玻璃基板的制造方法、玻璃基板、及顯示器用面板的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種玻璃基板的制造方法、玻璃基板、及顯示器用面板。
【背景技術(shù)】
[0002] 液晶顯示裝置等平板顯示器的制造是使用玻璃基板。在平板顯示器的制造步驟 中，為了在玻璃基板表面形成TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶體管）等半導(dǎo)體元件，將 玻璃基板載置于半導(dǎo)體制造裝置的反應(yīng)容器內(nèi)的基座進(jìn)行成膜處理。為了在玻璃基板形成 多種薄膜，利用多個(gè)半導(dǎo)體制造裝置進(jìn)行多次成膜處理。每次進(jìn)行成膜處理時(shí)，從基座卸除 玻璃基板。此時(shí)，在載置玻璃基板的基座的金屬表面與玻璃基板表面之間，產(chǎn)生由摩擦引起 的靜電、即剝離帶電，而在玻璃基板儲(chǔ)存靜電。因此，進(jìn)行多次成膜處理后的玻璃基板儲(chǔ)存 著大量靜電。
[0003] 尤其，關(guān)于液晶顯示裝置中使用的由無(wú)堿玻璃構(gòu)成的玻璃基板，其表面容易帶電， 不易去除靜電。而且，如果重復(fù)產(chǎn)生剝離帶電，則玻璃基板容易因靜電而貼附在基座的金屬 表面。由此，存在如下情況：當(dāng)將玻璃基板從基座卸除時(shí)，因?qū)ΣＡЩ迨┘舆^(guò)度的力而使 玻璃基板破損。另外，存在如下情況:起因于由剝離帶電儲(chǔ)存的靜電的電壓會(huì)破壞形成在玻 璃基板表面的半導(dǎo)體元件。進(jìn)而，存在如下情況：因玻璃基板的靜電的帶電，而導(dǎo)致塵及埃 等微小異物附著在玻璃基板表面。
[0004] 在所述狀況下，提出了平板顯示器的制造步驟中的不易產(chǎn)生表面帶電的玻璃基板 的制造。例如，專(zhuān)利文獻(xiàn)1(日本專(zhuān)利特開(kāi)2005-255478號(hào)公報(bào)）中披露的玻璃基板具有作為 形成電極線(xiàn)或各種器件的表面的器件面、及作為器件面的相反側(cè)的表面的粗面化面。粗面 化面是通過(guò)物理研磨或化學(xué)處理形成凹凸而粗面化的面，具有0.3nm~10nm的算術(shù)平均粗 糙度Ra。通過(guò)粗面化面的粗面化處理來(lái)抑制玻璃基板的帶電。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] [發(fā)明要解決的問(wèn)題]
[0006] 玻璃基板的經(jīng)粗面化的表面具有微小的凹凸形狀。另外，玻璃基板與載置玻璃基 板的平臺(tái)的接觸面積越小，越不易產(chǎn)生剝離帶電。因此，玻璃基板表面的粗糙度曲線(xiàn)的凸部 的數(shù)量越多，玻璃基板與平臺(tái)的接觸面積變得越小，因此更有效地抑制玻璃基板的帶電。但 是，作為表示玻璃基板表面的粗面化的程度的參數(shù)的一種的Ra與玻璃基板表面的粗糙度曲 線(xiàn)的凸部的數(shù)量不具有相關(guān)關(guān)系。因此，有如下可能性：即使在以Ra成為規(guī)定范圍的方式將 玻璃基板表面粗面化的情況下，也無(wú)法充分抑制玻璃基板的帶電。
[0007] 另外，于在玻璃基板表面整體未均勻地分散凸部的情況下，玻璃基板表面具有集 中形成了多個(gè)凸部的區(qū)域及幾乎未形成凸部的區(qū)域。幾乎未形成凸部的區(qū)域是與平臺(tái)的接 觸面積局部大的區(qū)域，因此是容易產(chǎn)生剝離帶電的區(qū)域。因此，在玻璃基板表面的凸部的分 布不均的情況下，玻璃基板有可能會(huì)具有無(wú)法充分抑制帶電的區(qū)域。因此，為了充分抑制玻 璃基板表面整體的帶電而使玻璃基板的品質(zhì)提升，必須在玻璃基板表面均勻地分散著凸 部。
[0008] 本發(fā)明的目的在于提供一種有效地抑制表面帶電的玻璃基板的制造方法。
[0009] [解決問(wèn)題的技術(shù)手段]
[0010] 本發(fā)明的玻璃基板的制造方法是具有以下步驟的顯示器用玻璃基板的制造方法： 制造步驟，制造玻璃基板;及表面處理步驟，進(jìn)行在作為玻璃基板的一主表面的玻璃表面形 成凹凸的表面處理。表面處理步驟中，在玻璃表面分散地形成距其粗糙度曲線(xiàn)的平均線(xiàn)的 高度為lnm以上的凸部。表面處理步驟中，以凸部面積比率成為0.5%~10%的方式進(jìn)行表 面處理。凸部面積比率是凸部的面積占據(jù)任意矩形區(qū)域的面積的比率。矩形區(qū)域是具有一 邊的長(zhǎng)度為Ιμπι的正方形形狀且占據(jù)玻璃表面的一部分的區(qū)域。表面處理步驟中，在矩形區(qū) 域被均等地分割成具有正方形形狀的至少100個(gè)分割區(qū)域的情況下，以含有凸部的比率成 為80%以上的方式進(jìn)行表面處理。含有凸部的比率是具有凸部的分割區(qū)域的數(shù)量占據(jù)矩形 區(qū)域中所含的分割區(qū)域的數(shù)量的比率。
[0011] 在該玻璃基板的制造方法中，含有凸部的比率是表示玻璃基板表面的凸部的分布 不均的程度的指標(biāo)。含有凸部的比率越大，則凸部的分布不均越小，在玻璃基板表面越均勻 地分散著凸部。含有凸部的比率越小，則凸部的分布不均越大，在玻璃基板表面越不均勻地 分散著凸部。在將玻璃基板載置于平臺(tái)的情況下，凸部的分布不均越小，則玻璃基板表面與 平臺(tái)表面接觸的區(qū)域的面積容易變得越小，因此越能夠抑制玻璃基板的帶電。即，該玻璃基 板的制造方法是通過(guò)以含有凸部的比率成為80%以上的方式進(jìn)行玻璃基板的表面處理，而 能夠有效地抑制玻璃基板的帶電。
[0012] 另外，凸部面積比率優(yōu)選0.75%~7.0%。
[0013]另外，含有凸部的比率優(yōu)選90%以上。
[0014] 另外，表面處理優(yōu)選化學(xué)蝕刻處理。
[0015] 另外，與玻璃表面為相反側(cè)的主表面優(yōu)選形成半導(dǎo)體元件的器件面。
[0016] 另外，器件面優(yōu)選形成低溫多晶硅半導(dǎo)體或氧化物半導(dǎo)體的面。
[0017] 另外，玻璃基板優(yōu)選由包含Si、Al及Β作為組成的硼鋁硅酸鹽玻璃構(gòu)成。
[0018] 本發(fā)明的玻璃基板是在作為玻璃基板的一主表面的玻璃表面，分散地形成距其粗 糙度曲線(xiàn)的平均線(xiàn)的高度為lnm以上的凸部。玻璃基板的凸部面積比率為0.5 %~10 %。凸 部面積比率是凸部的面積占據(jù)任意矩形區(qū)域的面積的比率。矩形區(qū)域是具有一邊的長(zhǎng)度為 lMi的正方形形狀且占據(jù)玻璃表面的一部分的區(qū)域。在矩形區(qū)域被均等地分割成具有正方 形形狀的至少100個(gè)分割區(qū)域的情況下，玻璃基板的含有凸部的比率為80%以上。含有凸部 的比率是具有凸部的分割區(qū)域的數(shù)量占據(jù)矩形區(qū)域中所含的分割區(qū)域的數(shù)量的比率。與玻 璃表面為相反側(cè)的主表面是形成半導(dǎo)體元件的器件面。
[0019] 另外，器件面優(yōu)選形成低溫多晶硅半導(dǎo)體或氧化物半導(dǎo)體的面。
[0020] 另外，玻璃基板優(yōu)選由包含Si、Al及B作為組成的硼鋁硅酸鹽玻璃構(gòu)成。
[0021] 本發(fā)明的顯示器用面板是形成了半導(dǎo)體元件的玻璃基板。顯示器用面板包括第1 主表面及第2主表面。第1主表面是玻璃基板的一主表面，且分散地形成距其粗糙度曲線(xiàn)的 平均線(xiàn)的高度為lnm以上的凸部。第2主表面是與第1主表面為相反側(cè)的主表面，且形成半導(dǎo) 體元件。顯示器用面板的凸部面積比率為0.5%~10%。凸部面積比率是凸部的面積占據(jù)任 意矩形區(qū)域的面積的比率。矩形區(qū)域是具有一邊的長(zhǎng)度為Ιμπι的正方形形狀且占據(jù)玻璃表 面的一部分的區(qū)域。在矩形區(qū)域被均等地分割成具有正方形形狀的至少100個(gè)分割區(qū)域的 情況下，顯示器用面板的含有凸部的比率為80%以上。含有凸部的比率是具有凸部的分割 區(qū)域的數(shù)量占據(jù)矩形區(qū)域中所含的分割區(qū)域的數(shù)量的比率。
[0022]另外，顯示器用面板優(yōu)選具有配線(xiàn)的最小線(xiàn)寬未達(dá)4μπι且柵極絕緣膜的膜厚未達(dá) 100nm的電路的TFT面板。
[0023][發(fā)明的效果]
[0024] 通過(guò)本發(fā)明的玻璃基板的制造方法制造的玻璃基板能夠有效地抑制表面帶電。
【附圖說(shuō)明】
[0025] 圖1是實(shí)施方式的玻璃基板的剖視圖。
[0026] 圖2是表示實(shí)施方式的玻璃基板的制造方法的流程圖。
[0027] 圖3是浸水式蝕刻裝置的概略圖。
[0028] 圖4是表示形成在玻璃基板的粗面化面的凸部的圖。
[0029] 圖5是表示形成在粗面化面的凸部的分布的一例的圖。
[0030] 圖6是表示粗面化面的矩形區(qū)域中所含的分割區(qū)域的圖。
[0031]圖7是表示變化例B中的干式蝕刻裝置的一例的圖。
[0032] 圖8是表示變化例B中的濕式蝕刻裝置的一例的圖。
[0033] 圖9是用來(lái)評(píng)估實(shí)施例中的玻璃基板的帶電性的裝置的概略圖。
[0034] 圖10是表示實(shí)施例中的進(jìn)行氫氟酸浸水蝕刻處理后的玻璃基板表面的凸部的分 布的一例的圖。
[0035] 圖11是表示實(shí)施例中的進(jìn)行氧化鈰系研磨處理后的玻璃基板表面的凸部的分布 的一例的圖。
【具體實(shí)施方式】
[0036] (1)玻璃基板的制造方法的概略
[0037] -邊參照附圖一邊對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。通過(guò)本實(shí)施方式中使用的玻璃 基板的制造方法制造的玻璃基板10是用于制造液晶顯示器、等離子體顯示器及有機(jī)EL (Electroluminescence，電致發(fā)光）顯不器等平板顯不器（FPD，F(xiàn)lat Panel Display)。玻璃 基板10也用于制造太陽(yáng)電池面板。玻璃基板10例如具有0.2mm~0.8mm的厚度，且具有縱 680mm ~2200mm 及橫880mm ~2500mm 的尺寸。
[0038]圖1是玻璃基板10的剖視圖。玻璃基板10具有作為一主表面的元件形成面12及作 為另一主表面的粗面化面14。元件形成面1