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      一種制備小片徑石墨烯的方法

      文檔序號:3453440閱讀:375來源:國知局
      一種制備小片徑石墨烯的方法
      【專利摘要】本發(fā)明提供一種高效制備小片徑石墨烯的方法,其采用隱晶質(zhì)石墨為原料制備小片徑石墨烯;具體包括如下步驟:①稱量適當(dāng)?shù)碾[晶質(zhì)石墨和有機(jī)溶劑,配制濃度為0.1-20mg/ml的隱晶質(zhì)石墨分散液;②對分散液進(jìn)行球磨或者超聲處理,得到石墨烯分散液;③對石墨烯分散液進(jìn)行離心,轉(zhuǎn)速控制在500-20000rpm范圍內(nèi);④收集離心所得上層液,洗滌,抽濾,烘干,得到厚度在10層以內(nèi)、尺寸分布均一的小片徑石墨烯。本發(fā)明具有工藝簡單,產(chǎn)率高,能耗小,成本低等優(yōu)勢,易推廣使用。
      【專利說明】一種制備小片徑石墨烯的方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及納米新材料【技術(shù)領(lǐng)域】,具體為利用隱晶質(zhì)石墨制備小片徑石墨稀的方法。
      【背景技術(shù)】
      [0002]石墨烯是碳原子緊密堆積成單層二維蜂窩狀晶格結(jié)構(gòu)的一種新材料,是構(gòu)建其他維數(shù)碳質(zhì)材料(如零維富勒烯、一維碳納米管、三維石墨等)的基本單元。石墨烯獨(dú)特的結(jié)構(gòu)賦予其卓越的物理化學(xué)性能,如超高的電子遷移率(2 X IO5Hi2/(V.s))、良好的透明度(可以吸收大約2.3%的可見光)、超大的比表面積(2630m2/g)、卓越的機(jī)械性能(楊氏模量ITPa)以及優(yōu)異的導(dǎo)熱性能(5000W/(m.Κ))等,在太陽能電池、超級電容器、光子傳感器、體管、觸摸屏及聚合物復(fù)合材料等領(lǐng)域有著巨大的應(yīng)用前景。
      [0003]當(dāng)前,石墨烯的制備方法主要分為兩種:化學(xué)方法和機(jī)械剝離法?;瘜W(xué)方法主要有氧化石墨還原法、化學(xué)氣相沉積法和外延生長法;機(jī)械剝離法主要有超聲法和球磨法。
      [0004]其中,氧化石墨還原法是將氧化石墨在水中進(jìn)行充分剝離,再對其進(jìn)行還原的方法。該方法制備的石墨烯由于經(jīng)過強(qiáng)氧化一還原的過程,石墨烯片層的電子共軛結(jié)構(gòu)受到破壞,導(dǎo)致其物理化學(xué)性能較差。
      [0005]化學(xué)氣相沉積法和外延生長法是在高溫環(huán)境下充入碳源氣體,如甲烷、乙炔等,在高溫下氣體分解后在基底上形成石墨烯。該方法制備的石墨烯多數(shù)以薄膜形式存在,面積大,缺點(diǎn)是生產(chǎn)條件苛刻,耗能大,成本高。
      [0006]液相超聲剝離法是將石墨加入某種有機(jī)溶劑或水中,借助超聲波對石墨的剝離破碎作用來制備石墨烯。Coleman 研究組[Hernandez, et al.High-Yield Production ofGraphene by Liquid-Phase Exfoliation of Graphite[J].Nat.Nanotechnol.2008,3
      (9),563568.]將石墨分散在有機(jī)溶劑N-甲基-2-吡咯烷酮中超聲制備石墨烯,得到尺寸大小在微米級別、缺陷少的高質(zhì)量石墨烯。該方法在大體積制備石墨烯的同時(shí)保護(hù)了石墨的晶體結(jié)構(gòu)。
      [0007]濕法球磨是將石墨粉置于有機(jī)溶劑中,通過球磨產(chǎn)生的剪切力將石墨片層剝離成單層或少數(shù)層石墨烯。陳國華研究組[陳國華等.一種生產(chǎn)石墨烯的方法:中國,101704520A[P].2010-5-12.]利用濕法球磨在表面張力為30-45mNM-1的有機(jī)溶劑中對石墨粉進(jìn)行IOh以上的球磨制備石墨烯。該方法可以高效地得到晶體結(jié)構(gòu)完整、厚度均一的石墨烯。
      [0008] 近年來,大量地制備高質(zhì)量石墨烯吸引了眾多目光,關(guān)于石墨烯的制備及其改性技術(shù)的報(bào)道日益增多。為了滿足不同方面的需求,對石墨烯的制備提出了更高的要求,主要集中在尺寸與厚度大小的控制上。目前制得的石墨烯尺寸大多為微米級別,片徑分布較寬大,如何高效制備小片徑石墨烯仍是一個(gè)難題。研究發(fā)現(xiàn),如果要得到小片徑石墨烯就需要長時(shí)間的對石墨進(jìn)行球磨或者超聲處理,不僅能耗大,且效率低。Coleman研究組[Khan U et al.High Concentration Solvent Exfoliation of Graphene [J].Small, 2010, 6 (7),864-871.]將石墨粉在N-甲基-2-吡咯烷酮中超聲312h得到尺寸分布廣、片徑大小為250X500nm的石墨烯。
      [0009]隱晶質(zhì)石墨又稱微晶石墨或土狀石墨,這種石墨的晶體直徑小于I P m,直徑分布主要集中在0.01-0.1 μ m,它是微晶石墨的集合體。隱晶質(zhì)石墨的含碳量一般為60-80%,經(jīng)過提純后可達(dá)99.995%。
      [0010] 申請人:對以隱晶質(zhì)石墨為原料來制備小片徑石墨烯的方法進(jìn)行反復(fù)的研究,遂得到本案。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0011]本發(fā)明的目的在于提供一種制備小片徑石墨烯的方法,其以隱晶質(zhì)石墨為原料,所制備的小片徑石墨烯尺寸較小且分布均一,解決了現(xiàn)有制備方法存在的低效率、高能耗、高成本、所得石墨烯尺寸較大等問題。
      [0012]為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:
      [0013]一種制備小片徑石墨烯的方法,至少包括以下步驟:
      [0014](1)稱量計(jì)量的隱晶質(zhì)石墨和有機(jī)溶劑,配制濃度為0.l-20mg/ml的隱晶質(zhì)石墨分散液;
      [0015](2)對隱晶質(zhì)石墨分散液在球磨設(shè)備中進(jìn)行球磨或者在超聲設(shè)備中進(jìn)行超聲處理,得到石墨烯分散液;
      [0016](3)對石墨烯分散液進(jìn)行離心,轉(zhuǎn)速控制在500-20000rpm范圍內(nèi);
      [0017](4)收集離心所得上層液,洗滌,抽濾,烘干,得到厚度在10層以內(nèi)、尺寸分布均一的小片徑石墨稀。
      [0018]所述的隱晶質(zhì)石墨含碳量> 60%ο
      [0019]所述有機(jī)溶劑為N-甲基-2-吡咯烷酮,N, N- 二甲基甲酰胺,N, N- 二甲基乙酰胺,四甲基脲,N-甲基乙酰胺,乙酰胺,吡咯,吡唆,四氫呋喃,鄰二氯苯,三氯甲烷,乙腈,丙酮,二甲基亞砜,Y - 丁內(nèi)酯,1,3- 二甲基-2-咪唑并烷酮中的一種或多種的混合。
      [0020]所述步驟(1)中,通過超聲處理使得所述隱晶質(zhì)石墨分散液均勻混合。
      [0021]所述步驟(2)中,所述球磨設(shè)備包括行星式球磨機(jī)、攪拌球磨機(jī)、罐磨球磨機(jī)或臥式球磨機(jī),球磨的時(shí)間為0.5-72h。
      [0022]所述步驟(2)中,超聲處理時(shí)間為0.5_120h。
      [0023]所述步驟(3)中,離心時(shí)間為10_90min。
      [0024]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的優(yōu)勢在于:
      [0025](I)隱晶質(zhì)石墨的晶體直徑小于ΙμL?,主要集中在0.01-0.Ιμπι之間。本發(fā)明提供的利用隱晶質(zhì)石墨制備小片徑石墨烯的方法,解決了當(dāng)前制備小片徑石墨烯低效率、高能耗、高成本、所得石墨烯尺寸為微米級且分布廣等問題,可以進(jìn)行大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn);
      [0026](2)本發(fā)明可以得到厚度在10層以內(nèi)、尺寸分布均一、大小為100 X 100-200 X 200nm之間的小片徑石墨烯。
      【專利附圖】

      【附圖說明】
      [0027]圖1為本發(fā)明中隱晶質(zhì)石墨的透射電鏡圖;[0028]圖2為本發(fā)明方法所得的小片徑石墨烯的透射電鏡圖;
      [0029]圖3為本發(fā)明方法所得的小片徑石墨烯的高倍透射電鏡圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0030]本發(fā)明中的原料隱晶質(zhì)石墨的透射電鏡圖如圖1所示,通過本發(fā)明方法制備得到的小片徑石墨烯的透射電鏡圖如圖2所示,其高倍電鏡圖如圖3所示。為了更好的理解本發(fā)明,下面結(jié)合實(shí)施例進(jìn)一步闡述本發(fā)明的內(nèi)容,但是本發(fā)明的內(nèi)容并不僅僅局限于以下的實(shí)施例。
      [0031]實(shí)施例1:
      [0032](1)稱取0.5g含碳量為70%的隱晶質(zhì)石墨備用;
      [0033](2)將上述隱晶質(zhì)石墨放置于500ml N,N-二甲基甲酰胺超聲48h得到黑色的石墨烯分散液;
      [0034](3)將超聲后的石墨分散液靜置12h后,取上層石墨烯分散液備用;
      [0035](4)將步驟(3)中的上層石墨烯分散液以4500rpm的轉(zhuǎn)速離心45min,收集其上層液,用蒸餾水洗滌3次后,再用無水乙醇洗滌,抽濾,80°C鼓風(fēng)干燥24h,得到10層以內(nèi)、尺寸大小為200X200nm的石墨烯。
      [0036]實(shí)施例2:
      [0037](I)稱取0.5g含碳量為77%的隱晶質(zhì)石墨備用;
      [0038](2)將上述隱晶質(zhì)石墨放置于800ml N, N-二甲基甲酰胺/丙酮的混合液中(3:1v/V)中超聲30min得到黑色的石墨分散液,再轉(zhuǎn)移至臥式球磨機(jī)中的球磨罐(球磨罐材質(zhì)為聚四氟乙烯,磨珠材質(zhì)為氧化錯(cuò),球料比為500:1),以350rpm的轉(zhuǎn)速球磨36h,得到石墨烯分散液;
      [0039](3)將球磨后的石墨烯分散液倒于燒杯中,靜置12h,取上層石墨烯分散液備用;
      [0040](4)將步驟(3)中的上層石墨烯分散液以1000Orpm的轉(zhuǎn)速離心30min,收集其上層液,用蒸餾水洗滌3次后,再用無水乙醇洗滌,抽濾,80°C鼓風(fēng)干燥24h,得到10層以內(nèi)、尺寸大小為100X200nm的石墨烯。
      [0041]實(shí)施例3:
      [0042](I)稱取0.5g含碳量為86%的隱晶質(zhì)石墨備用;
      [0043](2)將上述隱晶質(zhì)石墨放置于200ml N,N-二甲基甲酰胺中超聲30min得到黑色的石墨分散液,再轉(zhuǎn)移至行星式球磨機(jī)中的球磨罐(球磨罐材質(zhì)為聚四氟乙烯,磨珠材質(zhì)為氧化鋯,球料比為500:1),以350rpm的轉(zhuǎn)速球磨8h,得到石墨烯分散液;
      [0044](3)將球磨后的石墨烯分散液倒于燒杯中,靜置12h,取上層石墨烯分散液備用;
      [0045](4)將步驟(3)中的上層石墨烯分散液以1000Orpm的轉(zhuǎn)速離心30min,收集其上層液,用蒸餾水洗滌3次后,再用無水乙醇洗漆,抽濾,60°C鼓風(fēng)干燥36h,得到10層以內(nèi)、尺寸大小為IOOXlOOnm的石墨烯。
      [0046]實(shí)施例4:
      [0047](I)稱取0.5g含碳量為88%的隱晶質(zhì)石墨備用;
      [0048](2)將上述隱晶質(zhì)石墨放置于400ml N-甲基_2_吡咯烷酮中超聲30min得到黑色的石墨分散液,再轉(zhuǎn)移至攪拌式球磨機(jī)中的球磨罐(球磨罐材質(zhì)為聚四氟乙烯,磨珠材質(zhì)為氧化鋯,球料比為1000:1),以600rpm的轉(zhuǎn)速球磨6h,得到石墨烯分散液;
      [0049](3)將球磨后的石墨烯分散液倒于燒杯中,靜置12h,取上層石墨烯分散液備用;
      [0050](4)將步驟(3)中的上層石墨烯分散液以8000rpm的轉(zhuǎn)速離心45min,收集其上層液,用蒸餾水洗滌3次后,再用無水乙醇洗滌,抽濾,80°C鼓風(fēng)干燥24h,得到10層以內(nèi)、尺寸大小為200X200nm的石墨烯。
      [0051]實(shí)施例5:
      [0052](I)稱取0.25g含碳量為88%的隱晶質(zhì)石墨備用;
      [0053](2)將上述隱晶質(zhì)石墨放置于500ml鄰二氯苯中超聲12h得到黑色的石墨烯分散液;
      [0054](3)將超聲后的石墨烯分散液靜置12h后,取上層石墨烯分散液備用;
      [0055](4)將步驟(3)中的上層石墨烯分散液以1000Orpm的轉(zhuǎn)速離心30min,收集其上層液,用蒸餾水洗滌3次后,再用無水乙醇洗滌,抽濾,100°C鼓風(fēng)干燥12h,得到10層以內(nèi)、尺寸大小為200X200nm的石墨烯。
      [0056]實(shí)施例6:
      [0057](I)稱取0.25g含碳量為85%的隱晶質(zhì)石墨備用;
      [0058](2)將上述隱晶質(zhì)石墨放置于1000ml N-甲基_2_吡咯烷酮中超聲36h得到黑色的石墨烯分散液;
      [0059](3)將超聲后的石墨烯分散液靜置12h后,取上層石墨烯分散液備用;
      [0060](4)將步驟(3)中的上層石墨烯分散液以18000rpm的轉(zhuǎn)速離心45min,收集其上層液,用蒸餾水洗滌3次后,再用無水乙醇洗滌,抽濾,80°C鼓風(fēng)干燥24h,得到10層以內(nèi)、尺寸大小為IOOXlOOnm的石墨烯。
      [0061]實(shí)施例7:
      [0062]( I)稱取Ig含碳量為90%的隱晶質(zhì)石墨備用;
      [0063](2)將上述隱晶質(zhì)石墨放置于500ml鄰二氯苯中超聲48h得到黑色的石墨烯分散液;
      [0064](3)將超聲后的石墨烯分散液靜置12h后,取上層石墨烯分散液備用;
      [0065](4)將步驟(3)中的上層石墨烯分散液以4500rpm的轉(zhuǎn)速離心45min,收集其上層液,用蒸餾水洗滌3次后,再用無水乙醇洗滌,抽濾,80°C鼓風(fēng)干燥24h,得到10層以內(nèi)、尺寸大小為200X200nm的石墨烯。
      [0066]實(shí)施例8:
      [0067](I)稱取0.5g含碳量為88%的隱晶質(zhì)石墨備用;
      [0068](2)將上述隱晶質(zhì)石墨放置于500ml三氯甲烷中超聲60h得到黑色的石墨烯分散液;
      [0069](3)將超聲后的石墨烯分散液靜置12h后,取上層石墨烯分散液備用;
      [0070](4)將步驟(3)中的上層石墨烯分散液以12000rpm的轉(zhuǎn)速離心30min,收集其上層液,用蒸餾水洗滌3次后,再用無水乙醇洗滌,抽濾,80°C鼓風(fēng)干燥24h,得到10層以內(nèi)、尺寸大小為IOOXlOOnm的石墨烯。
      【權(quán)利要求】
      1.一種制備小片徑石墨烯的方法,其特征在于,至少包括以下步驟: (O稱量計(jì)量的隱晶質(zhì)石墨和有機(jī)溶劑,配制濃度為0.l-20mg/ml的隱晶質(zhì)石墨分散液; (2)對隱晶質(zhì)石墨分散液在球磨設(shè)備中進(jìn)行球磨或者在超聲設(shè)備中進(jìn)行超聲處理,得到石墨烯分散液; (3)對石墨烯分散液進(jìn)行離心,轉(zhuǎn)速控制在500-20000rpm范圍內(nèi); (4)收集離心所得上層液,洗滌,抽濾,烘干,得到厚度在10層以內(nèi)、尺寸分布均一的小片徑石墨稀。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備小片徑石墨烯的方法,其特征在于:所述的隱晶質(zhì)石墨含碳量> 60%。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備小片徑石墨烯的方法,其特征在于:所述有機(jī)溶劑為N-甲基-2-吡咯烷酮,N, N- 二甲基甲酰胺,N, N- 二甲基乙酰胺,四甲基脲,N-甲基乙酰胺,乙酰胺,吡咯,吡啶,四氫呋喃,鄰二氯苯,三氯甲烷,乙腈,丙酮,二甲基亞砜,Y - 丁內(nèi)酯,1,3- 二甲基-2-咪唑并烷酮中的一種或多種的混合。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備小片徑石墨烯的方法,其特征在于:所述步驟(1)中,通過超聲處理使得所述隱晶質(zhì)石墨分散液均勻混合。
      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備小片徑石墨烯的方法,其特征在于:所述步驟(2)中,所述球磨設(shè)備包括行星式球磨機(jī)、攪拌球磨機(jī)、罐磨球磨機(jī)或臥式球磨機(jī),球磨的時(shí)間為 0.5-72h。
      6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備小片徑石墨烯的方法,其特征在于:所述步驟(2)中,超聲處理時(shí)間為0.5-120h。
      7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備小片徑石墨烯的方法,其特征在于:所述步驟(3)中,離心時(shí)間為10-90min。
      【文檔編號】C01B31/04GK103922323SQ201410142241
      【公開日】2014年7月16日 申請日期:2014年4月10日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月10日
      【發(fā)明者】陳國華, 林少芬, 趙立平 申請人:華僑大學(xué), 廈門凱納石墨烯技術(shù)有限公司
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