專利名稱：新型化合物以及含有該化合物的放射線敏感性組合物的制作方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及作為光聚合引發(fā)劑而有用的新型化合物以及含有該新型化合物的放射線敏感性組合物。
背景技術(shù)：
放射線敏感性組合物由于可以通過涂布工藝大量且容易地形成固化物，該固化物的微細加工也容易等優(yōu)點，所以除了作為液晶裝置、半導體裝置制作用材料等以外，還廣泛用于光固化性油墨、感光性印刷版等中。這種放射線敏感性組合物代表性包含具有乙烯基不飽和鍵的聚合性化合物以及光聚合引發(fā)劑。在上述固化物形成工藝中，可以通過將該放射線敏感性組合物涂布到玻璃基板等上形成覆膜，接著通過具有水銀燈的曝光裝置對該覆膜曝光，可以形成作為固化物的固化膜。水銀燈是在紫外 可見光波長區(qū)域具有水銀特有的亮線光譜的燈，在254nm、 365nm、405nm等具有強度大的水銀燈特有的亮線。其中，開發(fā)出了有效利用365nm、405nm的亮線的高放射線靈敏度的光聚合引發(fā)劑(例如，參照專利文獻1)。上述這種高放射線靈敏度的光聚合引發(fā)劑大多是在可見光區(qū)域具有極大吸收的化合物，大多情況下略微帶有紅色。而且，如果使用略微帶有紅色的光聚合引發(fā)劑，固化膜也同樣略微呈現(xiàn)紅色，透明性降低，所以可能無法適用于適合液晶裝置等使用的在可見光區(qū)域必須有高的透過性的固化膜。另一方面，目前使用的乙酰苯類引發(fā)劑(例如，參照專利文獻2)由于在300nm附近具有極大吸收，所以光聚合引發(fā)劑自身也大致是白色的，使用乙酰苯類引發(fā)劑的固化膜在可見光區(qū)域顯示高的透明性。但是，這種乙酰苯類引發(fā)劑的放射線靈敏度低，為了得到具有足夠表面硬度的膜，必須要高的曝光量。此外，由于乙酰苯類引發(fā)劑具有升華性，所以近年來發(fā)現(xiàn)由于升華導致烘焙爐或曝光時的光掩模的污染等問題(例如，參照專利文獻3)。相對于此，開發(fā)出了一種特定的肟酯化合物，該化合物是低揮發(fā)性且高放射線靈敏度，可以作為即使含有大量著色顏料也可以形成固化膜的光引發(fā)劑，且具有至少兩個肟酯基(例如，參照專利文獻4)。然而，該肟酯化合物由于是用于形成著色的抗蝕膜的光引發(fā)劑，所以沒有考慮使用該光引發(fā)劑的固化膜的透明性。另外，認為上述肟酯化合物對放射線敏感性組合物的溶解性還不足，具有改良的余地。根據(jù)上述問題，希望開發(fā)出一種升華性低，作為光聚合引發(fā)劑使用時，顯示出高的放射線靈敏度，作為放射線敏感性組合物的光聚合引發(fā)劑使用時，可以得到具有高的透明性和表面硬度的固化膜，而且對放射線敏感性組合物的溶解性高的化合物。現(xiàn)有技術(shù)文獻專利文獻專利文獻1日本特開2001-233842號公報專利文獻2日本特開昭58-157805號公報專利文獻3日本特開2007-86565號公報
專利文獻4日本特表2009-519904號公報

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是基于上述問題提出的發(fā)明，其主要目的在于提供一種升華性低，作為光聚合引發(fā)劑使用時，具有高的放射線靈敏度，同時對放射線敏感性組合物的溶解性高的化合物。此外，本發(fā)明的其它目的是提供可以得到具有高的透明性和表面硬度的固化膜的放射線敏感性組合物。為了解決上述問題而提出的本發(fā)明是下述式(1)所示的化合物。
權(quán)利要求
1. 一種下述式(1)所示的化合物，
2.根據(jù)權(quán)利要求1所記載的化合物，其中上述R\R2、R3和R4各自獨立地是碳原子數(shù)為 1 8的烷基，上述R5是S02R6、P0 (R8) 2或者Si (R9) 3所示的基團，上述R6是氫原子的一部分或全部被乙酰氧基取代的碳原子數(shù)為2 6的烷基，上述R8是苯基，上述R9是碳原子數(shù)為 1 6的烷基。
3.一種放射線敏感性組合物，其包括[A]作為光聚合引發(fā)劑的權(quán)利要求1或2所記載的化合物，以及[B]具有乙烯基不飽和雙鍵的聚合性化合物。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所記載的放射線敏感性組合物，其進一步含有[C]堿可溶性樹脂。
5.由權(quán)利要求3或權(quán)利要求4所記載的放射線敏感性組合物形成的固化膜。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種新型化合物以及含有該化合物的放射線敏感性組合物。本發(fā)明的目的在于提供一種新化合物，該化合物的升華性低，作為光聚合引發(fā)劑使用時，具有高的放射線靈敏度，而且溶解性優(yōu)異；以及提供可以形成具有高的表面硬度和透明性的固化膜的放射線敏感性組合物。本發(fā)明的第一方案是下述式(1)所示的化合物。本發(fā)明的第二方案是一種放射線敏感性組合物，該放射線敏感性組合物包含[A]作為光聚合引發(fā)劑的上述化合物，以及[B]具有乙烯基不飽和雙鍵的聚合性化合物。上述放射線敏感性組合物優(yōu)選進一步含有[C]堿可溶性樹脂。
文檔編號C07D209/86GK102161638SQ20111003038
公開日2011年8月24日 申請日期2011年1月19日 優(yōu)先權(quán)日2010年2月5日
發(fā)明者一戶大吾, 巖澤晴生 申請人:Jsr株式會社