置(13)冷凝器(14)蒸餾裝置(15)加熱室或燃燒室(16)同流換熱器(17)產(chǎn)生蒸氣的裝置(18)燃燒氣體(19)燃燒空氣(20)煙氣(21)四氯化硅管線 (22)三氯硅烷/四氯化硅管線。
      權(quán)利要求
      1.由四氯化硅通過用氫氣加氫脫氯來制備三氯硅烷的方法,其中將至少一種含有四氯化硅的原料料流(I)和至少一種含氫的原料料流(2)導(dǎo)入加氫脫氯反應(yīng)器(3)中,和在其中通過供入熱量使原料和產(chǎn)物之間的熱力學(xué)平衡位置向產(chǎn)物方向移動,并將其中含有四氯化硅、三氯硅烷、氫和HCl的產(chǎn)物料流(4)從加氫脫氯反應(yīng)器(3)導(dǎo)出,其特征在于通過熱交換器(5)冷卻產(chǎn)物料流(4),并預(yù)熱被引導(dǎo)經(jīng)過相同的熱交換器(5)中的含有四氯化硅的原料料流(I)和/或含氫的原料料流(2)。
      2.根據(jù)權(quán)利要求I的方法,其特征在于通過產(chǎn)物料流(4)將含有四氯化硅的原料料流(I)和/或含氫的原料料流⑵預(yù)熱到150°C到900°C,優(yōu)選300°C到800°C,特別優(yōu)選500°C到700°C的溫度水平。
      3.根據(jù)權(quán)利要求I或2的方法,其特征在于使冷卻的產(chǎn)物料流(6)離開熱交換器(5)并將其導(dǎo)入至少一個(gè)下游的部分裝置(7)中,在該部分裝置中將四氯化硅和/或三氯硅烷和/或氫氣和/或HCl從產(chǎn)物料流(6)中分離出。
      4.根據(jù)權(quán)利要求3的方法,其特征在于所述至少一個(gè)部分裝置(7)是多個(gè)部分裝置(7a, 7b, 7c)的設(shè)置,在其中在每一1清況下分離出產(chǎn)物四氯化娃、三氯娃燒、氫和HCl中的一種或多種并作為料流繼續(xù)輸送。
      5.根據(jù)權(quán)利要求3或4的方法,其特征在于 -將四氯化硅分離出并作為料流(8)導(dǎo)入含有四氯化硅的原料料流(I)中,優(yōu)選在熱交換器(5)的上游導(dǎo)入;和/或 -分離出三氯硅烷并將其作為最終產(chǎn)物料流(9)取出;和/或 -分離出氫氣并將其作為料流(10)導(dǎo)入含氫的原料料流(2)中,優(yōu)選在熱交換器(5)的上游導(dǎo)入;和/或 -分離出HCl并將其作為料流(11)進(jìn)料至硅的氫氯化反應(yīng)。
      6.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的方法,其特征在于該方法是由冶金硅制備三氯硅烷的方法,其特征在于所述至少一種含有四氯化硅的原料料流(I)和所述至少一種含氫的原料料流(2)來自上游包括冶金硅與HCl反應(yīng)的氫氯化方法(12)。
      7.根據(jù)權(quán)利要求6的方法,其特征在于用于上游氫氯化方法(12)的至少一部分HCl來自于HCl料流(11)。
      8.根據(jù)權(quán)利要求6或7的方法,其特征在于在氫氯化方法(12)后在冷凝器(13)中分離出至少一部分關(guān)聯(lián)產(chǎn)物氫,并且在蒸餾裝置(14)中從剩余的產(chǎn)物混合物中至少分離出四氯化硅和三氯硅烷。
      9.根據(jù)權(quán)利要求8的方法,其特征在于將在冷凝器(13)中分離出的氫和/或在蒸餾裝置(14)中分離出來的四氯化硅導(dǎo)入加氫脫氯反應(yīng)器(3)中,其中優(yōu)選經(jīng)由至少一種含氫的原料料流(2)將分離出的氫氣和/或經(jīng)由至少一種含有四氯化硅的原料料流(I)將分離出的四氯化硅導(dǎo)入加氫脫氯反應(yīng)器(3)中。
      10.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法,其特征在于在加氫脫氯反應(yīng)器(3)中用于加氫脫氯反應(yīng)的熱量由加氫脫氯反應(yīng)器(3)設(shè)置在其中的加熱室(15)供入。
      11.根據(jù)權(quán)利要求10的方法,其特征在于設(shè)置在加熱室(15)中的加氫脫氯反應(yīng)器(3) 包含在加熱室(15)中的一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器管(3a,3b,3c)的設(shè)置,其中所述加熱室優(yōu)選通過電阻加熱方式加熱,或者所述加熱室優(yōu)選是用燃燒氣體(18)和燃燒空氣(19)操作的燃燒室(15)。
      12.根據(jù)權(quán)利要求11的方法,其特征在于將從燃燒室(15)流出的煙氣(20)用于下游的同流換熱器(16)以預(yù)熱燃燒空氣(19),并任選地將從同流換熱器(16)流出的煙氣(20)用于產(chǎn)生蒸氣。
      13.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的方法,其特征在于產(chǎn)物料流(4)和含有四氯化硅的原料料流(I)和/或含氫的原料料流(2)各自在壓力下被引導(dǎo)通過熱交換器(5),且所述熱交換器(5)包含由陶瓷材料制備的熱交換器元件。
      14.根據(jù)權(quán)利要求13的方法,其特征在于所述陶瓷材料選自Al2O3,AIN, Si3N4, SiCN或SiC,優(yōu)選選自Si-滲透的SiC,等靜壓SiC,熱等靜壓SiC或在不加壓條件下燒結(jié)的SiC(SSiC)。
      15.根據(jù)權(quán)利要求13或14的方法,其特征在于將含有四氯化硅的原料料流(I)和含氫的原料料流(2)作為共同料流(1,2)傳導(dǎo)通過熱交換器(5)。
      16.根據(jù)權(quán)利要求13至15任一項(xiàng)的方法,其特征在于在產(chǎn)物氣體料流(4,6)和原料氣體料流(1,2)的進(jìn)口處和出口處測量的熱交換器(5)中不同料流之間的壓力差不大于lObar,優(yōu)選不大于5bar,更優(yōu)選不大于lbar,特別優(yōu)選不大于0. 2bar。
      17.根據(jù)權(quán)利要求13至16任一項(xiàng)的方法,其特征在于產(chǎn)物料流(4)在熱交換器(5)進(jìn)口處的壓力比產(chǎn)物料流(4)在加氫脫氯反應(yīng)器(3)出口處的壓力低不大于2bar,其中產(chǎn)物料流(4)在熱交換器(5)進(jìn)口處和加氫脫氯反應(yīng)器(3)出口處的壓力優(yōu)選相同。
      18.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的方法,其特征在于熱交換器(5)是殼管式熱交換器。
      19.使四氯化硅與氫反應(yīng)形成三氯硅烷的裝置,包括 -設(shè)置在加熱室(15)或燃燒室(15)中的加氫脫氯反應(yīng)器(3),其中該設(shè)置優(yōu)選包括一個(gè)或多個(gè)在燃燒室(15)中的反應(yīng)器管(3a,3b,3c); -引入加氫脫氯反應(yīng)器(3)或一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器管(3a,3b,3c)設(shè)置中的至少一個(gè)用于含四氯化硅的氣體的管線(I)和至少一個(gè)用于含氫氣體的管線(2),其中任選地提供用于含有四氯化硅的氣體和含氫氣體的共同管線(1,2)代替分開的管線(I)和(2); -從加氫脫氯反應(yīng)器(3)中導(dǎo)出的引用含有三氯硅烷和含有HCl的產(chǎn)物氣體的管線(4); -熱交換器(5),其優(yōu)選是殼管式熱交換器,產(chǎn)物氣體管線(4)和至少一個(gè)四氯化硅管線(I)和/或至少一個(gè)氫氣管線(2)如此被引導(dǎo)經(jīng)過該熱交換器以使熱量能夠從產(chǎn)物氣體管線(4)傳遞到至少一個(gè)四氯化硅管線(I)和/或至少一個(gè)氫氣管線(2),其中熱交換器(5)任選地包含由陶瓷材料制成的熱交換器元件; -任選的用于在各種情況下分離出包括四氯化硅,三氯硅烷,氫和HCl的產(chǎn)物中的一種或多種的部分裝置(7)或包含多個(gè)部分裝置(7a,7b,7c)的設(shè)置; -任選的將分離出的四氯化硅導(dǎo)入四氯化硅管線(I)的管線(8),優(yōu)選在熱交換器(5)上游導(dǎo)入; -任選的管線(9),通過其將分離出的三氯硅烷進(jìn)料至最終產(chǎn)物取出過程; -任選的將分離出的氫導(dǎo)入氫氣管線(2)的管線(10),優(yōu)選在熱交換器(5)上游導(dǎo)入;以及 -任選的將分離出的HCl進(jìn)料至硅的氫氯化裝置的管線(11)。
      20.根據(jù)權(quán)利要求19的裝置,以如下方式擴(kuò)展使得該裝置為由冶金硅制備三氯硅烷的裝置,其特征在于該裝置還包括 -上游的氫氯化裝置(12),其中任選地,至少一部分所用的HCl經(jīng)由HCl料流(11)導(dǎo)入該氫氯化裝置(12); -用于分離出至少一部分由氫氯化裝置(12)中的反應(yīng)產(chǎn)生的關(guān)聯(lián)產(chǎn)物氫的冷凝器(13),其中通過氫氣管線(2)將所述氫導(dǎo)入加氫脫氯反應(yīng)器(3)或一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器管(3a, 3b, 3c)的設(shè)置中; -用于從氫氯化裝置(12)中的反應(yīng)中產(chǎn)生的剩余的產(chǎn)物混合物中至少分離出四氯化硅和三氯硅烷的蒸餾裝置(14),其中通過四氯化硅管線(I)將所述四氯化硅供入加氫脫氯反應(yīng)器(3)或一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器管(3a,3b,3c)的設(shè)置中;以及 -任選的用從燃燒室(15)流出的煙氣(20)預(yù)熱打算供給至燃燒室(15)的燃燒空氣(19)的同流換熱器(16);和 -任選的由同流換熱器(16)流出的煙氣(20)產(chǎn)生蒸氣的裝置(17)。
      全文摘要
      本發(fā)明涉及一種由冶金硅制備三氯硅烷和四氯化硅的多級方法,其中,在第一步中,由冶金硅制備三氯硅烷和四氯化硅,在第二步中,進(jìn)一步處理四氯化硅以形成最終產(chǎn)物三氯硅烷。本發(fā)明還涉及一種可在其中整體實(shí)施該方法的裝置。
      文檔編號C01B33/107GK102753477SQ201080061836
      公開日2012年10月24日 申請日期2010年12月16日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月18日
      發(fā)明者G·施托赫尼奧爾, I·倫特-里格, I·保利, R·馬爾茨科恩, Y·厄納爾 申請人:贏創(chuàng)德固賽有限公司
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