專利名稱：光致抗蝕劑組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光致抗蝕劑組合物。
背景技術(shù)：
用于采用光刻法的半導(dǎo)體微型制造的光致抗蝕劑組合物含有酸生成劑，該酸生成 劑包含通過輻照產(chǎn)生酸的化合物。US 2003/0194639A1公開了一種包含2，6_ 二異丙基苯胺或氫氧化四丁基銨的光 致抗蝕劑組合物。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種光致抗蝕劑組合物。本發(fā)明涉及下列內(nèi)容<1> 一種光致抗蝕劑組合物，其包含樹脂，酸生成劑和由式(Cl)表示的化合物
權(quán)利要求
1.一種光致抗蝕劑組合物，其包含樹脂，酸生成劑和由式(Cl)表示的化合物
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中Rc"是由式(2)表示的基團(tuán) -CH2-Rc6 (2)其中Re6表示具有一個(gè)或多個(gè)取代基的C6-C18芳族烴基，并且所述取代基中的至少一 個(gè)是吸電子基團(tuán)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述吸電子基團(tuán)是硝基。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光致抗蝕劑組合物，其中Rc"是硝基苯基。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中Rcl是由式(1-1)，(1-2)或(1-3) 表示的基團(tuán)
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述由式(Cl)表示的化合物是由式 (Cl-1-1)，(Cl-2-1)，(Cl-2-2)，(C1-2-3)或(C1-3-1)表示的化合物
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述樹脂在堿水溶液中不溶或難 溶，但是通過酸的作用變得在堿水溶液中可溶。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光致抗蝕劑組合物，其包含樹脂，酸生成劑和由式(C1)表示的化合物，在式(C1)中，Rc2表示可以具有一個(gè)或多個(gè)取代基的C7-C20芳烷基，并且Rc1表示由式(1)表示的基團(tuán)，在式(1)中，Rc3和Rc4各自獨(dú)立地表示氫原子或直鏈，支鏈或環(huán)狀C1-C12脂族烴基，Rc5表示C1-C30二價(jià)有機(jī)基團(tuán)，并且Rc3和Rc4或Rc5可以彼此結(jié)合以與Rc3和Rc4或Rc5結(jié)合的氮原子一起形成環(huán)。
文檔編號(hào)C08F222/14GK101995769SQ20101024739
公開日2011年3月30日 申請(qǐng)日期2010年8月5日 優(yōu)先權(quán)日2009年8月11日
發(fā)明者增山達(dá)郎, 畑光宏 申請(qǐng)人:住友化學(xué)株式會(huì)社